国际光学会议预告

一九九四年 1月23日—28日:国际光学工程学会将在美国加利福尼亚州洛杉机举办一九九四年国际生物医学光学专题短训班,展览会。 1月24日-28日:新西兰奥兰克大学将在新西兰罗托鲁阿举办第六届量子电子学年     

2000年国际GaAs制造技术会议简介

20 0 0年国际 Ga As制造技术会议 ( Ga As MANTECH)于 5月 1日至 4日在美国首都华盛顿召开 ,来自世界各地的约 30 0位代表参加了本届年会。代表人数较 1 999年增加了 5 0 % ,这反映了化合物半导体正越来越引起人们的关注。近些年来 ,由于通信技术的革命和信息高速公路的出现 ,化合物半导体呈现出日新月异的发展。在人类进入新千年之际 ,化合物半导体制造技术也将以新的姿态进入到新世纪。 4条新的 1 5 0 mm圆片生产线正在建设 ,异质结器件及其单片电路正进入批量生产。一些制造厂 ,投片量已达到每周 1 0 0 0片 ,预计今年化合物半导体…     

2000年国际信息显示会议 (2000''SID)一瞥

简单介绍２０００年的国际信息显示会议（２０００’ＳＩＤ）的一些情况。重点介绍有机电致发光显示器（ＯＬＥＤ）、微显示和胆甾相液晶显示器的发展近况、市场前景，及可能存在的问题。     

国际光学数据存储会议

应美国光学学会和 Xerox 公司的邀请,并通过斯坦福大学应用物理系主任 Byer 教授的具体安排和联系,我们于1983年1月赴美参加了国际光学数据会议,考察了 Ginzton 实验室、光谱物理公司、IBM、Xerox、Quanta——Ray 等公司的有关激光研究工作。光学数据存储专题讨论会于1月17日至20日在美国内华达州塔霍湖召开。会议由美国光学学会、美国真空学会、量子电子学和电器电子工程师应用学会、以及照相光学仪器工程师学会联合发起主办。电磁外部设备公司的陈迪博士担任会议主席。会议着重讨论光学数字数据存储器件、记录介质、应用技术等问题。美、日、荷、法、中等国一百多个单位将近300名代表参加这次讨论会,提出报告45篇,其中9篇为特邀报告。涉及的主要内容是:1.对磁存储技术和光存储技术的优缺点进行了比较,结合光盘的特点讨论了用光盘存储图象、文件、数字数据等大容量信息的可能应用及设想。     

国际光学与光电子学会议

2001年6月10日-13日 国际量子信息会议(ICQI)Rochester, New York. Sponsored by OSA andUniversity of Rochester     

1994年国际激光和电光学会议内容简介

１９９４年国际激光和电光学会议内容简介今年５月８～１３日在美国加州Ａｎａｈｅｉｍ举行了激光和电光学会议（ＣＬＥＯ）的９４年年会，会上提出的１千多篇论文，涉及广泛的光学相关课题．国际量子电子学会议与这届年会同时同地举行。在会议的技术展览会上有４Ｄ０多家...     

1988年IEEE国际微波会议动态

一、概况会议于1988午5月25—27日在美国纽约市举行。据传参加人数达7500人。有214篇论文,作者来自十多个国家与地区。我国出席会议的代表来自四所大学和二所研究所,被录用的学术报告有八篇。同时还举行了IEEE微波·毫米波单片集成电路学术会议有35篇报告。会议之前安排下列五个小组讨论会以及八个专题讨论会,专题讨论会题目如下:     

国际信息显示学会及2000年会议介绍

介绍国际信息显示学会的宗旨及组织情况，并介绍信息显示学会２０００年国际专题研讨、报告及展览会的一些概况。     

国际洁净会议动态

国际洁净室教育委员会（ICEB）会议 2010年9月3日在东京会展中心召开了国际污染控制学会联盟的国际洁净室教育委员会（ICEB）全体会议。8个成员组织,代表11个国家（荷兰、中国、日本、爱尔兰、法国、意大利、韩国、瑞典、挪威、芬兰、丹麦）,和来自美国、德国、巴西的3个观察员组织出席了会议。     

2000年第二届微波及毫米波技术国际会议

20 0 0年第二届微波及毫米波技术国际会议于 2 0 0 0年 9月 1 4日至 9月 1 6日在北京梅地亚宾馆举行。会议共收录论文 1 93篇 ,其中特邀报告 9篇 ,中国大陆 97篇 ,其余分别来自中国的香港和台湾、美国、俄罗斯、法国、英国、日本、德国、意大利、韩国、新加坡、荷兰、澳大利亚、瑞典、印度、苏格兰、西班牙、伊朗、南斯拉夫、乌克兰、捷克、土耳其、沙特阿拉伯。与会代表除来自各国的论文作者外 ,还有来自 IEEE总部和 IEEE地区活动委员会的官员及国外大公司的代表 ,代表人数多达近 30 0人。9月 1 4日上午举行了简短的开幕式 ,中国科学院…     

光学会议预告一九九四年

7月2日—4日:先进的光学,电光学和通信技术材料会议将在意大利佛罗伦萨举办。 7月12日—15日:第五届光电子技术会议将在日本千叶举办。     

2000年IEC会议预报

国2000年IEC会议预报     

国际光学工程协会奥兰多会议讨论自适应光学问题

自适应光学讨论会由国际光学工程协会发起，定于1986年3月31日至4月4日在美国佛罗里达州的奥兰多举行。     

2000年我部参加国际标准化会议及有关项目简况

2000年，我部电子口先后派出了21个团组约91人次参加了IEC、JTC1以及其他相关的国际标准化会议。其中包括全国信息技术标准化委员会在国内承办的3次国际标准化会议。此外，由中国电子技术标准化研究所组团和参加的标准化考察及培训等共29项。2000年我部参加国际标准化会议及有关项目简况     

国际会议电视发展动态

本文介绍了会议电视的标准进展，产品销售及公司开发动态，并指出国际上会议电视发展的几个特点。     

’2000ISSCC国际固体电路会议拾零

’2000ISSCC国际固体电路会议于2000年2月7日～9日在美国旧金山市举行,共发表学术论文176篇。所涉及的方面主要为:微处理器、信号处理器、接口电路、A-D转换器、通信用集成电路、存储器等。现将会议中引人注目的信息作一介绍。1美国SUN微系统公司开发的第3代RISC(精简指令)型64bit微处理器。工作频率600MHz,可同时下达4个指令,集成2300万个晶体管。采用0.18μmCMOS技术和7层金属布线工艺。芯片尺寸为370mm2,电源电压+1.8V,功耗80W。2加拿大NortelNetworks公司开发的10Gbit/s光通信应用的单片接收机。采用SiGe技术,集成AGC(autog…     

93年激光与电光学国际会议CLEO有关光通信简介

今年激光与电光学会议(联合量子电子学与激光科学会议)将于5月2日至7日在美国马里兰巴尔蒂摩会议中心举行。在五天会议中,CLEO将有787篇论文参加大会交流,其中大会报告2篇,邀请报告67篇,辅导报告4篇,分组报告414篇,张贴报告300篇。会议还有     

2000年国际昆明显微学会议(IKSM)在昆明召开

为庆祝中国电子显微镜学会成立二十周年 ,2 0 0 0年 7月 2～ 5日在昆明召开了国际昆明显微学会议 (IKSM)。由中国电镜学会主办 ,得到了国家自然科学基金委员会的资助 ,中国科协和中国科学院的支持 ,云南省电镜学会的协助。中国科学院物理研究所承担了会议秘书处的工作。会议由理事长李方华主持 ,国际电子显微学联合会 (IFSEM)主席 A.Howie致词 ,云南省电镜学会理事长胡宗高作为当地的主人讲了话 ,一百余人出席了会议 ,其中国外和境外学者及陪同共 40余人 ,我国学者 70余人。IFSEM主席 A.Howie(英国 )、IFSEM前主席桥本初次郎 (日…