电泳涂搪的方法及装置

本发明涉及用于钢铁坯件上进行电泳涂搪的方法及使之付诸实施的具体装置。 电泳涂搪应用中的缺点就是随着不断地涂搪操作,搪瓷釉浆里(悬浮物)的瓷釉粒子的利用性能越来越差,因为利用电泳原理沉积在坯胎上的瓷釉层的含水量要比搪瓷釉浆的含水量少。 另外一个缺点就是,在电泳涂搪操作中,瓷釉浆的导电性能也随之增大,导电性能增大的产生主要是在进行电泳涂搪时,不可能避免电解。搪瓷釉浆中的离子,根据自己所带电     

浸搪与流动涂搪工艺(二)

第三讲:浸搪与沥釉 浸搪时,坯件浸没在釉浆中,然后移置到一个支撑架上,让过量的釉浆从坯件上沥去。沥釉支架可以是十分简单的结构,如在固定浸槽顶上钉牢一个木制导轨,或制成一个多用途的夹持件,依靠单轨来输送。大批量浸搪操作,使用一个连续移动的输送带、携带着沥釉吊具,在浸槽上面运行。操作者把已浸搪过的坯件放上去,在输送带将坯件送到下一工序的过程中,过量的釉浆沥落到回收槽中。     

浸搪与流动涂搪工艺(四)

钳搪法主要用于中空制品,也用于复杂形状制品的涂搪。钳搪能使制品里外面涂覆完整。许多造型不宜用浸搪淋釉法施搪的却可用钳搪法来完成,钳搪比传统的浸搪更能去除多余的釉浆。 钳搪程序的一般规定为: (1)使底部甩去多余的釉浆均匀地移向身部;     

搪玻璃釉浆的涂搪性能

由于瓷釉特殊的化学组成,搪玻璃釉浆的涂搪工艺性能较为难于控制。本文较系统地对影响釉浆流变性的诸因素进行了一些分析。提出生产实践中选择制浆工艺的一般原则,提出釉浆的研磨细度、研磨温度,陈化时间的控制条件。认为釉浆的球磨添加物应根据瓷釉的性质,工艺条件的变化来进行选择。本文试图对釉浆涂搪性能的调控作一些规律性的探讨。此外也就釉浆性质对烧成工艺和瓷面质量的影响作了一些简单介绍。     

搪玻璃釉浆的涂搪性能

由于瓷釉特殊的化学组成，搪玻璃釉浆的涂搪工艺性能较为难于控制。本文较系统地对影响釉浆流变性的诸因素进行了一些分析。提出生产实践中选择制浆工艺的一般原则，提出釉浆的研磨细度、研磨温度，陈化时间的控制条件。认为釉浆的球磨添加物应根据瓷釉的性质，工艺条件的变化来进行选择。本文试图对釉浆 搪性能的调控作一些规律性的探讨。此外也就釉浆性质对烧成工艺和瓷面质量的影响作了一些简单介绍。     

国外烧锅涂搪机简况及涂搪机在我国的应用探讨

根据烧锅生产工艺,国外的烧锅涂搪机有底釉涂搪机和面釉涂搪机。1981年第十二届国际搪瓷年会上,意大利SPA公司向大会介绍了MG-O底釉涂搪机和MF-1面釉涂搪机。此外,联邦德国的全自动面釉涂搪机,日本的离心式流淌机,也为先进的烧锅涂搪设备。 1.MG-O底釉涂搪机 该涂搪机(图1)可对坯件内外进行涂覆,并对烧锅周边加以清     

电泳涂搪的装置及方法

本发明涉及关于在装有电极的液槽里进行金属坯件电泳涂搪的方法和装置。 已经存在这些方法和装置,即把带阴电的电极固定在隔开的阴极部位,并在它的上方,约高度1/3的地方开设一个供水排出的溢流口。 隔开的阴极部位内盛有弱的电解液。当阴极和阳极之间通上电流时,釉浆里的阳离子随着多余的水渗透到阴极处,从溢流口流走。因此,釉浆中瓷釉粒子的比例和釉浆的导电性就能得到控制。 这个装置的使用效果令人感到满意,但不足之处就是隔开阴极部位以及溢水装置的价格相对来说比较昂贵。此外,当过滤膜一损坏,电解液就从阴极处流到电泳槽里。 还有其它浸入电解液中使其渗透到隔开的阴极部位内而进行涂搪的方法和设备。 在另一已知涂搪装置中,透过过滤膜的液体,被唧简吸入并送入补助装置中,该液体和补充料拌匀后又重新加进电泳槽。从涂复的情况来看,这种回收稀释溶液的方法还是可行的。 电泳涂搪时,以水作为悬浮剂。另外,在电泳涂搪中,釉浆的导电性不断增加。釉浆导     

浸搪与流动涂搪工艺(一)

我国搪瓷工业虽已有近七十年的历史,但就产品的结构来说大多局限于中小件的中空制品,基本上仍然处于四五十年代水平,而且这种传统产品的数量占整个搪瓷制品比重的90％左右,许多新的领域我们尚未开拓。涂搪工艺几十年来仍以手工浸搪为主,工艺演变进展缓慢,尤其是对瓷釉浆的碾磨、调配和磨加物的性能及对釉浆的控制,更缺乏系统深入的研究和科学的操作管理,而这些又必须建立在正规生产实践基础上才能巩固。     

搪加物选用初探

1 前言 搪瓷制品在其生产过程中要经过许多道工序(包括制粉)。其中最主要的工序就是将釉浆均匀地涂搪在金属坯体表面,然后烘干,经高温烧成后成为一种抗腐蚀、耐高温、耐磨、绝缘、表面光滑清洁的复合材料,即搪瓷制品。而搪瓷制品的实用价值在很大程度上由瓷釉决定,在此意义上制釉创造了使用价值。釉浆的制成过程是个复杂的物     

涂搪用釉粉及其静电沉积法

本发明是关于涂搪用釉粉及其如搪瓷的沉积法。在涂搪过程中,釉粉颗粒中至少部分是玻璃质的或釉块的被沉积在坯件上,然后通过加热熔化形成一层瓷层。更确切地说,本发明是关于适合于以干粉末静电沉积的涂搪用釉粉。     

悬浮剂对釉浆涂搪性能的影响

用电子显微镜和光学显微镜观察了搪瓷釉浆的显微形貌,探讨了悬浮剂对涂搪性能的影响。     

静电干粉涂搪用粉

1 概述 静电干粉(也叫静电粉末)涂搪是二十世纪七十年代到八十年代发展起来的一种新型涂搪工艺,它象征着搪瓷工业的技术进步,代表着搪瓷工业的发展方向。静电干粉涂搪的优点是: (1)节省工序,节省能源,无需干燥。 (2)可实现两搪一烧工艺即(底釉面釉分次喷搪、一次烧成)。 (3)资源利用率高,粉末通过回收,利用率可高达98％以上。     

钢质坯件电泳涂搪的方法

本发明是关于在铁类材料,特别是在钢质坯件上进行电泳涂搪的方法。 人们知道,钢质坯件电泳涂搪方法的缺点就是涂搪制品得不到完善的白色,这主要是由于涂搪坯件正极极化引起了镍和铁的氧化。氧化作用造成了瓷釉变色。另外,由于氧化作用,电泳槽里的釉浆经多次坯件涂搪后,颜色起了变化,出现了棕褐色或黄颜色。另一个缺点就是失去了密着反应中为搪瓷密着所需要的一部分镍。 为此,本发明提出一种改进的涂搪工艺,它能避免刚才提到的种种缺点。 按照发明,铁质坯件,特别是钢质坯件,在一些预处理,如:脱脂、酸洗、镀镍或类似处理后,在电泳涂搪前,可镀上一层锌,这方法中,人们还能用其它蒸发温度高于瓷釉硬化温度的金属来代替锌。所以,使用氧化物为白色或近似白色的金属物是有益的。     

一次搪耐酸瓷釉的研制

烟气脱硫脱硝所用的搪瓷换热元件必须具有较强的耐酸性和良好的导热性,因此一次搪耐酸瓷釉是首选。一次搪是将由瓷釉和磨加物制成的釉浆直接涂覆在脱脂处理后的金属表面,经干燥、烧成后得到既有底釉功能又有面釉功能的搪瓷涂层。论述了所研制的3种不同料性的一次搪耐酸瓷釉的理论依据,介绍了试验过程及测试结果。     

涂搪空心容器内部表面的工艺

一种涂搪空心器内部表面的工艺，该容器的对应点上有两个开口，在待搪的热水箱上，这些开口设在两端。一个开口与真空泵相连，而另一个则与一条装有阀门并通向釉浆罐的管子相连，首先，开动真空泵，预排出空心容器内部的空气，进而使空气从空心容器内部表面的微孔排出，在这一步骤中，釉浆输送管上的阀门仍保持关闭状态，当容器预排气确实达到大约４０－８０乇时，打开阀门，釉浆便急速流进空心容器，当继续抽空时，釉浆填满微孔，随     

涂搪空心容器内部表面的工艺

一种涂搪空心容器内部表面的工艺。该容器的对应点上有两个开口,在待搪的热水箱上,这些开口设在两端。一个开口与真空泵相连,而另一个则与一条装有阀门并通向釉浆罐的管子相连。首先,开动真空泵,预排出空心容器内部的空气,进而使空气从空心容器內部表面的微孔排出。在这一步骤中,釉浆输送管上的阀门仍保持关闭状态。当容器预排气确实达到大约40—80乇时,打开阀门,釉浆便急速流进空心容器,当继续抽空时,釉浆填满微孔,随着空心容器的不断抽空,釉浆便不断地被吸入,直至从开口冒出。     

搪烧底釉产品阴圈缺陷的探讨

搪烧底釉产品阴圈缺陷的探讨成圣国（镇江搪瓷厂２１２００３）一、前言本文以我厂生产中出现在底釉产品上阴圈缺陷进行初步探讨。所谓阴圈，就是搪瓷产品在底釉涂搪烧成后呈现的一种１～２ｍｍ阴云圆圈，周围呈白云状，中间呈黑色颗粒状凸凹焦点，这种缺陷给面釉生产带来...     

浅析搪瓷釉浆的基础概念和性能(续)

5 影响釉浆流变性参数的因素 涂搪是搪瓷生产工艺中重要的工序,釉浆的流变性能如何是影响这一工序的主要因素。由于釉浆的流变性能不稳定,常使工艺改革难以进行,搪烧后的产品质量不佳都会出现。为保证釉浆流变性能符合涂搪要求,必须围绕工艺参数,电解质剂最、釉浆pH值、容重、粗细度、老化时间以及釉块的生熟程度等这些对流变性能主要参数;粘度、屈服值、流动极限、触变性等有影响的工艺参数简单地分析讨论。     

淋搪新工艺的研讨

随着国民经济的飞速发展,各行业间的竞争日益强烈,搪瓷行业的手工操作远远不能与现代工业的发展相适应。为了适应市场需求,大幅度提高壶类、烧锅类等中空产品的生产能力,我们借鉴国外的先进经验进行了淋搪新工艺的研究。 淋搪工艺是直接将坏体浸入釉浆滚面以下,然后取出坯体淋搪片刻后,放上拖边机揩边,最后烘干、烧成的一种新工艺。该工艺与手工涂搪相比,不需要搪钳等工具,也     

烤箱湿法喷搪与静电干法喷搪工艺研究

湿法喷搪工艺与静电干法喷搪工艺同属以釉粉在金属坯体表面进行涂覆的搪瓷工艺,但其工艺原理、工艺流程不同,因此对工艺的要求也不同,使得湿法喷搪与静电干法喷搪制品呈现出不同的性能.本文通过归纳对比湿法喷搪与静电干法喷搪工艺特点、搪瓷制品的物理化学性能,分析烤箱的两种生产工艺的区别,及传统搪瓷工艺与新兴搪瓷工艺的优势和劣势,并瞻望搪瓷烤箱涂搪工艺的未来发展方向.