丁撑吲哚方酸双半菁染料的合成

以苯肼、3-甲基-2-丁酮和1,4-二溴丁烷为初始原料,以双季铵盐为中间体,最终合成了目标产物丁撑方酸吲哚双半菁染料,并用正相层析柱对产物进行分离提纯,最后用核磁共振氢谱对产物结构进行了表征。     

方酸菁类功能染料及其应用

方酸与供电子基团,如芳胺、酚含氮杂环化合物等发生缩合反应,可生成一系列吸收波长在近红外区的方酸菁染料。这类染料具有特殊的光学性能。良好的光、热稳定性。因此,被作为功能广泛应用,本文对这类化合物的合成方法,结构及光谱性能,应用等方面进行了综述。     

四碳连接臂水溶性吲哚方酸双菁染料的合成及性能

以苯肼和对肼基苯磺酸为原料合成了一种水溶性对称吲哚方酸双菁染料。最终染料用C-18反相柱进行分离提纯,通过核磁共振氢谱对染料结构进行了表征,测试其在不同溶剂中的紫外-可见吸收和荧光发射光谱。结果发现所合成双菁染料的吸收和发射光谱范围以及Stokes位移、摩尔消光系数与单菁染料相比没有大的变化,荧光量子产率小于单菁染料。     

菁染料和份菁染料的合成及其溶液的光稳定性研究

利用UV－Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料的光降解动力学,研究结果表明,染料在乙腈溶液中的光褪色反应遵循假一级或零级动力学衰减,与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性。     

生物标示用3H—吲哚菁染料

随着生物技术和荧光标示技术的飞速发展，3H0吲哚菁染料已成为在DNA，蛋白质及核酸等分析检测中使用的主要荧光探针。其中代表性化合物Cy3.、Cy5.作为新一代商品化荧光标示剂在生物芯片、分子信标等方面得到了重要应用。本文综述了该类碳菁染料在生物领域中取得的重大应用进展，并探讨了其结构与性能之间的关系。     

一种新型方酸菁近红外吸收染料的合成研究

以氯苯为起始原料合成了1-苯基-3-甲基-6-硝基-1,4-喹噼啉-2-酮,并用该化合物与方酸发 生缩合反应,得到了一种新型方酸菁类近红外吸收染料。该染料的氯仿溶液在736nm和817nm波长处有较 强的吸收,其吸光系数分别为1.27×10.5.mol-1.cm-1、3.65×104 mol-1 cm-1     

几种方酸菁染料的NMR及光谱特性研究

研究了几种方酸菁染料的核磁，可见，荧光光谱，通过二维核磁共振谱和＾１３ＣＮＭＲ确定了分子的结构和构型，测定了其在不同溶剂中吸收光谱和荧光发射光谱及其发射的荧光量子产率，发现它具有微弱的正向溶致变色特性，通过光谱特征分析得出整个分子处于平面结构并形成一个长的共轭体系，其激发态和基态的结构相近的结论，同时，讨论了结构分子对电荷分布及相应荧光光谱特征的影响。     

新型吡喃Weng方酸菁染料溶剂效应,聚集行为研究

本文研究了五个吡喃Ｗｅｎｇ方酸菁染料的溶剂效应,发现最大吸收峰波数ｖ与函数ｆ（ｎ,ε）存在较好的线性关系,而Ｂａｙｌｉｓｓ函数项（ｎ＾２－１）／（２ｎ＾２＋１）决定了吸收光谱的位移变化Δｖ,同时还分析了氢键相互作用对理论函数模型的误差。根据染料的聚集动力学证实了染料在正丙醇／水（４：２１,体积比）体系中确有二聚体的产生,并发现了两线不同的聚集特性。此外,使用ＡＰＣＩ－ＭＳ质谱技术证实Ｄｙｅ ３二氯     

菁染料薄膜的光谱性能及稳定性的研究

本文研究了６种长链菁染料薄膜的光谱特性与光稳定性，以及两种抗氧剂对其薄膜光稳定性的影响，研究表明，结构相近的菁染料利用旋涂法成膜后，光稳定性与其母核的结构有关，依吲哚〉喹啉〉恶唑〉塞唑〉硒唑而变，与溶液状态相类似，两种抗氧剂均为有效的单重态氧猝灭剂，都能提高菁染料的光稳定性。     

氰苄基方酸菁染料的合成及光谱性能

以2,3,3-三甲基-3H-吲哚为原料,合成了N-氰基取代吲哚啉季铵盐。采用一步法将方酸与吲哚啉季铵盐缩合制得对称氰苄基方酸菁染料,采用重结晶法对合成染料进行分离提纯,利用核磁共振氢谱、红外光谱、质谱等对染料进行了结构表征。考了查染料的光谱性能。     

近红外吲哚碳菁染料及应用

近红外甲川链吲哚碳菁染料以其特有的结构,而具有多种功能和用途,已成为在光盘、太阳能电池、照相感光、生物分析等方面应用最为的染料品种之一。探讨了2,3,3－三甲基－3H－吲哚甲川链类菁染料的结构、合成及性能等,综述了其在上述领域中取得的重大应用进展,提出了其中所存在的问题。     

菁染料和份菁染料溶液的光降解机理的研究

利用UV－Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料溶液的光降解动力学,认为染料在乙腈溶液中的光褪色反应服从假一级或零级动力学,利用GC／MS光谱仪检测了染料的光降解产物,与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性,研究结果表明,菁染料光降解反应的中间体可能是染料的半氧化态Dye^ ,并利用纳秒级闪光光解技术研究了Dye^ 的瞬态吸收光谱。     

新型不对称吡喃Weng方酸菁染料的晶体结构

通过缓慢挥发溶剂法得到一种不对称吡喃Ｗｅｎｇ方酸菁染料的单晶,测定了其晶体结构。其晶系为三斜晶系,空间群为Ｐ１,ａ＝０．９２２８（４）,ｂ＝１．４１２２（６）,ｃ＝０．６１２４（３）ｎｍ,α＝９３．９７（４）,β＝９８．１４（５）,γ＝７１．０５（４）,Ｖ＝０．７４７０（６）ｎｍ＾３,Ｚ＝１。用晶体结构数据解释了此不对称染料的＾１Ｈ－ＮＭＲ谱。     

6-溴喹哪啶方酸菁染料的合成与表征

以对溴苯胺、巴豆醛和方酸等为原料,通过改进的Skraup-Doebner-VonMiller反应、成盐、缩合等三步反应,合成了一种方酸菁功能单体,其结构与性能利用FTIR,~1H NMR,UV及TG进行了表征。结果表明,这种溴代方酸菁在近红外区有较强的吸收以及良好的热稳定,可以应用于染料敏化太阳能电池等领域。     

菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

利用UV－Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学。与相应的份菁染料相比，携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性。运用量子化学中的SCF－MO－PM3方法，全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构，并解释了染料的光稳定性与其分子结构的关系。     

感半导体激光菁染料稳定性的研究

菁染料因其具有容易合成、价格便宜、光学特性好等优点,在感光胶片中已大量应用,在有机光盘中也越来越受到人们的重视。但是,由于长链的菁染料在光照下极易发生光氧化还原反应,稳定性较差,因此研究和解决菁染料的光稳定性对其在激光照排材料和有机光盘中的应用都具有非常重要的意义。 本文通过紫外-可见吸收光谱、荧光光谱、气相色谱、顺磁共振、激光喇曼光谱等方法,比较系统地研究了感半导体激光光源(650—780nm)的具有吲哚、喹啉、噻唑、恶唑