镍的金属有机化学气相沉积

介绍了用MOCVD技术沉积镍膜的应用状况，以及几种典型前驱体的沉积性能，着重介绍了羰基镍的沉积特性。结合MOCVD技术的最新进展，对镍的化学气相沉积技术了简要的展望。     

新型离子束增强沉积技术

离子束增强沉积技术是近年在离子注入技术基础上发展的新型材料表面改性技术，本文简要介绍多功能离子束增强沉积设备和应用技术研究，设备具有金属离子注入、气体离子注入、离子束增强沉积、磁控溅射沉积功能，进行材料表面改性和制备各种材料薄膜科学研究。     

Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体电化学原子层外延

介绍一种外延沉积化合物半导体材料的新方法──电化学原子层外延技术，它将电化学沉积技术与原子层外延技术结合起来，通过运用欠电势技术交替电化学沉积化合物的组成元素一次一个单原子层而实现外延生长。从而使外延技术具有电沉积简单与低成本的优点。欠电势沉积是电化学原子层外延的关键，它是化合物形成过程中放出自由能的结果。并研究了Si-Au多晶衬底上沉积CdTe的电化学原子层外延，给出了初步实验结果。     

Ⅱ—Ⅵ族化合物半导体电化学原子层外延

介绍了一种外延沉积化合物半导体材料的新方法－电化学原子层外延技术，它将电化学沉积技术与原子层外延技术结合起来，通过运用欠电热技术交替电化学沉积化合物的组成元素一次一个单原子层而实现外延生长。从而使外延技术具有电沉积简单与低成本的优点。     

ZnO薄膜生长技术的最新研究进展

ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅳ族半导体材料，目前已研究了开发了许多ZnO薄膜的生长技术，其中，磁控溅射，喷雾热分解，分子束外延，激光脉冲沉积，金属有机物化学气相外延等沉积技术得到了有效应用；而一些新的工艺方法，如溶胶－凝胶，原子层外延，化学浴沉积，离子吸附成膜，离子束辅助沉积，薄膜氧化等也进行了深入研究，详细阐述了ZnO薄膜生长技术的最新研究进展。     

阴极电弧沉积技术及其发展

本文分析了阴极电弧等离子沉积技术，以及有关的机理和应用，与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较，特别强调了重要的技术方面和最近的发展。     

脉冲激光沉积（PLD）薄膜技术的研究现状与展望

综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的研究现状，并按照研究方向将整个研究领域分为三个部分：PLD法沉积薄膜的机理，PLD的工艺研究以及PLD法沉积的主要薄膜材料，分别进行了阐述，对相关的研究工作提出了建议，并对PLD技术的应用前景做了展望。     

电沉积Fe—Ni—P合金的磁性研究

通过对电沉积Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ合金磁性的测定，获得了合金成分以及电沉积工艺对其技术磁性的影响规律。研究结果表明，合金中Ｐ，Ｆｅ含量，电沉积镀液ｐＨ值和电流密度对Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ非晶合金的技术磁性均有很大影响。     

多层喷射沉积铝/钢双金属板材的研究

采用多层喷射沉积技术制备铝／钢双金属板，分析了其中对双金属板界面结合产生影响的因素。结果表明多层喷射沉积技术在制备双金属板材方面有工艺设备简单，结合强度高等特点。其中在沉积前应对沉积的基板进行预热，预热的温度是双金属结合的关键。另外适当地热轧也能提高铝／钢双金属的界面结合强度。     

脉冲激光气相沉积技术现状与进展

介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状，着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况。大量研究表明，脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一。     

雾化喷射沉积技术的发展概况及展望

雾化喷射沉积技术是一种新的金属成形工艺，近年来发展十分迅速。本文从实验装置、传热特点、临界沉积条件、沉积材料的组织和性能及主要工业化产品等方面对该工艺进行了综述。并对雾化喷射沉积技术作了评价和展望     

原子层沉积技术及其在铁电薄膜制备中的应用

讲述原子层沉积技术原理与特点的同时，进一步论述了它在沉积机理和实验真空度这两方面与传统薄膜沉积工艺的异同；综述了此技术在铁电薄膜制备研究方面的最新进展，前驱体的制备与选择、薄膜缺陷的控制以及表面化学反应动力学依然是当前原子层制备铁电薄膜研究的重点；最后展望了原子层沉积技术制备铁电薄膜的发展方向。     

射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术

介绍了射频电感耦合等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术的原理、实验性能。并用该技术在Si基片上沉积了Cu膜，研究了所成膜的结构、表面形貌及膜成分等，分析结果表明在该条件下沉积的Cu膜致密，晶粒尺度大约在100～1000nm，膜基界面比较紧密，没有明显的空洞，并且膜呈（111）织构。最后简要介绍了该技术应用的前景。     

静电粉末喷涂技术的研究与应用

试验研究静电粉末喷涂技术中影响沉积效率的主要因素，解决了快速换色的工艺方法。结果表明，尽管影响沉积效率的因素很多，但只要选择最佳的工艺参数和技术条件，就能获得满意的效果。     

雾化喷射沉积技术的发展概况及展望

雾化喷射沉积技术是一种新的金属成形工艺，近年来发展十分迅速，本文从实验装置、传热特点、临界沉积条件、沉积材料的组织和性能及主要工业化产品等方面对该工艺进行了综述。并对雾化喷射沉积作了评价和展望。     

IAD技术在钼酸铅晶体表面镀膜中的应用

讨论了离子束辅助沉积技术在真空沉积过程中的应用原理。通过与常规的热蒸发工艺镀制的膜层相比较，证实了离子束辅助沉积技术有助于提高钼酸铅晶体表面红外增透膜的膜层品质及中心波长位置的精确度。     

含Fe聚合物混合薄膜的制备

采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积技术（ＰＥＭＯＣＶＤ）制备含Ｆｅ聚合物混合薄膜，系统考查了偏压，源物加工热电压，沉积位置对膜沉积的影响，对膜的组成和结构进行了研究。     

喷射沉积快速凝固材料的研究及应用概况

喷射沉积是一种新型的快速凝固技术，近年来广泛应用于研究和开发多种高性能愉速凝固材料。简要介绍了喷射沉积技术的基本原理和特点，对其在快速凝固材料中的应用进行了综述。     

浅析离子辅助光学薄膜镀膜机的特性

真空镀膜产品的质量问题，一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索，采用离子束辅助沉积镀膜技术，改善了镀膜层牢固性，提高了反射率。本技术在通讯技术、太阳能应用、汽车、装潢等领域应用十分广泛。本文介绍了真空离子束辅助沉积镀膜设备特性。     

电沉积功能陶瓷技术

本文评述了电沉积功能陶瓷技术的原理，以及该技术在制备超导陶瓷、生物活性陶瓷和铁电陶瓷等方面的应用，讨论了电沉积过程中一些主要实验条件对陶瓷镀层性能的影响。