基于神经网络方法预测薄膜的厚度

首次利用前馈三层神经网络模型,建立了场发射薄膜的膜厚的神经网络预测模型,用金刚石薄膜的膜厚数据进行验证.结果表明,该模型预测的相对误差小于6.1％.     

RBF神经网络在薄膜厚度控制系统中的应用

针对双向拉伸薄膜厚度控制系统中,经典的PID控制器难以达到理想控制效果的问题,设计一个基于RBF神经网络整定的PID控制器。该控制器由RBF网络对系统进行在线辨识,找到最佳控制参数,并将其反馈给PID控制器,从而实现控制器参数的在线调整。仿真结果表明,本控制器具有超调量小,响应速度快和自适应性强等优点,可有效提高双向拉伸薄膜厚度控制系统的性能。     

薄膜SOI结构中反型层厚度与薄膜厚度的关系

本文从理论上分析了薄膜SOI结构中反型层厚度与薄膜厚度的关系。为设计薄膜MOS/SOI器件引进了一个新的参数──薄膜整体反型临界厚度。分析认为,为使超薄膜MOS/SOI器件高速和高功率工作,有必要使薄膜厚度接近整体强反型临界厚度。     

测量聚合物薄膜厚度的一种简便方法

本文介绍了用准波导耦合ｍ线技术测量聚合物薄膜厚度的方法。测量结果表明，薄膜样品厚度的误差为３．６２×１０＾－２μｍ。并对测量精度作了分析和讨论。     

薄膜厚度的电子探针测定

由于电子束的穿透本领很低,在使用较低的加速电压时更是如此,因此用电子探针测定薄膜厚度是很灵敏的。据估计,对重金属膜可测出nm量级的差别。关于电子探针测量有衬底薄膜厚度已有不少的文献报导,在此基础上,本文采用改变加速电压的方法,测量了不同衬底上,不同厚度铝薄膜的X射线归一化强度,画出归一化强度和加速电压的关系曲线,得出归一化强度恰等于1的电压值E_d,然后选择X射线激发深度公式,计算出薄膜的质量厚度。并将此结果与化学分析法,重量法等的试验结果,以及Monte Carlo模拟计算值加以比较,结果说明:电子探针测定有衬薄膜厚度是一种简易可行,又有着一定准确度的方法。     

薄膜厚度的EDS测量

薄膜厚度的ＥＤＳ测量赵家政徐洮（中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放实验室，兰州７３００００）在电镀膜、真空蒸发膜、表面处理膜、溅射膜、润滑转移膜等的扫描电子显微分析中，除观察其表面形貌外，还希望同时测得薄膜的厚度。薄膜厚度的测量，尽管有光学法［...     

薄膜厚度测量技术

随着各种表面沉积技术(PVD、CVD)日益广泛地应用于微电子、光学及超导薄膜沉积等微细加工领域,膜厚在10—10~2nm范围内的薄膜厚度测量技术也不断得到发展。本文系统地描述了各种测量技术的原理、属性及测量方法,并对其测量精度及适用范围进行了比较。     

用红外热成像系统测量薄膜厚度的方法

薄膜涂层通常是用来保护表面或增强表面功能的。为了提高涂层的经济效益,涂层的厚度有变小的趋势。随着厚度的变薄,涂层厚度的均匀性就变得越来越重要了,因此就需要对涂层进行测量。     

基于神经网络的产品质量预测方法

绿色可持续发展政策下,为了节能减排,节约不可再生的矿物资源以及加工所需的能源,需要提高矿石加工质量。文章主要分析在矿石加工过程中,保持其他环境变量不变,矿石质量和温度控制对矿石产品质量的影响,并进行产品质量指标的预测,以及给定指标,对温度进行设定,最后进行模型推广。对于文中的问题1,选择通过给定的生产加工数据,建立相应数学模型以研究系统温度对产品质量的影响,进而给出用系统温度预测产品质量的方法。首先建立一个系统温度之间的数学模型Ⅰ,以观测两者可能存在的潜在关系;其次建立一个系统温度与指标的模型Ⅱ,对结果进行预测,同时用神经网络预测法进行预测并将结果进行比较;最后得出指标数值。对于文中的问题2,首先在建立模型前用多元线性回归分析,再用神经网络预测,得到原数据的预测值,通过比对原数据与预测数据得到预测方法的准确性;再由所确定的预测方法得到系统所需参数,得出系统设定的温度。     

基于人工神经网络激光烧蚀制备PDPhSM基纳米复合薄膜聚合效率的预测

为有效缩短脉冲激光烧蚀制备有机硅聚合物聚二苯基硅亚甲基硅烷(PDPhSM)基纳米复合薄膜工艺中繁琐的实验过程,分别采用多层前馈(BP)神经网络和径向基函数(RBF)神经网络对PDPhSM基纳米复合薄膜的制备工艺与聚合效率之间的关系进行建模,并将其运用到聚合效率的预测中去,讨论了激光能量密度、环境压强、靶衬距离、沉积时间和聚合效率之间的关系。克服了以往单因素实验法不能正确反映制备工艺和聚合效率之间复杂的非线性关系的弱点。预测和验证结果均表明实验值和网络预测值之间相对误差都在10%以内,但径向基函数神经网络较多层前馈神经网络能够更精确、更可靠地逼近它们之间的非线性关系。该方法为有效、快捷、经济地开发研制PDPhSM基纳米复合薄膜提供了新的思路和有效手段。     

有源层厚度对CuPc-OTFT器件性能的影响

研究了不同厚度有源层的顶电极CuPc-OTFT器件的电学特性。发现器件的性能与有源层厚度有依赖关系，其中，有源层厚度为20nm的器件性能最好。在有源层厚度大于20nm时，有源层厚度的增大不但分去一部分栅电压而且还增大了源、漏电极的接触电阻，从而不利于器件性能的提高。但当有源层厚度小于20nm以后器件的性能开始降低。我们认为当有源层厚度降低到一定程度时，有源层上表面的表面态会使有机材料的隙态浓度增加从而对沟道载流子迁移率产生不良影响以及使器件的阈值电压增大。     

薄膜表面不平度对厚度测试准确度影响的研究

在用反射干涉频谱法(Rifs)测量薄膜厚度的过程中,使用"Y"型光纤作为传光的媒介,光纤测试端发射出的光照射到薄膜上,反射光又回到了该光纤中.对反射光进行频谱分析可以计算出薄膜测试处的厚度.由于是光学非接触式测量,而光束又有发散性,所以薄膜的表面不平度以及光纤相对于薄膜的位置直接影响测试的准确度.对该现象的研究表明:为提高测试准确度,必须尽量减少光纤的有效照射面积,以及保证薄膜基底的光滑,给出了具体方法.为保证薄膜上的反射光束能够回到光纤内部而不丢失厚度信息,给出了薄膜微观倾斜的极限角度.给出了光纤测试薄膜中"平均厚度"和"有效照射面积"的构想.     

一种适用于在线检测的纳米薄膜厚度精确测量方法

提出了一种新的薄膜厚度测量方法.该方法以镀有一层厚度足以引起干涉的过渡层为衬底,通过测量镀膜前后透（反）射谱的变化,即可实现薄膜厚度的精确测量.由于过渡层的厚度已经引起干涉,新镀上去的待测薄膜即使很薄,也会引起干涉的变化.通过镀制待测薄膜前后透（反）射谱干涉的变化,可以很容易地精确测量出待测薄膜的厚度,其测量极限高达1...     

薄膜厚度对钛酸钡类薄膜传感器敏感特性的影响

利用氩离子束溅射技术,分别在SiO2/Si衬底上淀积了0.5 mm、1 mm和2 mm的Ba1-xLaxNbyTi1–yO3薄膜,并探讨了薄膜厚度对MIS电容湿敏特性的影响以及薄膜厚度对薄膜电阻的光敏和热敏特性的影响。实验结果表明:0.5 mm膜厚的MIS电容传感器具有比2 mm膜厚的MIS电容传感器高9倍的湿敏灵敏度。用孔隙率和孔径分布物理模型分析得出,薄膜越薄,膜的孔隙率越高,器件的湿敏灵敏度越高。反之,薄膜越厚,光吸收越强,薄膜电阻的光敏灵敏度越高;但薄膜厚度对薄膜电阻热敏特性的影响甚微,敏感机理与薄膜的微观结构可解释这些现象。     

光纤测厚中光谱"双峰"现象的分析

在用反射干涉频谱法(Rifs)测量薄膜厚度的过程中,薄膜的反射光谱经常见到"双峰"现象,即相邻的波峰(或波谷)连在一起,区别于通常按吸收曲线有规律分布的光谱.对该现象进行了深入研究,结果表明:该现象和被测试处薄膜厚度不均匀有关,当厚度差异较大时,入射光在薄膜的不同厚度点发生反射,各点的反射干涉光谱叠加就会产生"双峰"的结果.对基本厚度为2 000 nm的聚苯乙烯薄膜的仿真结果表明:膜厚差异超过1/10,开始出现双峰.研究还表明,"双峰"现象并不影响厚度计算的准确度.     

薄膜晶体管研究进展

薄膜晶体管是液晶显示器的关键器件，对显示器件的工作性能具有十分重要的作用。本文论述了薄膜晶体管的发展历史，描述了薄膜晶体管的工作原理，分析了非晶硅薄膜晶体管、多晶硅薄膜晶体管、有机薄膜晶体管、ZnO活性层薄膜晶体管的性能结构特点与最新进展，并展望了薄膜晶体管的应用。