浅谈抛料机抛程的理论计算

本文通过重碱抛程现场实测结果和重碱经抛料机的理论抛程公式计算及其分析，从动力学的角度详细说明了抛料机在生产实践中实际抛程的准确计算公式及其过程，以供读者参考。     

浅谈抛料机抛程的理论计算

本文通过对重碱抛料机抛程的现场实测结果及理论抛程公式计算结果分析，从动力学的角度详细说明了抛料机在生产实践中实际抛程的准确计算公式，以供读者参考     

抛光砖抛磨废料的综合利用

近年来,随着抛光砖的发展,抛光砖的抛磨废料已严重污染周边环境,成为困扰抛光砖生产的重大难题。本文分析了抛光砖抛磨废料的来源与组成,探讨了目前国内外抛光砖抛磨废料的综合利用现状,并对抛光砖抛磨废料的利用提出了新的展望。     

墙地砖用抛坯机及其应用前景

本文介绍了抛坯机的结构组成、工作原理、优点和使用中应注意的问题，并揭示了该产品广阔的应用前景。     

全抛釉气泡影响因素的研究

针对目前建陶行业全抛釉气泡存在的难题,本文采用单因素实验法研究了全抛釉气泡的主要影响因素及其规律,揭示了坯体、底釉以及全抛釉的相关性能与气泡的关系。结果表明：全抛釉始熔点应与坯体的烧结性能以及底釉的融熔特性相匹配,严格控制全抛釉的高温黏度及表面张力有利于控制抛釉层中的气泡的数量和尺寸。全抛釉中形成一定量的晶体对气泡的控制和稳定有促进作用。     

建筑陶瓷厚抛釉的制备

以钾钠长石和石英等矿物为主要原料,采用正交试验对面釉的配方组成进行研究,并探究和分析了厚抛釉中面釉和抛釉结合情况。利用白度测试仪,扫描电镜和热膨胀系数测试仪等测试手段对坯釉性能进行表征,实验结果表明,当面釉配方为:钾长石23,石英15,高岭土5,硅酸锆18,烧氧化锌3,滑石28,碳酸钡3,方解石12;获得了釉面效果良好的厚抛釉,其白度达到69.5%,光泽度达到66.9%,硬度达到维氏硬度348 HV5(莫氏硬度4~4.5)。这主要是由于面釉的热膨胀系数介于坯和抛釉之间,使坯釉结合性能增强所致。     

全抛釉发展应用综述

本文详细介绍了全抛釉的发展历程,以及在生产过程中发生的技术革新和工艺改良。根据印刷全抛釉到钟罩淋釉方式的转变,分析普通全抛釉向大理石全抛釉、超平厚全抛釉、金刚釉、干粒釉的改进,通过全抛釉的生产工艺和釉面色彩、纹理及质感等方面的提高详细分析全抛釉的前世今生。     

耐磨介质对全抛釉耐磨性能的影响

全抛釉是一种特殊配方釉,表面光亮柔和、晶莹透亮~([1])。它具备了抛光砖的光泽度,同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果和内墙砖釉面丰富的印刷表现效果~([2,3])。虽然全抛釉优势突出,但也存在许多不足。首先,抛光过程中平整度达不到要求,容易抛底,产生废品。其次,耐磨性还需提高。本文以钾长石、钠长石、锂透石、烧滑石、硅灰石、方解石、煅烧高岭土、高岭土、氧化铝、石英、碳酸钡为原料,加入水、三聚磷酸钠(STPP)、甲基纤维素(CMC)等化工原料,探讨耐磨介质(硅酸锆、刚玉)对全抛釉耐磨性、透明度和亮度的影响。讨论了加入耐磨介质后,SiO_2、钾长石对釉面透明度、亮度、耐磨性的影响。     

超精陶瓷抛磨粒研究

通过研究成型密度、结合剂用量及结合剂耐火度对超精陶瓷抛磨料性能的影响，探讨出常用陶瓷抛磨粒的配方范围是：结合剂含量为85％－65％，成型密度为2．32－2．45g/cm^3；在1250℃-1300℃的烧成范围内，结合剂的耐火度应为1200℃-1350℃。同时还介绍了适用于陶瓷抛磨粒成型的工艺参数。     

抛放弹用发射药研究

本文叙述了机载悬挂装置抛放弹用发射药的特殊使用要求,并据此研制了3HP新型三基发射药做抛放弹的主装药。阐述了该发射药的主要性能特点,并在模拟架上进行了各种环境下的系统功能试验,取得了令人满意的结果,达到了战术技术指标的要求,表明该发射药是目前国内抛放弹中比较理想的装药。     

导向喷动流化床颗粒物料抛高的估算

本文以气固两相流运动理论为基础，进行导向喷动流化床颗粒物料抛高估算，从而确定导向喷动流化床床高。计算结果与实验测定值吻合颇好。     

抛光砖打蜡机抛磨运动分析

瓷质抛光砖打蜡后要获得非常光亮的表面以及优良的防污效果,就必须在打蜡过程中使抛光砖表面各点处的抛磨次数尽可能一致。但在实际的打蜡过程中,很容易产生抛磨不均匀现象。本文以一种新型抛光砖打蜡机的抛磨装置为研究对象,建立抛磨运动的数学模型,利用Matlab软件进行抛磨运动仿真．分析不同抛磨运动参数对抛磨均匀性特性的影响,对打蜡机运动参数的确定和打蜡质量的研究具有参考价值。     

易点燃低速爆轰抛散药研究

提供一种由非爆炸物组成、适用作为低速爆破能源的新型抛散药。文中给出了配方设计技术构思、评定能量实验方法和抛散药主要性能；还讨论了抛散药多相反应历程、还原剂含量对药剂反应率影响、抛散药的ＤＤＴ性能等问题。描述了新抛散药在灭火器材、微差爆破模型试验等项目中的良好应用效果。     

重碱煅烧炉抛碱机的改造

<正> 我厂重碱煅烧炉为自身返碱蒸汽煅烧炉,规格为φ1,800×1,600,采用抛碱机进碱(见图1)。自投产以来,抛碱机的问题经常影响煅烧炉的正常运行。生产中我们观察到抛碱机将重碱抛出后,一部分重碱“打”在炉头排管和不凝汽管上,随后弹回落在返碱口附近。一般射程只有1.5—2米,也就是说重碱被抛得太高,被排管挡住了射程,由于炉体在回转中炉内上     

抗菌抛釉砖生产技术探讨

表面看上去洗干净的衣服，穿上几小时后，每平方厘米的细菌就可达上亿个。全球每年因细菌感染死亡的人数接近2000万，当今中国抗菌材料年销售额正在以30%的幅度持续上升，随着非典和新冠疫情的发生，抗菌陶瓷也正在逐渐成为市场上一个大热点。本文以抛釉砖为基础，通过对抗菌剂种类的优选，在全抛釉陶瓷砖产品的抛釉（即最外面那层抛釉）中掺入一定比例的合适抗菌材料实现抗菌。最终抗菌抛釉砖的抗菌性能及抗菌耐久性能抗细菌率均达到90%以上。     

直抛式抛光生产对矫正砖坯平整度的影响

本文通过生产试验，分析了直抛式抛光生产程序对矫正砖坯平整度的影响．并试图找到造成抛光工序产生砖坯变形的原因。     

影响抛釉砖缺陷的因素及解决方法

抛釉砖色彩丰富、色泽明亮,比抛光砖装饰效果更丰富、比仿古砖光泽更多变、比瓷片更耐污,由于适用于多种装饰场合而越来越深受消费者的喜爱。但因其透明釉与坯体存在膨胀系数差异、熔融温度差异,以及使用弹性软质模块进行抛磨等原因,所以容易在其表面产生波浪纹等缺陷。本文简单分析了影响抛釉砖表面不平整的因素以及解决产品缺陷的原因,希望能给同行提供一些帮助。     

影响抛釉砖变形的因素

本文结合全抛釉瓷砖的实际生产经验,从配方和烧成工艺对全抛釉瓷砖烧成变形的原因进行了分析和探讨,并提出相应的解决对策,以期对陶瓷企业有一定的帮助。     

影响新型建筑陶瓷抛釉砖白度的因素浅析

随着建筑陶瓷行业的不断发展,作为一种新型的建筑陶瓷,新型抛釉砖在近年内有了突飞猛进的发展。同时,市场对新型抛釉砖的性能,尤其是白度控制提出了比传统抛光砖更高的质量要求。本文对新型抛釉砖白度的影响因素进行了分析,对影响机理作了初步探讨,并从五个方面提出了提高新型抛釉砖白度的措施。     

黑色喷墨全抛釉产品的避釉缺陷处理

以喷墨打印生产黑金花等黑色全抛釉产品时,淋抛釉极易出现避釉缺陷。本文从其产生的原因入手,就如何解决避釉缺陷,提出了新的思路及处理办法。