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采用自主配制的碱性抛光液对TiO2薄膜进行了化学机械抛光(CMP),研究了在TiO2薄膜CMP加工过程中,碱性抛光液中的SiO2磨料、螯合剂、表面活性剂的体积分数和抛光液pH值对TiO2薄膜表面粗糙度的影响,并进行了参数优化。实验结果表明,在一定的抛光条件下,选用SiO2磨料体积分数为20%、螯合剂体积分数为1.0%、非离子表面活性剂体积分数为5.0%和pH值为9.0的碱性抛光液,抛光后TiO2薄膜表面没有划痕等抛光缺陷,表面粗糙度为0.308 nm,TiO2薄膜去除速率为24 nm/min,在保证抛光速率的同时降低了TiO2薄膜表面粗糙度,满足工业化生产要求。 相似文献
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运用原子力显微镜(AFM)对不同浓度海藻酸钠在云母表面上形成的自组装膜进行了研究,实验结果显示在0.001mg/ml时,海藻酸钠出现单分子聚集体形态;0.01mg/ml和0.05mg/ml时,呈现致密、紧凑的网格状结构。随着浓度的改变,海藻酸钠自组装表面超微结构也发生变化。初步分析了影响其表面超微结构变化的一些因素并运用耗散理论探讨了这种变化过程可能的机理。 相似文献
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张玉峰王胜利刘玉岭段波李若津杜旭涛 《半导体技术》2014,(11):841-845
采用自主配制的碱性抛光液对TiO2薄膜进行了化学机械抛光(CMP),研究了在TiO2薄膜CMP加工过程中,碱性抛光液中的SiO2磨料、螯合剂、表面活性剂的体积分数和抛光液pH值对TiO2薄膜表面粗糙度的影响,并进行了参数优化。实验结果表明,在一定的抛光条件下,选用SiO2磨料体积分数为20%、螯合剂体积分数为1.0%、非离子表面活性剂体积分数为5.0%和pH值为9.0的碱性抛光液,抛光后TiO2薄膜表面没有划痕等抛光缺陷,表面粗糙度为0.308 nm,TiO2薄膜去除速率为24 nm/min,在保证抛光速率的同时降低了TiO2薄膜表面粗糙度,满足工业化生产要求。 相似文献
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锑化镓(GaSb)作为常用的III-V型半导体材料,因其易于氧化的性质而限制了其应用效果,而硫钝化是一种常见而有效的应对手段。该文选取了硫化铵溶液,对化学机械抛光后的晶片表面进行处理,以研究硫钝化工艺中钝化时间对抛光面的影响。实验结果通过原子力显微镜(AFM)和X线光电子能谱(XPS)进行了表征,研究发现,经硫化铵溶液处理后,与Ga相比,Sb的硫化程度更完全,且该程度会随着硫化时间的延长而逐渐加大。另外,处理时间长会加重GaSb晶片表面的腐蚀,使其表面起伏加剧,表面粗糙度增大。 相似文献
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应用Fe3+在裸云母表面制作DNA分子的AFM样品的方法 总被引:1,自引:0,他引:1
原子力显微镜(AFM)既是观测生物大分子的有力工具,也是生物单分子操纵的有力工具.脱氧核糖核酸分子(DNA)是记栽了生物信息的重要生命分子,同时也是在分子器件领域具有极大潜力的天然纳米材料.利用AFM对DNA分子观察和操纵时,制样是关键.云母具有原子级平整的表面可作为观测DNA分子时的基底,但由于其表面负电性而不能和DNA分子很好地结合,所以通常需要对云母进行表面修饰.本文给出一种通过加入适量三价铁离子溶液在裸云母表面制作DNA样品的方法,可取代传统的云母表面修饰.该制样方法既可应用到基于AFM技术的DNA分子的形貌观察,也可应用在基于AFM技术的对DNA的单分子操纵. 相似文献
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退火对Al掺杂ZnO薄膜材料结构性能和表面形貌的影响研究 总被引:1,自引:1,他引:0
采用无机盐溶胶-凝胶方法在载玻片衬底上制备了ZnO:Al薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究了退火温度和退火时间对ZnO:Al薄膜结构和形貌的影响.结果显示,ZnO:Al薄膜为六角纤锌矿晶体结构,具有很高的沿C轴的(002)择优取向,随退火温度的升高或退火时间的适当延长,衍射峰的半高宽减小、强度增强,晶粒尺寸增大.结果表明,通过适当控制退火温度和退火时间可以得到高质量的ZnO:Al薄膜. 相似文献
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硅(001)衬底上生长的ZnO薄膜的AFM研究 总被引:2,自引:0,他引:2
对采用电子束反应蒸镀方法在低温下在硅(001)衬底上外延生长的ZnO薄膜的表面构像进行了原子力显微镜(AFM)观察,分析研究不同的衬底温度对薄膜表面形貌及结构特性的影响。在250℃衬底温度下获得的ZnO薄膜,膜表面平整,结构致密,表面平均不平整度小于3nm,说明在该衬底温度下获得的ZnO薄膜是高透明度、高质量、高度取向的单晶薄膜。 相似文献
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兔骨骼肌ryanodine受体/钙释放通道的AFM研究 总被引:1,自引:0,他引:1
Ryanodine受体(RyR)是位于细胞内质网膜上的钙释放通道,在肌细胞的兴奋-收缩偶联中发挥重要作用。RyR难于结晶,以往主要是用电镜和计算机三维重组相结合的方法来获得其高级结构的信息。由于RyR结构庞大,易于水解,在提取的过程中需要加入外源性磷脂以保护其结构,而磷脂的存在对电镜的分辨率有影响,所以电镜研究的RyR在提 过程中一般不添加外源性磷脂,这样得到的结构信息并没有反映RyR在生理状况下的真实情况,我们用原子力显微镜(AFM)对RyR进行研究,经过了空气中RyR成像,液体中RyR成像,重组到脂双层中的RyR研究几个阶段,提供了RyR在接近生理条件下的结构信息,并为进一步研究其结构和功能的关系打下了基础。 相似文献
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云母表面改性的AFM研究 总被引:1,自引:1,他引:0
采用原子力显微镜(AFM)对γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(KH-570)改性后的云母表面形貌进行观测,并综合表面粗糙度Rq、粒子高度D及Z方向最高高度等参数考察了清洗方式、偶联剂浓度以及清洗和烘干顺序对改性后云母表面形貌的影响.实验结果显示:改性后云母表面粗糙度受云母表面的点缺陷、清洗方式及处理顺序等因素影响,而偶联剂分子在云母表面的存在形态受改性溶液中偶联剂浓度的影响.随着偶联剂浓度的减小,改性后云母表面上偶联剂由网状变为分散点状. 相似文献