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主要分析了气动增压泵的组成和工作原理,描述了气动增压泵在单片晶圆清洗过程中的应用特点和优势.介绍了气动增压泵在应用过程中的控制方法和选用注意事项. 相似文献
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宋婉贞 《电子工业专用设备》2014,(11):41-44
随着太阳能行业的高速发展,设备的自动化已成为太阳能硅片清洗设备的发展趋势。以全自动太阳能制绒清洗设备工艺流程为基础,介绍了欧姆龙PLC在全自动硅片清洗设备中的应用过程。 相似文献
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通过对汽车零件、光学零件、电子零件替代技术的剖析,说明了超声波清洗方法在替代清洗技术中的重要性和可行性。 相似文献
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通过对中央空调络合清洗与常规酸洗对比,认为络合清洗大大优于常规酸洗,络合清洗对设备几乎没有腐蚀,除垢率高,清洗后机组传热效率高,运行成本降低,设备使用寿命增加,清洗过程符合环保要求. 相似文献
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2000年世界半导体生产设备市场较上年增长50%, 达到476.6亿美元。伴随着多层布线的发展,对CMP(化学机械抛光)设备的投资特别火热,预料到2002年金属用CMP设备市场将达到13.7亿美元。1995年CMP设备的世界市场为157亿日元(1美元约等于107日元),而1996年扩大约1.5倍,达到399亿日元,1997年继增61%,成长各645亿日元。1998年中国台湾厂家引入了金属及STI(浅沟道隔离)工艺,但因日本、韩国等的低迷,致使CMP设备下降4%,为623亿日元。1999年由于PC市场扩大,半导体景气复苏,设备投资增加,比上年大幅增长50%,达到了932亿日元,2000年估计更将窜升93… 相似文献
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针对300 mm单晶片清洗设备,设计开发了一套化学药液温度控制系统。由于化学药液传输系统具有大惯性、大时滞、非线性的特点,采用Smith预估法设计了一种温度控制算法;并基于可编程计算机控制器(PCC)设计实现了化学药液温度控制系统。介绍了该控制系统的硬件组成和控制算法设计,实验结果表明该温度控制系统能够满足清洗工艺需求。该系统现已成功应用于自主研发的300 mm、65 nm铜互连单片清洗设备。 相似文献
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光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成.最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。 相似文献
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本文章主要叙述目前替代ODS清洗剂的几种方法。其中乳化工艺清洗技术替代ODS清洗PCB组件是一种比较好的方法。本文着重对本公司在实施过程中的调研方案确定,清洗剂选择,以及“三防”试验工作,进行了探讨。 相似文献
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离心清洗在印制电路板清洗中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
良好的清洗方法对产品的长期可靠性有具非常关键的作用。离心清洗的作用力可作用于元器件和电路板之间的任何空间,清洗作用力均匀,清洗洁净度高,清洗效果好,有效去除PCB残留物。离心清洗对元器件无损伤,满足高精度高可靠性PCB清洗要求。主要介绍了新型的离心清洗方法。 相似文献
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本文主要是针对卫生间设施的清洗,从清洗剂产品配方技术到相关的清洗应用技术作了较为全面的介绍。其中清洗剂产品主要是对洁厕精进行介绍。清洗应用技术主要是针对便池盆和下水道的应用场合进行介绍。 相似文献
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通过分析硅芯硅棒清洗方式的现状,提出其自动清洗设备研制的必要,介绍了全自动硅芯硅棒清洗机的技术参数和工艺流程,详细分析了设备的结构设计,包括工艺清洗系统、传动系统、电气控制系统、排风系统、管路系统和设备主体等。 相似文献
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介绍了电感耦合式等离子清洗系统的原理、结构、组成,以一台已经试制成功的清洗设备为例,介绍了典型设备的系统构成、技术指标以及应用于微波管制造过程中所收到的良好效果。 相似文献
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随着集成电路制造装备的复杂度越来越高,设计一个符合SEMI标准的集成电路制造装置控制系统显得尤为重要。针对SEMI标准的要求,提出了一种控制系统的结构设计方法。设计的系统定义了SEMI标准中规定的控制模型与状态模型及其他操作,能够满足实际控制需要与SEMI标准的要求。 相似文献