用线性电压扫描的电容-时间瞬态测定少子产生寿命

本文建议用耗尽的线性扫描电压扫描MOS电容样品。扫描开始前MOS电容被置于强反型态,以消除表面产生的影响。根据扫描所得的电容-时间瞬态曲线,可确定样品中少于产生寿命。实验表明,对于同一个MOS电容样品,不同电压扫描率下得到的结果有很好的一致性,且与饱和电容法的结果相符合。     

长产生寿命的快速测量方法

本文提出了线性电压扫描下长产生寿命的快速测量方法。该法具有不需使C-t瞬态曲线达到饱和、数据处理简单、且不需知道样品的掺杂浓度等优点。     

Determination of generation lifetime fromC-t transients under linear voltage ramp bias

When a linear voltage ramp is applied to the gate of a MOS capacitor, a capacitancetime (C-t) transient is observed. The MOS capacitor is biased into strong inversion before applying the voltage ramp in order to eliminate surface generation. FromC-t transient curve obtained experimentally the minority carrier generation lifetime in semiconductor can be determined. The experimental results show that for the same sample the lifetimes extracted fromC-t curves under varying voltage sweep rates are close each other, and they are consistent with the lifetimes extracted by saturation capacitance method.     

深能级中心的电场增强载流子产生效应

本文研究了半导体表面空间电荷区中的深能级中心的电场增强载流子产生效应;指出应全面考虑库仑发射和非库仑发射对载流于产生率的影响;给出了相应的产生率计算公式。对计算机计算结果的分析表明,以往的只考虑库仑发射的模型过于简单,本文理论可以较满意地解释有关的实验结果。     

电场增强载流子产生中产生电流与宽度的关系

研究了深能级中心电场增强载流子产生现象，得到的产生电流与产生宽度的理论关系，能较好地与实验结果相符合。     

一种测量少数载流子寿命的新方法

本文介绍一种简便实用的测量少数载淳子寿命的新方法－ＭＯＳ电容测量法，它对测量样品的要求不高，可在生产过程中实时测量，测量方法、数据处理及测量设备均较简便。     

Determining the generation lifetime in a MOS capacitor using linear sweep techniques

A comparison between two linear sweep techniques for generation lifetime profiling is reviewed here. These semiconductor characterization techniques find widespread application because of their availability in commercial equipment and ability to reduce the measurement time. It is shown experimentally that parameters such as generation lifetime and surface generation velocity determined by linear sweep techniques agree well with those obtained from pulsed MOS capacitor measurement.     

正向小注入脉冲下多子陷阱响应和两种载流子俘获率之比

正向小注入下分析了p+-n结的多子陷阱响应。指出了其中的少子注入俘获效应。当p-n结反向偏压足够小,以致其响虚区中尾区的作用不容忽视时,多子陷阱的少子注入俘获效应就在其DLTS中明显地表现出来。这种效应可用于在小注入条件下,测量多子陷阱两种载流子俘获率之比Cp/Cn。     

重掺杂发射区中禁带宽度和少子复合寿命的确定方法

禁带宽度和少子复合寿命是硅晶体管发射区中重要的物理参数。本文利用p-n结反向扩散电流的温度特性和借助于线性外推法,提出了一种确定绝对零度时禁带宽度的新方法。由于发射区重掺杂,本文考虑了载流子的费米-狄拉克统计分布。提出了确定发射区中少子复合寿命的方法。该方法简便实用。