苯并三氮唑和8-羟基喹啉对铜缓蚀作用的研究

通过采用失重法、电化学极化曲线和电化学阻抗谱研究了3％NaCl溶液中苯并三氮唑（BTA）和8－羟基喹啉（HQ）的缓蚀协同作用。BTA和HQ复配使用后增强了对铜的阳极极化过程的抑制作用，提高了电极的膜电阻，降低了电极的膜电容。通过PPP－SCF量子化学方法优化分析了BTA和HQ的分子结构及其缓蚀协同效应。     

苯并三氮唑型超DIR成色剂的合成及应用研究

以黄成色剂为母体合成了七只苯并三氮唑型超ＤＩＲ成色剂,总收率６５％,对该系列成色剂在黄、品、青三层中的应用性能进行了测定。结果表明该系列成色剂普遍具有较强的ＤＩＲ效应,以５％比例应用时可使闰度降低１５．２％。     

苯并三氮唑与噻吩交替共聚物的合成及性能研究

以4,7-二溴-2-十二烷基-1,2,3-苯并三氮唑和带不同碳数烷基的3-烷基噻吩格式试剂为单体,通过Ni(Ⅱ)配合物催化法分别合成了带有丁基、辛基和十二烷基侧链的共聚物,并采用FT-IR、1H-NMR对其化学结构进行了表征。所得共聚物的M n分别为0.57×104,0.59×104和0.49×104g/mol,其M w(g/mol)分别为1.25×104,1.24×104和0.96×104g/mol。所得共聚物在CHCl3、THF等溶剂中具有较好的溶解和成膜性。聚合物在CHCl3溶液中的紫外-可见最大吸收波长分别为433,432和415 nm,共聚物在固态薄膜状态下的紫外-可见最大吸收波长与溶液比较约红移8nm。3种共聚物表现出较好的荧光性能。     

铜缓蚀剂苯并三氮唑缓蚀机理的研究进展

综述了数十年来苯并三氮唑(BTA)对铜缓蚀机理的研究成果,重点介绍了酸性、近中性、碱性及含氯介质中BTA所形成缓蚀膜的结构与组成、缓蚀作用类型:BTA通过在铜表面形成一层保护膜而抑制铜腐蚀,缓蚀膜的形成受到氧气、阳极极化、BTA浓度和pH值的影响,高BTA浓度及高pH值均有利于缓蚀膜的形成。     

丙烯酰基苯并三氮唑的光引发聚合及产物光化学反应

研究了丙烯酰基苯并三氮唑(ABT)、甲基丙烯酰基苯并三氮唑(MABT)的光自引发聚合行为及均聚物、共聚物的光化学反应。通过红外光谱、核磁共振谱和元素分析确定了单体、产物的结构,用紫外光谱和自由基捕捉剂探讨了光化学反应机理。     

镧、苯并三氮唑在黄铜钝化中的作用

为了进一步提高黄铜的耐蚀性,在其钝化液中加入镧盐和苯并三氮唑(BTAH)进行钝化。通过扫描电镜及X射线衍射分析了钝化膜的表面形貌、成分及结构;利用硝酸点滴及中性盐雾试验测试其耐蚀性,利用电化学极化曲线研究镧盐、BTAH单独及共同使用时对黄铜的缓蚀性能。结果表明:BTAH和镧盐具有良好的协同作用,钝化液中同时加入镧盐及BTAH所得复合钝化膜的耐硝酸点滴时间达21 s,耐中性盐雾12 h表面无明显变化;钝化液中镧盐及BTAH协同作用,使黄铜阳极腐蚀电流减小,腐蚀速度降低,使黄铜的耐蚀性能显著增强。     

镀锌钢板表面苯并三氮唑改性硅烷涂层的耐蚀性能

为了提高热镀锌钢板的耐蚀性,研究了苯并三氮唑(BTA)改性双-[γ-(三乙氧基硅)丙基]四硫化物硅烷(BTESPT)溶液处理热镀锌钢板试样的耐蚀性能和组成,并与未经BTA改性的硅烷处理试样以及铬酸盐钝化试样进行比较.结果表明:BTA作为阴极型缓蚀剂改性硅烷涂层,改性涂层主要以Si-O-Si和Si-O-Zn为主,BTA主要以分子形式存在于硅烷涂层中,以[BTA-Zn2]配位化合物存在于涂层/镀锌基体界面处,从而明显提高了改性硅烷涂层的耐蚀性能;改性硅烷涂层主要含Zn,Si,O,S,C和N元素,N含量的变化趋势表明BTA改性硅烷涂层具有自愈合能力.     

硫代磷酸三(4-氨基苯)酯的合成

为了提高产率,以对乙酰氨基酚和三氯硫磷为原料采用酰胺水解法合成了硫代磷酸三(4-氨基苯)酯,通过实验得到了合成的最佳工艺条件:各原料物质的量之比为n(对乙酰氨基酚)∶n(三乙胺)∶n(三氯硫磷)=3.10∶3.80∶1,反应温度为35℃,反应时间为3.5h.红外光谱、核磁共振谱、质谱和高效液相色谱等手段对产品进行了结构表征.通过对实验方法的进一步研究,结果发现在三乙胺中加入少量的吡啶,组成复式缚酸剂后,能有效地提高反应的产率.在此优化工艺条件下,产率为84%.     

合成1,4-苯撑-二-(5-氨基苯并噁唑)及电子光谱研究

以2，4—二氨基苯酚盐酸盐和对苯二甲酸为原料合成了1，4—苯撑—二—(5—氨基苯并噁唑)．反应过程中，首次加入还原剂SnCl2抑制2，4—二氨基苯酚盐酸盐的氧化，有效地提高了反应产率．通过熔点，元素分析，FT—IR，NMR，紫外—可见光谱表征化合物的结构．固体荧光光谱中，激发和发射光谱之间的Stokes位移说明固态分子间存在紧密的π堆垛，分子具有刚性的平面结构．可作为合成性能优异的芳杂环高聚物的单体原料．     

新型聚羧酸对苯撑乙炔酯的合成

报道了新型可溶性聚羧酸对苯撑乙炔酯的合成方法。它是以苯乙酸为起始原料 ,首先经过Friedel Crafts反应 ,制备聚苯乙酰高分子 ;后者与几种羧酸酰氯的酯化反应而制得。经IR、H NMR、UV Vis等分析方法对其结构进行了表征。分析数据表明聚羧酸对苯撑乙炔酯具有PPV链状π 共轭结构特征 ,在二甲苯、THF、DMSO等有机溶剂中 ,有较高的溶解性。     

6FDA型聚酰亚胺共聚物(6FDA-TMPDA/DABA)的合成及气体渗透性能测试

合成了含有易交联极性基团 -COOH的新型 6FDA型聚酰亚胺共聚物 (6FDA -TM PDA/DABA) .6FDA(4,4’ -六氟亚异丙基 -邻苯二甲酸酐 )为二酐单体 ,TMPDA(2 ,4 ,6 -三甲基 - 1,3-苯二胺 )和DABA(3,5 -二氨基苯甲酸 )为二胺单体 .采用乌氏粘度计、DSC(差分扫描量热 )和TGA(热重量分析 )测定了共聚物的比浓粘度、Tg(玻璃化转变温度 )和Td(热分解温度 ) .比浓粘度均高于 0 36 ,说明合成的聚合物有较大的分子量 .Tg 在DSC升温至 4 0 0℃时测量不到 ,Td 均在 5 2 0℃以上 ,显示出合成的共聚物有很好的热稳定性 .在 30℃和 10 132 5Pa下测试了摩尔比为 3∶1、9∶1(TMPDA∶DABA)共聚物的H2 、CO2 和N2 的纯气渗透系数 .结果显示两种共聚物均有很高的渗透系数和CO2 /N2 的理想分离系数 .其中 6FDA -TMPDA/DABA 9∶1体系的CO2 纯气渗透系数达到 1 12 5× 10 - 13m3·m/ (m2 ·s·Pa)     

氰酸酯单体合成技术的进展

分析了"卤化氰-酚法"合成氰酸酯单体的化学原理.根据实际的操作过程,将"卤化氰-酚法"划分为"活性酚氧离子"路线和"活性氰"路线,讨论了其可能的反应机理.评述了高纯度和高收率氰酸酯单体合成的新进展,以及国内氰酸酯单体工业合成的现状.     

EuW_2O_6(OH)_3荧光粉的水热法合成及发光性能

以Eu_2O_3和Na_2WO_4·2H_2O为原料,采用水热法合成了属纯单斜相结构的EuW_2O_6(OH)_3红色荧光粉,分别采用XRD、FT-IR、SEM、PL测试手段对产物的物相组成、颗粒形貌和发光性能等进行了表征。结果表明,pH值对样品形貌有显著影响,pH=6时可以得到均匀规则的球状粉体。在394nm光的激发下,EuW_2O_6(OH)_3荧光粉的617nm发射峰在pH=6时达到最大值。     

羧酸侧基对主链液晶聚合物性能的影响

采用溶液缩聚的方法,以4,4′-对羟基联苯(MB)、2,5-二羟基苯甲酸(MC)、癸二酰氯(SD)为单体,合成了主链液晶离聚物。通过红外光谱(FT-IR)、偏光显微镜(POM)、差示扫描量热(DSC)、X射线衍射(XRD)等手段研究了离子单体对主链液晶离聚物性能的影响。结果表明,所合成的聚合物都为热致近晶型液晶聚合物。其Tg,Tm和Ti随离子含量的增加呈现不同的变化趋势,少量的2,5-二羟基苯甲酸钠(MC-Na)增宽了聚合物的液晶区间,但较大量的MC-Na破坏了液晶相。     

脂肪族聚酯-酰胺共聚物的合成、表征及降解

通过ε—己内酯和11—氨基十一酸的本体熔融聚合制备了一种新型的脂肪族聚酯—酰胺共聚物，采用红外光谱(FT—IR)、核磁共振(^1H-NMR)、差热分析(DSC)和热重分析(TG)表征了材料的结构和热性能，并考察了聚合物的水解降解性。     

新型可降解聚硅基酯的合成及性质研究

主链中含有不稳定的硅酯键的聚硅基酯是一种新型的可降解聚合物.合成并研究了新型聚硅基酯即聚(己二酸四甲基二硅氧烷基硅基酯):首次利用熔融缩聚法使己二酸与1,1,3,3-四甲基二硅氧烷为单体合成了聚硅基酯,并用1H-NMR对该聚合物进行了结构表征,利用差示扫描量热(DSC)、热重分析(TGA)对其热力学性质进行了研究,利用凝胶渗透色谱(GPC)就分子量分布及降解性质进行了研究.     

MSnO_3和MSn_（0．5）Zr_（0．5）O_3（M＝Sr，Ba）的水热合

本文利用水热合成方法对ＭＳｎＯ３和ＭＳｎ（０．５）Ｚｒ（０．５）Ｏ３（Ｍ＝Ｓｒ，Ｂａ）的合成进行了研究，并采用ＸＲＤ、ＳＥＭ和ＩＣＰ等方法对产物进行了表征，结果表明：在Ｍ（ＯＨ）２－ＳｎＯ２（或ＳｎＯ２＋ＺｒＯ２）－ＫＯＨ体系中，当ＫＯＨ／Ｓｎ和ＫＯＨ／（Ｓｎ＋Ｚｒ）≥３０时，２６０℃下晶化５～７天，可获得ＭＳｎＯ３和ＭＳｎ（０．５）Ｚｒ（０．５）Ｏ３纯相，在Ｍ（ＯＨ）２－（ＳｎＯ２＋ＺｒＯ２）－ＫＯＨ－Ｈ２Ｏ体系中，可通过控制介质碱度来获得ＭＳｎＯ３＋ＭＺｒＯ３混合物和ＭＳｎ（０．５）Ｚｒ（０．５）Ｏ３，并根据合成规律初步探讨了反应过程．