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相似文献
 共查询到17条相似文献,搜索用时 128 毫秒
1.
2.
水处理系统中铜缓蚀剂的应用研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
归纳总结了在水处理系统中常见的铜缓蚀剂的缓蚀机理及其在水处理系统中的应用,指出了常见的铜缓蚀剂应用中存在的一些问题:如低pH条件下BTA缓蚀效率下降、氧化性杀生剂对铜缓蚀剂的影响等,并介绍了有关铜缓蚀剂的一些研究和实验结果,最后指出了铜缓蚀剂研究的发展方向。  相似文献   

3.
铜和铜合金电解抛光   总被引:2,自引:0,他引:2  
1 前言电解抛光是金属零件在特定条件下的阳极浸蚀。和化学抛光相比 ,电解抛光的表面质量好 ,而且溶液稳定 ,不产生有害气体。因此 ,电解抛光的应用正在日益发展和扩大。在检索和分析国内外有关文献资料的基础上 ,经过认真试验 ,严格筛选 ,终于研制成功一种双组份(HH991A、HH991B)电解抛光添加剂 ,产品的价格仅为进口同类产品的一半 ,在显微镜下 ,将用抛光剂的零件与用进口抛光剂抛光的零件进行对比 ,HH991A、HH991B比进口产品有着明显的优势。2 电解抛光添加剂和抛光液在电解抛光过程中 ,阳极表面形成了具有高电阻率的稠性粘…  相似文献   

4.
高浓度氯离子环境中铜合金缓蚀的电化学研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
洪全  王艳波  侯保荣 《应用化工》2005,34(10):618-622
应用线性电位扫描(LSV)和Tafel实验等电化学测试技术,研究了苯并三氮唑(BTA)浓度、缓蚀剂的复配、温度对铜合金在高浓度氯离子(25%氯化钙溶液)环境中腐蚀行为的影响。结果表明:缓蚀剂浓度改变将引起缓蚀效果的变化,BTA浓度较低时,铜合金腐蚀电位随缓蚀剂浓度增大而升高,腐蚀速率降低;BTA浓度超过0.2%后,铜合金腐蚀电位和腐蚀速率趋于稳定;NaNO2、Na2MoO4、(NH4)2MoO4等缓蚀剂与BTA复配,对改善缓蚀效果有一定作用;温度对缓蚀效果有重要影响,铜合金在高浓度氯离子溶液中的腐蚀速率随温度的升高而加快,缓蚀剂的缓蚀效果随温度的升高而降低。  相似文献   

5.
《涂料指南》2005,(B04):23-25
苯并三氮唑是一种优秀的金属缓蚀剂,为提高其对多种金属及各种介质中的缓蚀 效率,进一步对其衍生物的开发研究工作已经受到科技界的关注。专家黄魁元简要介绍了国内外金属缓蚀剂“苯并三氮唑及其衍生物”对铜及铜合金在腐蚀性介质中及不同工艺条件下的缓触效果,并指出笨并三氮唑及其衍生物在金属防护中的开发研究前景。  相似文献   

6.
7.
铜合金无铬钝化处理   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了苯并三氮唑(BTA)缓蚀剂与ZnSO4和/或润湿剂的协同作用对铜合金的钝化效果,以及后处理对铜合金试片耐蚀性的影响.得到最佳的操作条件为:1g/LBTA,0.4g/L ZnSO4,4mL/L 润湿剂,温度80℃,pH 4~5,时间 5min.钝化后及时去除钝化膜表面的水,可使其耐中性盐雾时间达到30h以上.  相似文献   

8.
介绍了一种铜及铜合金无硝酸、无铬光亮酸洗工艺,其主要工序包括化学除油、盐酸漂洗和化学出光。通过正交试验对化学出光溶液组成进行优化,得到最优配方为:H2SO415%,H3PO420%,出光剂A(含氧化剂、缓蚀剂及表面活性剂)20%。该新型抛光剂适用于多种铜及铜合金,工件的光泽与传统混酸洗工艺相当,在自动线上必要的38s内不会对工件产生过腐蚀。  相似文献   

9.
以苯并三氮唑(BTA)和溴代正丁烷为原料,采用一步法合成了N-丁基苯并三氮唑(N-BBTA),研究了BTA、N-BBTA以及N-BBTA与BTA的复配体系对铜在3%(质量分数)NaC1溶液中的缓蚀行为.结果表明,单一N-BBTA和BTA对铜均具有一定的缓蚀能力.当N-BBTA、BTA浓度为10 mmol/L时,缓蚀率分...  相似文献   

10.
环保型铜及铜合金化学抛光   总被引:8,自引:0,他引:8  
肖鑫 《电镀与环保》2004,24(1):31-32
在H2O2-H2SO4体系中添加适量添加剂,研究成功一种新的环保型铜及铜合金化学抛光液,探讨了各成份的影响;溶液无毒对环境无污染,溶液维护简单,抛光效果好.  相似文献   

11.
对铜及铜合金化学抛光工艺进行了研究,考察了低浓度硝酸体系和双氧水体系对铜及其合金的抛光亮度、腐蚀失重以及对环境污染程度的影响。结果表明,低浓度硝酸体系抛光亮度高,适用范围广,对环境的污染较传统三酸体系少,虽然对铜及铜合金有一定的腐蚀,但返工对工件的尺寸影响不大,适用于冰箱、空调器等的蒸发管的抛光。双氧水抛光体系对铜及其合金腐蚀轻微,对环境的污染更少,但成本相对较高,适于对加工尺寸要求严格的铜及铜合金电子元件的化学抛光。  相似文献   

12.
铝及铝合金的表面抛光   总被引:7,自引:2,他引:7  
介绍了铝及其合金机械抛光,化学抛光,电化学抛光的研究进展,其中较为详细地介绍了无毒化学抛光,铸铝合金化学抛光,无铬酸电化学抛光技术等。  相似文献   

13.
铜及其合金化学抛光新工艺   总被引:4,自引:0,他引:4  
陈毅侯 《电镀与涂饰》2001,20(2):22-23,52
研制出一种铜及其合金化学抛光新工艺。在传统的硫酸抛光液中加入一种淡绿色的粉末晶体。介绍了该抛光液的配制,研究了温度、基体材料对抛光效果的影响。结果表明,该工艺抛光速度快、腐蚀性代、无黄烟、环境污染小、成本低。  相似文献   

14.
铜及其合金表面钝化新工艺的研究   总被引:8,自引:2,他引:8  
李锋  刘俊  陈颢 《电镀与涂饰》2005,24(2):15-17
为了提高铜及其合金表面抗变色能力,研制了一种含稀土盐的新型铜及其合金钝化工艺,研究了钝化液中BTA、稀土盐、处理温度和时间对钝化膜成膜及其性能的影响,初步探讨了稀土盐的缓蚀机理。铜及铜合金经本工艺处理.抗变色能力有了显著提高。本工艺污染小,溶液稳定,使用寿命长。  相似文献   

15.
白云  张胜涛 《广州化工》2009,37(8):127-129
通过正交试验,考察了利用苯并三氮唑(BTA)对铜合金进行预膜的预膜方案,并在此基础上讨论了预膜剂的浓度、pH以及时间对预膜效果的影响。结果表明,pH值是影响预膜效果的重要因素,最佳的pH值界于7~8之间,BTA的浓度在50mg/L时效果最好。通过失重法、线性扫描伏安法(LSV)、Tafel极化曲线以及电化学阻抗谱(EIS)对预膜前后铜片的电化学研究表明:预膜后试片的耐蚀性明显提高。  相似文献   

16.
简述了铜及铜合金着色的原理.总结了铜及铜合金着黑色、褐色、绿色、蓝色的工艺配方及操作条件,介绍了手工点涂铜绿(铜锈)、双色点蚀(先着黑色再点蚀铜绿)、套色、着土黄铜绿色等多种特殊的着色工艺.  相似文献   

17.
研究以含硝酸的化学抛光液对BFe30-1-1铜合金进行化学抛光的方法,考察光亮剂的种类、缓蚀剂的种类、化学抛光液各组分的含量、抛光温度以及抛光时间对铜合金抛光效果的影响。结果表明,在实验范围内优化工艺条件为:350~450 mL/L H2SO4,3~5 mL/L HCl,30~40 mL/L HNO3,2~4 mL/L辛基酚聚氧乙烯醚(OP-10),3 g/L苯骈三氮唑(BTA),水余量,抛光温度30℃左右,抛光时间3~5 min。在此工艺条件下对BFe30-1-1铜合金进行化学抛光,可以获得较好的抛光效果。  相似文献   

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