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铜和铜合金电解抛光 总被引:2,自引:0,他引:2
1 前言电解抛光是金属零件在特定条件下的阳极浸蚀。和化学抛光相比 ,电解抛光的表面质量好 ,而且溶液稳定 ,不产生有害气体。因此 ,电解抛光的应用正在日益发展和扩大。在检索和分析国内外有关文献资料的基础上 ,经过认真试验 ,严格筛选 ,终于研制成功一种双组份(HH991A、HH991B)电解抛光添加剂 ,产品的价格仅为进口同类产品的一半 ,在显微镜下 ,将用抛光剂的零件与用进口抛光剂抛光的零件进行对比 ,HH991A、HH991B比进口产品有着明显的优势。2 电解抛光添加剂和抛光液在电解抛光过程中 ,阳极表面形成了具有高电阻率的稠性粘… 相似文献
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高浓度氯离子环境中铜合金缓蚀的电化学研究 总被引:6,自引:0,他引:6
应用线性电位扫描(LSV)和Tafel实验等电化学测试技术,研究了苯并三氮唑(BTA)浓度、缓蚀剂的复配、温度对铜合金在高浓度氯离子(25%氯化钙溶液)环境中腐蚀行为的影响。结果表明:缓蚀剂浓度改变将引起缓蚀效果的变化,BTA浓度较低时,铜合金腐蚀电位随缓蚀剂浓度增大而升高,腐蚀速率降低;BTA浓度超过0.2%后,铜合金腐蚀电位和腐蚀速率趋于稳定;NaNO2、Na2MoO4、(NH4)2MoO4等缓蚀剂与BTA复配,对改善缓蚀效果有一定作用;温度对缓蚀效果有重要影响,铜合金在高浓度氯离子溶液中的腐蚀速率随温度的升高而加快,缓蚀剂的缓蚀效果随温度的升高而降低。 相似文献
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环保型铜及铜合金化学抛光 总被引:8,自引:0,他引:8
在H2O2-H2SO4体系中添加适量添加剂,研究成功一种新的环保型铜及铜合金化学抛光液,探讨了各成份的影响;溶液无毒对环境无污染,溶液维护简单,抛光效果好. 相似文献
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铜及其合金化学抛光新工艺 总被引:4,自引:0,他引:4
研制出一种铜及其合金化学抛光新工艺。在传统的硫酸抛光液中加入一种淡绿色的粉末晶体。介绍了该抛光液的配制,研究了温度、基体材料对抛光效果的影响。结果表明,该工艺抛光速度快、腐蚀性代、无黄烟、环境污染小、成本低。 相似文献
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通过正交试验,考察了利用苯并三氮唑(BTA)对铜合金进行预膜的预膜方案,并在此基础上讨论了预膜剂的浓度、pH以及时间对预膜效果的影响。结果表明,pH值是影响预膜效果的重要因素,最佳的pH值界于7~8之间,BTA的浓度在50mg/L时效果最好。通过失重法、线性扫描伏安法(LSV)、Tafel极化曲线以及电化学阻抗谱(EIS)对预膜前后铜片的电化学研究表明:预膜后试片的耐蚀性明显提高。 相似文献
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研究以含硝酸的化学抛光液对BFe30-1-1铜合金进行化学抛光的方法,考察光亮剂的种类、缓蚀剂的种类、化学抛光液各组分的含量、抛光温度以及抛光时间对铜合金抛光效果的影响。结果表明,在实验范围内优化工艺条件为:350~450 mL/L H2SO4,3~5 mL/L HCl,30~40 mL/L HNO3,2~4 mL/L辛基酚聚氧乙烯醚(OP-10),3 g/L苯骈三氮唑(BTA),水余量,抛光温度30℃左右,抛光时间3~5 min。在此工艺条件下对BFe30-1-1铜合金进行化学抛光,可以获得较好的抛光效果。 相似文献