Fe-KCl石墨层间化合物磁学性能研究

探讨了Ｆｅ－ＫＣｌ石墨层间化合物的某些磁学性能．在宏观上,它能被永久性磁铁吸引,表现出明显的单轴磁各向异性,磁化方向仅为平行于碳网面的一个固定方向．当外磁场撤消,剩磁随之消失．在微观上通过插入物粒度测量及Ｍｓｂａｕｅｒ谱研究证实它有典型的超顺磁性．     

石墨层间化合物稳定性的研究

用喇曼散射方法观察了HClO_4、HNO_3、H_2SO_4—石墨层间化合物(GIC)的阶次状态随时间的变化,采用a面及c面入射观察。到HClO_4—GIC的阶次变化过程中ClO_4~-的溢出现象,据此认为层间化合物的阶次不稳定是由于插入的离子与石墨层间的分子力作用较弱。     

石墨层间化合物GIC

石墨层间化合物是一种纳米级复合材料。本文针对ＧＩＣ的近期研究工作,提出了作者的几点见解,供同行参考。     

Fe—KCl石墨层间化合物磁学性能研究

探讨了Ｆｅ－ＫＣｌ石墨层间化合物的某些磁学性能,在宏观上,它能被永久性磁铁吸收,表现出明显的单轴磁各向异性,磁化方向仅为平行于碳网面的一个固定方向,当外磁场撤消,剩磁随之消失,在微观上通过插入物粒度测量及Ｍｏｅｓｓｂａｕｅｒ谱研究证实它有典型的超顺磁性。     

石墨层间化合物（GICs）材料的研究动向与展望

1.前言石墨的晶体结构,在碳原子面上以SP~2杂化轨道电子形成的共价键及P_z轨道电子形成的金属键相连结,从而形成牢固的六角网状平面。碳原子间具有极强的键合能(345kJ/mol);而在碳原子平面间,其结合则是弱的范德瓦尔键(键能16.7kJ/mol)。这种层状结构的特点决定了石墨一系列的理化特性,同时也提供了其它物质插入碳原子平面间,从而形成一类新型材料的可能性。后者就是所谓的石墨层间化合物GlL_(?)(Graphite Intercalation Compounds)。     

石墨层间化合物的合成和应用

石墨层间化合物（Graphite Intercalation Compound，简称GIC）是一种重要的化合物，广泛用于各种科学和生活领域，本文介绍了石墨层间化合物合成及其在密封，环保，医药，阻燃等方面的应用。     

石墨层间化合物的研究与进展

综述了石墨层间化合物的研究状况、结构特征、种类、合成方法及其催化作用,特别指出了它在合成氨工业中的开发前景。     

石墨层间化合物的制取及其应用

石墨层间化合物是一种新型的纳米材料,具有广泛的应用背景。本文介绍了石墨层间化合物的原理以及种类,几种制备方法：双室法、化学氧化法、电化学法、溶剂法、混合法、加压法等,并比较了他们各自的优缺点及应用现状。     

石墨层间化合物成阶过程分析

主要从插层剂插入石墨、插层剂的扩散和阶结构的转变3个方面对石墨层间化合物成阶相关的过程进行讨论。从表面扩散、成核和电子转移3个方面介绍了插层剂进入石墨层间的过程;利用单相的方法分析了层内插层剂的扩散;从有无阶数变化两个方面讨论了阶结构的转化机制。     

石墨层间化合物成阶过程分析

主要从插层剂插入石墨、插层剂的扩散和阶结构的转变3个方面对石墨层间化合物成阶相关的过程进行讨论。从表面扩散、成核和电子转移3个方面介绍了插层剂进入石墨层间的过程;利用单相的方法分析了层内插层剂的扩散;从有无阶数变化两个方面讨论了阶结构的转化机制。     

石墨层间化合物阶结构的标定方法

阶作为表征石墨层间化合物的主要参量之一,在对石墨层间化合物的结构研究中起着重要作用。本文依据晶体材料X射线分析原理,结合石墨层间化合物的结构特性,对几种阶结构的标定方法进行了介绍和分析。     

CuCl2石墨层间化合物原子存在状态的XPS-ESCA研究

采用Ｘ射线光电子分析仪检测石墨层间化合物ＣｕＣｌ２－ＧＩＣ（ｇｒａｐｈｉｔｅ ｉｎｔｅｒｃａｌａｔｉｏｎ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,ＧＩＣ）的Ｃ１ｓ,Ｃｌ２ｐ,Ｃｕ２ｐ谱和Ｃｕ的Ａｕｇｅｒ谱。研究ＧＩＣ的原子状态发现在ＣｕＣｌ２－ＧＩＣ中,铜并不以单一价态存在,而是以价,二价２种价态存在。     

石墨层间化合物（GICs）材料的研究动向与展望 续

5.在物理学化学光谱学等领域对GICs的研究 GICs近十年来的进展应归功于化学、物理及材料科学三个学科的彼此交叉,相互渗透,同时GICs研究的深化也对其它学科的进展作出了积极的贡献。所以GICs的研究是边缘学科与高技术工程学科结合的一个具体体现。     

新型钆石墨层间化合物复合材料的制备及表征

通过Hummers法制备氧化石墨,并以化学吸附法将氯化钆（GdCl3）饱和溶液中的钆离子引入氧化石墨（GO）,合成新型水合碳酸氧钆-氧化石墨层间化合物复合材料。采用XRD、FT-IR和TG-DTA对产物进行分析表征。表明,制备水合碳酸氧钆-氧化石墨层间化合物的最佳质量配比为m（Gd2O3）∶m（EG）=5∶1。通过TG-DTA分析确认,水合碳酸氧钆-氧化石墨层间化合物的还原温度为480℃。     

几种石墨层间化合物溶出伏安行为的研究

本文首次将突出伏安法用于研究Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３；Ｈ２ＳＯ４＋ＫＭｎＯ４；Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３＋ＦｅＣｌ３＋ＫＭｎＯ４等反应介质中制取石墨层间化合物时的溶出伏安行为，发现化学法合成的ＧＩＣ与电化学法合成的ＧＩＣ溶出伏安说线图在反应时间短时相似，随着反应时间增长溶出伏安谱线图则有较大的差异等实验现象。     

气相扩散法制备石墨层间化合物述评

本文从碱金属-石墨层间化合物、碱土金属-石墨层间化合物、稀土金属-石墨层间化合物、金属卤化物-石墨层间化合物、卤素-石墨层间化合物以及其他类型的石墨层间化合物六个方面简要介绍了气相扩散法在石墨层间化合物制备中的应用,指出了气相扩散法存在的问题和进一步的发展方向.     

影响石墨层间化合物导电性与稳定性的结构因素

本文根据近期国内外有关高导电石墨层间化合物的研究。