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ITO透明导电薄膜的制备方法及研究进展 总被引:1,自引:0,他引:1
概述了透明导电薄膜的分类及ITO薄膜的基本性质,综述了用于制备ITO薄膜的磁控溅射法、真空蒸发法、溶胶-凝胶法、喷雾热解法、化学气相沉积法,论述了不同制备方法的优缺点。最后,介绍了ITO薄膜的应用现状,并对ITO薄膜的发展趋势进行了展望。 相似文献
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以五水硝酸铟和乙酰丙酮为原料,以无水氯化锡为掺杂剂,采用溶胶凝胶工艺,用提拉法在石英玻璃基体上制备了ITO透明导电薄膜.采用DTA-TG、XRD、sEM等测试手段对薄膜从凝胶态向结晶态转变过程及微区形貌特点进行了表征,并利用四探针电阻率仪考察了热处理温度、提拉速度、冷却速度、提拉次数等工艺条件对薄膜的导电性能的影响.结果表明:ITO干凝胶膜在600℃热处理温度下完全转化为结晶态,ITO薄膜具有由球形粒子堆积而成的多孔结构;热处理温度与冷却速度均会对ITO薄膜的导电率产生重要影响. 相似文献
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为了对镁合金表面微弧氧化陶瓷膜进行导电改性,采用溶胶-凝胶法在镁合金微孤氧化膜表面制备了掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)透明导电薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、盐雾试验、四探针测试仪等分析测试手段,研究了涂膜层数和退火温度对AZO薄膜的表面形貌、微观结构、耐蚀性和导电性的影响.结果 表明:所制备的导电薄膜由c轴择优取向的六角纤锌矿结构的晶体构成;随着涂膜层数和退火温度的增加,薄膜的方块电阻降低.制备的AZO薄膜自身的耐蚀性较差,并且增加涂膜层数并不能明显改善导电薄膜的耐蚀性.通过研究影响膜层耐蚀性的主要因素,为今后进一步优化工艺从而改善透明导电薄膜的耐蚀性奠定了基础. 相似文献
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随着柔性光电子技术的不断发展,传统的脆性氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜材料已不能满足应用要求。银纳米线(Ag nanowires, AgNWs)透明导电薄膜因具有优异的导电性、透光性和机械性能,在柔性光电子器件中将具有广阔的应用前景。首先总结了AgNWs透明导电薄膜的成膜工艺方法,包括迈耶尔棒涂法、喷涂法、卷对卷涂布法、真空抽滤法和印刷法等。然后,从提高AgNWs透明导电薄膜的光电性能、稳定性、机械性能和与基材的附着力4个方面出发,介绍了各种性能优化处理工艺。最后,展望了AgNWs透明导电薄膜制备及性能优化的未来发展方向。 相似文献
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