预钝化膜的分形生长研究SCIEI

研究了纯Ｆｅ在Ｈ_２ＳＯ_４中从活化态转变成钝化态的预钝化过程．建立并分析预钝化膜生长模型．发现在致钝初期，预钝化膜复盖处的周界曲线维数大于１，预钝化膜的生成以分形方式进行，其维数随钝化电位的提高而提高．这表明不同电位下生成的初期预钝化膜具有不同的结构，也说明了钝态具有耗散结构特征．     

Fe在水溶液中形成钝化膜的结构和性质

从发现钝化现象至今的近两个世纪，Fe钝化膜的结构和性质一直是电化学和材料科学的研究热点．简要概括了Fe表面钝化膜研究的意义及历史，综述了Fe在不同溶液中通过不同方法形成钝化膜的结构与性质的研究过程及现状．在研究过程中已经提出过4种关于Fe在水溶液中形成钝化膜结构模型，但由于实验技术和方法的局限性，这些模型并未能真正反映Fe钝化膜的真实面貌．随着先进技术及方法的引入，对Fe钝化膜的微观结构、组成及防腐机制等的认识越来越深刻．     

铬铝复合钝化膜的XPS研究

对Fe-Cr、Fe-Al、Fe-Cr-Al和Fe-Mn-Al-Cr合金的钝化膜进行了XPS分析研究,并在0.5mol/L H_2SO_4中测定了它们的阳极极化曲线。结果表明:在上述合金的钝化膜中,均出现Cr、Al的富集,但在Fe-Cr-Al合金的钝化膜中,Cr的富集受到抑制。经计算,铬在膜中富集因子ηCr在Fe-5Cr合金为3.7,而在Fe-5Cr-3Al合金的膜中为2.2,在Fe-26Mn-3Al-6Cr合金的钝化膜中,Cr的富集未受到抑制,ηCr,为3.53,与Fe-5Cr的相当。可见,Fe-Mn-Al-Cr合金Cr、Al复合钝化膜的钝性优于同等含Cr量的Fe-Cr合金,更加优于同等Cr、Al含量的Fe-Cr-Al合金。     

非晶态Fe－W镀层铬酸盐钝化膜耐蚀机理探讨

Ｆｅ－Ｗ非晶镀层经铬酸盐钝化处理，可获得具有装饰效果的含Ｃｒ钝化膜。经测定，孔蚀电位较钝化前正移１．６８Ｖ，明显改善了抗ＣＩ－腐蚀的能力。ＡＥＳ与ＸＰＳ的分析结果表明：钝化膜由内外两层构成，外层为Ｆｅ（ＣｒＯ４）３·Ｃｒ２（ＣｒＯ４）３／Ｃｒ２（Ｃｒ２Ｏ７）３·Ｆｅ（ＯＨ）３／ＦｅＯＯＨ·ＷＯ３·ｎＨ２Ｏ等化合物，内层由Ｃｒ２Ｏ３，ＣｒＯ３，ＣｒＯＯＨ，ＦｅＯ，Ｆｅ２Ｏ３及ＷＯ３组成。钝化膜厚度约为６０ｎｍ。该双层饨化膜有效地阻止了Ｃｌ－对基体金属的腐蚀。     

磷化膜的钝化处理

介绍了磷化膜的低铬钝化工艺,经过低铬钝化的磷化膜,抗蚀性可提高30％～50％。低铬钝化工艺具有成本低、环境污染小等特点。     

不锈钢载波钝化膜的光电化学研究

采用光电化学方法研究了304不锈钢载波钝化膜在硼酸／硼砂溶液中的光电化学性质．通过测量钝化膜的光电流与入射光光子能量的关系和光电流与测量电位的关系，结合半导体理论．对载波钝化膜的半导体特性和结构进行了分析．结果表明，载波钝化膜是一高度无序的非晶态半导体膜且具有P型半导体特性．膜层的光电流对测量电位的响应在一定范围内符合Poole-Frenkel效应，但在其它范围内则具有一定的复杂性．     

SUS36不锈钢阳极钝化膜的研究

用恒电位极化、电位衰退、充电曲线和交流阻抗等电化学方法,结合表面分析技术,研究了SUS36不锈钢在H_2SO_4介质中在不同电位下形成的钝化膜的组成及其与耐蚀性的关系。在过钝化区形成的钝化膜,其耐蚀性比较好。     

椭圆偏振法研究镍表面的钝化膜

用椭圆偏振法研究了镍在硼酸盐缓冲溶液中,于初始钝化处(-0.5V,SCE)、稳定钝化处(0.4V)和钝化/过钝化交界处(0.8V)恒电位阳极极化时所生成的钝化膜。分析了钝化膜的厚度、生长动力学规律、成份和生长机理。结果表明:钝化膜的厚度、成份和生长机理都与外加电位有关;在所研究的电位下,钝化膜都具有双层结构;膜生长都先生成外层膜,随后在其下面再生成一层内层膜;内层膜的生长都服从线性规律,外层膜的生长规律分别为线性规律、抛物线规律和对数规律。     

镀锌低铬军绿色钝化膜的研究

介绍了镀锌低铬军绿钝化膜的工艺与性能,系统地比较了不同含铬的镀锌层钝化膜形成过程。     

反应磁控溅射MgO薄膜溅射模式的分形维表征

用反应磁控溅射的方法制备了MgO薄膜，基于原子力显微镜观测，并借助Fourier变换，计算了薄膜表面形貌的分形维数。发现分形维数变化对应于薄膜溅射模式的变化，二者之间有相关性，氧分压30％的分形维数是一个临界点，分形维数若发生明显跌落，意味着溅射模式发生变化，界于临界值两侧的分形维数，分别对应两种截然不同的溅射模式，与临界值对应的溅射状态则处于金属模式和氧化物模式的混和状态。     

氢对纯铁钝化膜电子性质的影响

采用电化学、光电化学和交流阻抗等方法研究了氢对纯铁钝化膜形成过程和电子性质的影响。结果表明氢的存在会延长钝化膜的形成,增加稳态钝化条件下的溶解速率;氢能提高钝化膜光电流、降低禁带宽度;氢促使钝化膜的电容和掺杂浓度升高,并降低膜的平带电位。     

Ni42Cr6Fe合金在高温湿氢中的氧化膜组织结构及生长过程研究

用ＴＥＭ、Ｘ射线衍射、ＳＥＭ等技术研究了Ｎｉ４２Ｃｒ６Ｆｅ玻封合金在高温湿氢中的氧化膜生长过程。氧化初期，Ｃｒ＿（２）Ｏ＿３和尖晶石氧化物同时形核长大，前者在晶界处形核长大，后者在晶内处形核长大。随后由于Ｃｒ的选择氧化，氧化膜主要以Ｃｒ２Ｏ３生长为主．当氧化进行到一定程度后，由于表面层Ｃｒ的贫化，氧化膜生长转化以（Ｆｅ，Ｍｎ）Ｃｒ２Ｏ４尖晶石氧化物生长为主．最后形成表层以粗大晶粒（Ｆｅ，Ｍｎ）Ｃｒ２Ｏ４为主，底部以较小晶粒Ｃｒ２Ｏ３为主，中部由大晶粒（Ｆｅ，Ｍｎ）Ｃｒ２Ｏ４围绕小晶粒Ｃｒ２Ｏ３的稳态氧化膜组成     

低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响

用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si（100）表面低温沉积TiN膜，研究了高密度低能量（≈20eV）离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响．结果表明，高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃，当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji／JTi≥4.7时，沉积的TiN膜仍可具有完全的（200）面择优生长，薄膜微观结构致密，硬度达到25GPa，残余压应力小．     

Co对弧光放电离子镀WC－Co膜生长的影响

利用弧光放电离子镀法获得了难熔超硬ＷＣ－Ｃｏ膜（其中含Ｃｏ为０，４，１５ｗｔ－％）．随着Ｃｏ含量的增加，使真空室里等离子态趋于稳定，并使成膜速度增加；其组织结构为Ｔｈｏｒｎｔｏｎ图里的Ｔ区，并逐渐由柱状晶组织变成致密的组织结构。     

SiC颗粒增强体对铝基复合材料微弧氧化膜生长的影响

用微弧氧化方法在SiCp／2024铝基复合材料表面沉积出较厚的陶瓷膜,测定了陶瓷膜的生长曲线和相组成,提出了金属基复合材料微弧氧化膜生长模型．结果表明,微弧放电烧结作用下,膜层内SiCp增强体大部分已被熔化并氧化,只有少数残余的SiCp颗粒仍然保留在靠近界面的膜层内．SiCp增强体阻碍了微弧氧化膜的生长,但它并未破坏微弧氧化膜的完整性,这同铝基复合材料阳极氧化膜结构完全不同．     

EFFECTS OF SPUTTERING CONDITIONS OF Tb Fe Co MAGNETO OPTICAL FILM ON KERRR OTATION

１．ＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎＩｎｌａｂｏｒａｔｏｒｙ,ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｍａｇｎｅｔｏｏｐｔｉｃａｌｆｉｌｍｉｓｏｆｔｅｎｏｂｔａｉｎｅｄｂｙｕｓｉｎｇｉｎｌａｉｄｔａｒｇｅｔａｎｄｔｈｅｒｅｌａｔｉｏｎｓｈｉｐｓａｍｏｎｇｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ,ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｐａｒａｍｅｔｅｒｓａｎｄｍａｇｎｅｔｏｏｐｔｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓａｒｅｓｔｕｄｉｅｄｂｙｖａｒｙｉｎｇｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｐａｒａｍｅｔｅｒｓ〔１２〕．Ｈｏｗｅｖｅｒ,ｉｎｔｈｅｐｒａｃｔｉｃａｌｍａｇｎｅｔｏ…     

纳米稀土金属Gd的磁性及分形特征

采用惰性气体保护蒸发凝聚技术制备出粒径为４～１５ｎｍ的稀土金属Ｇｄ微粉（ｎｍＧｄ）。经振动样品磁强计测试，表明ｎｍＧｄ微粉在某一特征粒径ｄｃ时磁化率χ取得最小值。利用小角Ｘ射线散射方法分析了ｎｍＧｄ微粉的三维生长分形特征，表明ｎｍＧｄ微粒聚集体系呈质量分形，制备气压越小则分维系数Ｄｆ越小。微粒生长模型是扩散限制聚集（ＤＬＡ）与扩散限制团聚聚集（ＤＬＣＡ）模型共存，相应这两个模型阶段的分维系数Ｄｆ存在一特征粒径ｄｆ。根据纳米微粒理论对ｎｍＧｄ微粉体系的量子尺寸效应的特征尺寸ｄｑ进行了估算，并就三种特征粒径ｄｃ、ｄｆ和ｄｑ进行了分析和比较     

镍阳极氧化膜形成和破坏过程的光电化学响应

测定了镍表面阳极氧化膜在ｐＨ＝８．４硼砂－硼酸缓冲溶液中不同电位下的光电流响应。基于阻抗测量结果的计算表明，钝化膜的平带电位和载流子密度分别为－０．６８Ｖ和１．３×１０（２０）ｃｍ（－３）。对钝化膜和高价氧化膜在形成、生长和破坏过程中的光电流变化进行了现场监测。     

NETWORK FRACTAL AND ANNEALING-INDUCED AGGREGATION OF Cu/a-C:H BILAYER FILMS

The Cu/a-C:H bilayer films,grown far from the equilibrium,have the network fractal struc- ture.Their fractal dimension value D_f=1.83.An in-situ dynamic observation of these films under TEM at slowly heating rate revealed that the initial network fractal structure was dam- aged gradually and broken down completely at 535℃.And as the annealing-induced aggregation developed,the random dispersed aggregates formed gradually,the fractal dimen- sion of the new structure decreased with increasing annealing temperature.Finally,D_f=1.63 at 850℃.Based on the surface and interface diffusion model of the metallic atoms,the varia- tion of the structural character could be explained.