超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响

提出了一种光学抛光的新方法——超声波磁流变复合抛光。介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置,进行了超声波磁流变复合抛光实验,采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线。通过该项工艺实验,研究了五种工艺参数(磁场强度、超声振幅、抛光工具头与工件的间隙、抛光工具头转速、工件转速)对光学玻璃材料去除率的影响。在一定实验条件下,获得的材料去除率为0.139 μm/min,并获得了超声波磁流变复合抛光工艺参数与材料去除率的关系曲线,得出了光学玻璃超声波磁流变复合抛光的材料去除规律。     

D60钨钢电化学机械复合抛光试验研究

为了解决高硬度高耐磨性冲压模材料日本富士D60钨钢的抛光难题,研究了D60钨钢电化学机械复合抛光工艺.在研制了电化学机械复合抛光试验机的基础上,通过对加工间隙、电解液温度、电解液浓度、加工时间等试验参数的正交试验及单因数试验的研究,找到了比较优化的抛光工艺参数.试验表明:在20 min内,能将D60钨钢表面粗糙度从Ra1.51 μm降到Ra0.2 μm左右.     

氮化硅陶瓷滚子磁流变、化学与超声复合抛光工艺试验

为实现氮化硅陶瓷滚子抛光的高效、高精度要求,提出磁流变、化学与超声复合的抛光工艺方法。分析复合抛光的加工机理;利用试验机,在不同工艺参数下进行了复合抛光工艺试验,分析各主要工艺参数对抛光材料去除率和滚子表面粗糙度的影响规律,确定出复合抛光的最佳工艺参数。结果表明:复合抛光后陶瓷滚子表面粗糙度Ra由0.3μm减小至0.03μm;在最佳工艺参数下,滚子能够在保持较高材料去除率的同时获得较好的表面质量;材料去除过程主要是磁流变抛光的剪切作用、超声波抛光的冲击作用以及抛光过程中一系列化学反应综合作用的结果。     

模具电化学抛光的优越性

模具的抛光现在仍然是一个难题。一般是机械旋转抛光及超声波抛光，但对电化学抛光还比较生疏，缺乏这方面的技术及经验。文中介绍一种电解抛光设备，为模具及复杂工件的抛光探索了一条行之有效的途径。     

不锈钢表面复合抛光工艺研究

阐述了不锈钢表面复合抛光原理,研究分析确立了先进行前期机械抛光处理不锈钢表面至Ra 0.2μm然后进行复合抛光,最后进行电化学光亮化处理的大面积抛光工艺路线,重点研究了前期机械抛光处理和复合抛光工艺参数,介绍了复合抛光技术特性指标和工业应用效果。     

新型复合表面抛光技术

随着生产技术的不断进步,为了提高抛光效果,出现了化学一机械抛光(Chemical-MechanicalPolishing,简称CMP)、电解一机械抛光、超声波一电解抛光、磁力一电解抛光等多种复合抛光技术.为适应现代工业对抛光技术进展的需要,对几种复合抛光方法的原理、特点以及应用范围进行了叙述和总结.     

模具型腔电化学抛光新工艺

模具型腔的光整加工一直是模具加工中的难题。常采用手工方法,加工效率极低。若采用电化学抛光的方法,能有效地解决。抛光效率比手工方法提高数十倍。用电化学抛光金属零件虽早被应用,但抛光模具型腔尚未见到采用。我们对CrWMn,3Cr2W8V和Cr12等三种材料的模具进行了抛光试验。实验结果表明,采用电化学抛光可使模具型腔的粗糙度在原来的Ra3.2～1.6μm基础上降低到Ra0.4～2.2gμm,抛光时间仅5～14分钟,是一种比较理想的抛光方法。     

微秒级脉冲电化学抛光工艺的研究

介绍了微秒级脉冲斩波器的研制以及不锈钢表面的脉冲电化学抛光工艺,通过工艺试验,初步分析了各脉冲参数、加工时间等工艺参数对抛光质量的影响,与直流电及宽脉冲作用下的电化学抛光相比,获得了更好的加工效果.     

基于铜基聚氨酯复合抛光阴极的电解机械复合抛光试验研究

阐述了电解机械复合抛光的工艺及原理,并应用铜基聚氨酯复合抛光轮对YG20硬质合金进行平面抛光试验,分析了各种工艺参数对表面粗糙度的影响,找出了加工电压、工具转速、进给速度、磨削压力等对YG20硬质合金电解机械复合抛光的影响规律。试验表明,只要选配优化的工艺参数,采用此法可以获得Ra0.16μm的表面粗糙度,同时铜基聚氨酯复合抛光轮的寿命较长,是一种可用于工业化电解机械复合抛光的阴极工具。     

超声振动协同化学辅助固结磨粒抛光技术的开发

传统化学机械抛光是硅片获得超光滑表面的常见加工方法,这种游离磨粒的化学机械抛光的加工效率及加工表面质量低,加工时需大量使用对环境污染严重的化学抛光剂,特别是硅片直径的不断增大而导致加工困难等方面所表现的问题越来越突出。因此提出了一种超声椭圆振动协同化学作用辅助固结磨粒的复合抛光硅片新技术,并对此加工机理进行了理论分析。研制了复合抛光装置,对抛光工具设计进行了详细论述,在此基础上开展了硅片复合抛光与传统抛光的对比试验研究。试验结果表明,在相同的试验条件下,复合抛光技术不但硅片抛光表面质量得到改善,而且抛光效率也得到提高。该方法为硅片的精密加工探索了一种新方法。     

工艺方法上的机电一体化和复合抛光

提出了工艺方法上也要发展机电一体化的观点，列举了机电一体化的诸多工艺方法，提供了开发电化学研磨复合抛光中所取得的一些效果，简短地议论了在我国进一步研究，开发和推广复合抛光等机电一体化工艺方法的途径。     

基于神经网络的脉冲电化学抛光建模方法研究

提出了通过建立径向基函数（RBF）神经网络模型对混粉脉冲电化学抛光效果进行预测的方法。在对影响混粉脉冲电化学抛光效果的因素进行分析和合理选择的基础上,确定了RBF神经网络模型的特征参数和目标参数。利用试验结果对模型进行训练学习,确定了RBF网络模型。利用该模型进行了表面粗糙度预测,预测结果与实际试验结果有较好的一致性,说明RBF神经网络对混粉脉冲电化学抛光效果的预测是有效的。     

型腔模具的电解抛光

随着我国社会主义建设的迅速发展,应用电火花加工模具已越来越广泛。但是,目前为提高加工后型腔模的表面光洁度,主要还是依靠手工抛光。由于电火花加工后的模具表面产生了硬化层,因此手工抛光十分困难。为改变这种落后的局面,我们对电解抛光工艺进行了多次反复试验。现简单介绍如下: 一、电解抛光的基本原理(附图) 电解抛光实际上就是利用电化学阳极溶解的原理进行金属表面的抛光。目前,电解抛光的机理还没有一套完整的理论。对于“粘膜假说”,我们认为     

304不锈钢的微弧等离子体放电抛光机理与试验研究

针对目前用于抛光不锈钢的方法普遍存在抛光质量差、抛光效率低以及环境污染严重的问题,本文以304不锈钢为加工对象,将电化学加工与放电加工相结合,提出了微弧等离子体放电抛光方法。基于电化学理论和流注理论对微弧等离子体放电抛光机理进行了研究。通过设计正交试验并采用田口分析法和方差分析法对试验结果进行了分析,找到了关于材料去除率和表面粗糙度的优化参数组合并进行了试验验证。结果表明,电源电压、抛光时间和电解液温度对材料去除率具有显著影响,抛光时间和电源电压对表面粗糙度具有显著影响。微弧等离子体放电抛光304不锈钢的材料去除率最大可以达到11.73μm/min,表面粗糙度最小可以达到29.1 nm。     

磁力电解复合抛光中磁场作用的分析

通过对磁力电解复合抛光中垂直、平行、往复交替的磁场对带电粒子运动轨迹的分析,发现磁场并不能显著提高带电粒子的速度,而是改善电化学的条件;另外,通过比较平行电场的磁场和垂直与电场的磁场,发现在磁力电解复合抛光中有更好的效果。     

S136不锈钢电解机械复合抛光

为了解决S136不锈钢机械抛光和电化学抛光存在的效率低、质量差、污染大等问题而进行电解机械复合抛光的研究。根据S136不锈钢的化学特性,使用新型电解液,结合高频窄脉冲电源对其进行电解机械复合抛光实验,通过调整加工参数,使不锈钢工件的表面粗糙度降低到Ra0.08μm。与其它抛光方式相比,该方法具有污染小、成本低、效率高、加工质量好等优点。     

光整光饰技术在滚动轴承加工制造中的应用

在总结目前滚动轴承加工制造的终加工工序及光整加工概念的基础上,主要论述了滚动轴承的振动抛光方法及加工机理,以及滚动轴承自修磨技术(ART)的加工机理及应用特点,并进一步提出了光整加工新技术、新工艺,如电化学加工、磁流变抛光、超声波磁流变复合抛光、电泳抛光、磨料流抛光等在滚动轴承加工制造中的应用,以期改变传统滚动轴承的抛光要求,在提高表面光洁度的基础上,进一步提高滚动轴承的几何精度和力学性能。     

电化学抛光模具的特点

电解抛光是利用电化学阳极溶解的原理对金属表面进行抛光的一种效率较高的加工方法。现以国产DMP—12型电化学机械修磨抛光机为例介绍电化学抛光的优越性,供读者参考。(1)不受材料硬度和韧性的限制电化学抛光可加     

无磨料超声抛光工艺参数优选试验研究

以45钢轴件为加工对象进行无磨料超声抛光工艺试验,优选工艺参数,探索各工艺参数对表面粗糙度的影响.试验结果表明,工艺参数对加工表面粗糙度影响顺序为进给量、超声波发生器的输出功率、抛光预压力和工具头半径;表面粗糙度值随进给量的增大而增大,而工具头半径、预压力和超声波发生器的输出功率对表面粗糙度的影响曲线为驼峰曲线,过大或过小的工艺参数均影响抛光效果.     

超精密CMP电化学抛光试验台关键部件的设计

由于化学机械抛光(CMP)中机械和化学作用同时发生在芯片抛光过程中,因此,传统的电化学测试仪难以动态测试CMP中芯片表面成膜的过程。将传统CMP设备与电化学测试分析仪相结合,开发新型电化学CMP测设平台。研究关键部件抛光头和抛光盘的设计,采用ANSYS进行传感器弹性体的标定与设计,并进行电化学分析试验的验证。结果表明开发的测试平台数据采集稳定,工作平稳,基本达到设计目标。