首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到18条相似文献,搜索用时 78 毫秒
1.
本文叙述了用反面处理铜箔生产覆铜箔层压板的优越性.  相似文献   

2.
概述了在铜箔表面上形成Si,Zr,Ti的氧化物或氢氧化物膜层的铜箔表面处理工艺,可以获得粗化的铜箔表面,进而提高了覆铜箔板的剥离强度和焊接耐热性。  相似文献   

3.
本文详细介绍了超薄铜箔的结构和制造方法,并对两种结构的超薄铜箔在HDI线路板的应用作了对比,研究了蚀刻速率和剥离强度特性以及图形电镀、激光钻孔的工艺,为超薄铜箔的实际应用提供了可靠的依据。  相似文献   

4.
蔡积庆 《印制电路信息》2007,7(12):42-47,54
概述了电解铜箔"U-WZ箔"和"DFF箔"的开发和特性,它们适用于COF用途等挠性覆铜板的铜箔。  相似文献   

5.
一、本溪电解铜箔项目的开发 本溪是中国电解铜箔的发源地,电解铜箔从奉溪走向全国,本溪电解铜箔初期的发展史也是中国电解铜箔的创业史。[第一段]  相似文献   

6.
辜信实 《覆铜板资讯》2004,(2):42-46,38
本文主要介绍挠性覆铜板用铜箔的最新发展。  相似文献   

7.
PCB用铜箔市场现状与展望   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文简要介绍了PCB用铜箔的发展历程、目前我国PCB用铜箔市场的现状与发展以及铜箔生产领域的进入原则.  相似文献   

8.
《印制电路资讯》2007,(5):38-38
中科英华拟定向增发4000—80007股,募集10亿投向青海与西部矿业的1万吨铜箔及惠州联合铜箔35000E扩产计划。[第一段]  相似文献   

9.
根据我国电解铜箔的发展现状,结合铜箔市场的特点,综合分析了我国电解铜箔产业的特点,提出制约我国铜箔发展的关键因素在于生产工艺理论不完善,铜箔项目建设缺乏对用户研究,铜箔技术研究错位。  相似文献   

10.
概从电解铜箔生产的各工序来介绍铜箔的质量控制。  相似文献   

11.
应用于HDI/BUM技术领域的超薄铜箔   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了一种比较新颖的、技术要求比较高的,能广泛应用于HDI技术领域的超薄铜箔,并且通过其在图形电镀中的应用及激光钻孔后的电镀效果研究,可以充分体会到这种铜箔优异的性能。  相似文献   

12.
电解铜箔产业发展趋势   总被引:4,自引:0,他引:4  
金荣涛 《印制电路信息》2003,34(2):22-24,31
随着技术的进步,电解铜箔在厚度上迅速向薄、超薄方向发展,THE、RCC、CAC等特殊性能铜箔需求比例快速 增加,以锂离子电池为代表的新应用领域正在形成。  相似文献   

13.
概述了附载体极薄铜箔和附树脂极薄铜箔制造工艺,特别适用于制造高密度超精细线路的多层板。  相似文献   

14.
FPC用压延铜箔   总被引:1,自引:0,他引:1  
概述了挠性覆铜箔板(FCCL)用的具有超高弯曲性和高性能的压延铜箔的开发和压延铜箔的弯曲可靠性评价。它适应了高弯曲性和高性能FPC的市场要求。  相似文献   

15.
探讨了积层印制板的制作时,内层铜箔的氧化处理对剥离强度影响,以及通过铜箔外观颜色来判断氧化处理条件。  相似文献   

16.
浅谈铜箔设备的发展   总被引:1,自引:0,他引:1  
文章重点介绍电解铜箔设备的发展历史及未来的发展趋势。  相似文献   

17.
文章介绍了在电解铜箔的生长过程中所产生的废水回收再利用的新技术成果。  相似文献   

18.
介绍电解铜箔透光点产生的各种原因及对策。  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号