高分辨电子显微像结合1000keV电子衍射测定"Pb"-1223的无公度调制结构

（Ｐｂ０．５Ｓｒ０．３Ｃｕ０．２）Ｓｒ２（Ｃａ０．６Ｓｒ０．４）２Ｃｕ３Ｏｙ（简称“Ｐｂ”－１２２３）是一维无公度调制结构［１］，超空间群是Ｐｍｍｍ（ν０１／２）［２］。其基本结构的晶胞参数ａ＝ｂ＝０．３８２ｎｍ，ｃ＝１．５３ｎｍ，调制波矢为：ｑ＝０...     

MBE法生长的调制掺杂GaAs／Al＿xGa＿（1－x）As异质结构材料的输运特性研究

采用变磁场霍尔效应方法，在低磁场（Ｂ＜０．６Ｔ）和低温（Ｔ＝７７Ｋ）条件下，研究了ＨＥＭＴ器件用调制掺杂ＧａＡｓ／Ａｌ＿ｘＧａ＿（１－ｘ）Ａｓ异质结构材料的输运特性。给出了材料电学参数（ρ、ｎ和μ）与Ｂ的依赖关系，揭示了平行电导对材料质量的影响，并对上述依赖关系作了初步的定量分析。     

激光二极管泵浦的固体激光新材料LaBGeO_5－Nd~（3＋）

激光二极管泵浦的固体激光新材料ＬａＢＧｅＯ＿５－Ｎｄ￣（３＋）１．ＬｎＢＧｅ２Ｏ４（Ｌｎ＝Ｌａ－Ｅｒ和Ｙ）在结构上分为两类。有较大Ｌｎ（Ｌａ－Ｐｒ）者具有ＣｅＢＳｉＯ５的非对称结构（Ｃ２３—Ｐ３１空间群），有较小Ｌｎ（Ｇｄ－Ｅｒ和Ｙ）者具有ＣａＢＳｉ...     

Al＿xGa＿（1－x）A＿s和GaA＿s材料的物理参数模型

本文较系统和全面地总结了ＧａＡ＿ｓ和Ａｌ＿ｘＧａ＿（１－ｘ）Ａｓ材料的物理参数模型，包括介电常数、能带参数、载流子迁移率以及复合机制和寿命等，给出了易于应用的数学公式，其中Ａｌ＿ｘＧａ＿（１－ｘ）Ａ＿ｓ重掺杂能带窄变公式为本文首次推导。这些物理参数模型对于Ａｌ＿ｘＧａ＿（１－ｘ）Ａｓ／ＧａＡｓ异质结器件的研究有着十分重要的意义。     

在含有InSb非晶过渡层的GaAs衬底上用分子束外延生长InSb薄膜

在（１００）取向半绝缘ＧａＡｓ衬底上，采用独特的含有ＩｎＳｂ非晶过渡层的两步分子束外延（ＭＢＥ）生长了异质外延ＩｎＳｂ薄膜。ＩｎＳｂ外延层表面为平滑镜面，外延层厚度约为６μｍ，导电类型为ｎ型，室温（３００Ｋ）和液氮（７７Ｋ）霍尔载流子浓度分别为ｎ＿（３００Ｋ）：２．０×１０￣（１６）ｃｍ￣（－３）和ｎ＿（７７Ｋ）：２．４×１０￣（１５）ｃｍ￣（－３）；电子迁移率分别为μ＿（３００Ｋ）：４１０００ｃｍ￣２Ｖ￣（－１）Ｓ＿（－１）和μ＿（７７Ｋ）：５１２００ｃｍ￣２Ｖ￣（－１）Ｓ￣（－１）。ＩｎＳｂ外延层双晶衍射半峰宽为１９８ａｒｃｓ，最好的ＩｎＳｂ外延层的半峰宽小于１５０ａｒｃｓ。采用ＩｎＳｂ非晶过渡层有效地降低了外延层中的位错密度，改善了ＩｎＳｂ外延层的质量。     

集电区阶梯缓变InGaAsP层的具有超高f＿（max）、f＿T的双异质结双极晶体管

本文用不同的发射极宽度和长度与集电极电流Ｉ＿ｃ和集电极－发射极问电压Ｖ＿ＣＥ的函数关系研究了集电区含ＩｎＧａＡｓＰ层、基区为Ｚｎ高掺杂的小尺寸ＩｎＰ／ＩｎＧａＡｓＤＨＢＴ的高性能。结果表明，减小发射极宽度比减其长度能更有效地提高，０．８μｍ发射极金属条宽的ＤＨＢＴ在Ｉ＿ｃ＝４ｍＡ的小电流时，具有超出超高的ｆ＿（ｍａｘ）和ｆ＿Ｔ，其数值分别为２６７ＧＨｚ和１４４ＧＨｚ，ｆ＿（ｍａｘ）的增加归结为基区电阻和降低了的Ｂｃ结电容乘积的降低。     

Si／Ge_xSi_（1－x）结构中的高分辨率反应离子刻蚀及损伤

Ｓｉ／Ｇｅ＿ｘＳｉ＿（１－ｘ）结构中的高分辨率反应离子刻蚀及损伤＝Ｈｉｇｈ－ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｒｅａｃｔｉｖｅｉｏｎｅｔｃｈｉｎｇａｎｄｄａｍａｇｅｅｆｆｅｃｔｓｉｎｔｈｅＳｉ／Ｇｅ＿ｘＳｉ＿（１－ｘ）ｓｙｓｔｅｍ［刊，英］／Ｃｈｅ－ｕｎｇ．Ｒ．…...     

三元合金（GaSb）1—xGe2x,（InP）1—xGe2x的亚稳有序无序相变以及相变…

根据普适参数紧束缚方法得到的最近邻对原子相互作用能以及改进的Ｋｉｋｕｃｈｉ近似，我们计算了合金（ＧａＳｂ）１－ｘＧｅ２ｘ，（ＩｎＰ）１－ｘＧｅ２ｘ的亚稳相图，在计算亚稳相图时，Ｇｅ原子取为无序分布以消除相分离，对于亚稳合金（ＧａＳｂ）１－ｘＧｅ２ｘ，相应于亚稳有序无序相转变点的临界转变浓度Ｘ０为０．２６，对于亚稳合金（ＩｎＰ）１－ｘＧｅｘ，ｘ０为０．１６，计算机值及实验值符合较好，根据关联虚晶近似     

染料激光泵浦Nd:GdCOB实现基频光和自倍频光运转

ＮｄＣａ４ＧｄＯ（ＢＯ３）３（简称ＮｄＧｄＣＯＢ）是一种新型自倍频晶体。ＢｄＣＯＢ属单斜双轴晶,空间群为Ｃｍ,晶胞参数为ａ＝０．８０９５ｎｍ,ｂ＝１．６０１８ｎｍ,ｃ＝０．３５５８ｎｍ,β＝１０１．２６°。吸收光谱呈强烈偏振特性,Ｅ∥ｘ具有最强的吸收...     

过取样△∑调制技术（四下）──插值滤波器

过取样△∑调制技术（四下）──插值滤波器东南大学骆立俊，邹家禄一、前言过取样ＤＡＣ系统的框图如图１所示，过取样插值滤波器框图和对应各点的信号与频谱如图２所示。其中输入信号ｘ（ｎ）是高分辨率、频率为ｆ＿ｎ＝２ｆ＿ｂ的数字信号，ｆ＿ｂ为模拟输入信号的最高...     

MBE生长InGaAs／GaAs应变层单量子阱激光器结构材料的研究

采用ＶａｒｉａｎＧｅｎⅡＭＢＥ生长系统研究了ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ应变层单量子阶（ＳＳＱＷ）激光器结构材料。通过ＭＢＥ生长实验，探索了Ｉｎ＿ｘＧａ＿（１－ｘ）ｔＡｓ／ＧａＡｓＳＳＱＷ激光器发射波长（λ）与Ｉｎ组分（ｘ）和阱宽（Ｌ＿ｚ）的关系，并与理论计算作了比较，两者符合得很好。还研究了材料生长参数对器件性能的影响，主要包括：Ⅴ／Ⅲ束流比，量子阱结构的生长温度Ｔ＿ｇ（ＱＷ），生长速率和掺杂浓度对激光器波长、阈值电流密度、微分量子效率和器件串联电阻的影响。以此为基础，通过优化器件结构和ＭＢＥ生长条件，获得了性能优异的Ｉｎ＿（０．２）Ｇａ＿（０．８）Ａｓ／ＧａＡｓ应变层单量子阱激光器：其次长为９６３ｎｍ，阈值电流密度为１３５Ａ／ｃｍ￣２，微分量子效率为３５．１％。     

Ce_xSi_（1－x）应变层的电和光带隙

Ｃｅ＿ｘＳｉ＿（１－ｘ）应变层的电和光带隙＝ＥｌｅｃｔｒｉｃａｌａｎｄｏｐｔｉｃａｌｂａｎｄｇａｐｓｏｆＣｅ＿ｘＳｉ＿（１－ｘ）ｓｔｒａｉｎｅｄｌａｙｅｒｓ［刊，英］／Ｊａｉｎ，Ｓ．Ｃ．…ＩＥＥＥＴｒａｎｓ．Ｅｌｅｃ．Ｄｅｖ．－１９９３，４０（１２）...     

三元合金 （GaSb）_（1－x）Ge_（2x），（IuP）_（1－x）Ge_（2x） 的亚稳有序无序相变以及相变对于能隙的影响

根据普适参数紧束缚方法得到的最近邻对原子相互作用能以及改进的Ｋｉｋｕｃｈｉ近似，我们计算了合金（Ｇａｓｈ）１－ｘＧｅ２ｘ，（ＩｎＰ）１－ｘＧｅ２ｘ的亚稳相图．在计算亚稳相图时，Ｇｅ原子取为无序分布以消除相分离．对于亚稳合金（Ｇａｓｈ）１－ｘＧｅ２ｘ，相应于亚稳有序无序相转变点的临界转变浓度ｘｃ为０．２６，对于亚稳合金（ＩｎＰ）１－ｘＧｅ２ｘ，ｘｃ为０．６１．计算值与实验值符合较好．根据关联虚晶格近似我们还计算了合金的能隙．     

GaAs／AlGaAs多量子阱红外探测器材料研究

本文报道ＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ多量子阱长波长红外探测器材料的制备及其性能．这种材料由ＧａＡｓ阱和ＡｌＧａＡｓ势垒组成，除内ｎ型掺杂，具有５０个周期．利用分子束外延技术成功地生长出了大面积（２英寸）均匀（厚度△ｔ＿ｍａｘ／≤３％，组分△　ｘ＿ｍａｘ／ｘ≤３．４％，掺杂浓度△ｎｍａｘ／ｎ≤３％，椭圆缺陷≤３００ｃｍ－２）的外延材料．分析了暗电流的成因，通过加厚势垒（Ｌｂ≥３００）、控制掺杂（ｎ≤１×１０￣１８ｃｍ￣３）、精确设计子带结构，将暗电流降低了几个数量级，同时使电子的输运得到了改善．由此得到了高质量的     

二维傅里叶变换及其在红外系统分析中的应用

第二讲空间滤波器的分析３．６被半径为ａ的圆孔径限制的平行幅条函数设平行幅条的周期间隔为ｘ０＝１／ｋ０，则ｐ６（ｘ，ｙ）＝Ｃｉｒｃ（ｒ／ａ）·ｐ４（ｘ）由第一讲中公式（８）得：ｐ６（ｆｘ，ｆｙ）＝ａＪ１（２πａＦ２ｘ＋ｆ２ｙ）ｆ２ｘ＋２ｙ１２δ（ｆｘ...     

第六讲 过取样△Σ调制技术（四上）──疏值滤波器──

第六讲过取样△Σ调制技术（四上）──疏值滤波器──东南大学邹家禄，骆立俊一、前言过取样疏值滤波器框图和对应的频谱如图１所示。其中输入信号Ｘ（ｎ）是速率为ｆ＿ｓ＝２Ｍｊ＿ｂ的过取样△Σ调制器输出比特流信号，Ｍ为疏值因子，ｆ＿ｂ为模拟输入信号的最高频率。...     

Fe或Ni元素对Zr4Co4Si7晶体结构的影响

利用高分辨电子显微术结合计算机像模拟技术研究了Ｚｒ４Ｃｏ４Ｓｉ７的晶体结构。结果表明，Ｚｒ４Ｃｏ４Ｓｉ７（Ｚｒ４Ｃｏ４Ｇｅ７型）结构为体心四方点阵，点阵常数ａ＝１．２９３５ｎｍ，ｃ＝０．５０９０ｎｍ，空间群为Ｉ４／ｍｍｍ，用Ｆｅ或Ｎｉ元素置换Ｚｒ４Ｃｏ４Ｓｉ７结构中的部分Ｃｏ原子后，并不改变结构点阵类型及点阵中原子的配位关系，点阵常数变为：Ｚｒ４Ｃｏ４Ｓｉ７结构中的部分Ｃｏ原子后，并不改变结构点阵     

采用氧离子注入制作的重碳掺杂基极高f_（max）集电极AlGaAs异质结双极晶体管

采用氧离子注入制作的重碳掺杂基极高ｆ＿（ｍａｘ）集电极ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ异质结双极晶体管＝Ｈｉｇｈｆ＿（ｍａｘ）ｃｏｌｌｅｃｔｏｒ－ｕｐＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓｂｅｔｅｒｏｊｕｎｃｔｉｏｎｂｉｐｏ－ｌａｒｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓｗｉｔｈａｂｅａｖｉｌ...     

硅化物／变形Si_（1－x）Ge_x肖特基势垒红外检波器

硅化物／变形Ｓｉ＿（１－ｘ）Ｇｅ＿ｘ肖特基势垒红外检波器＝Ｓｉｌｉｃｉｄｅ／ｓｔｒａｉｎｅｄＳｉ＿（１－ｘ）Ｇｅ＿ｘｓｃｈｏｔｔｋｙ－ｂａｒｒｉｅｒｉｎｆｒａｒｅｄｄｅｔｅｃｔｏｒｓ［刊，英］／Ｘｉａｏ，Ｘ，…／／ＩＥＥＥＥｌｅｃ－ｔｒｏｎＤｅｖｉｃ...     

离子注入法（IBS）合成新FeSi2相的显微结构研究

本文主要以电子显微镜为手段研究了离子注入形成的ＦｅＳｉ２薄膜的微观结构，发现一种新的ＦｅＳｉ２相，这种相的晶格参数与已知的β－ＦｅＳｉ２相相似，但是它的点群和空间群分别为ｍｍｍ和Ｐｂｃａ。