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对碳纳米管阴极的制备以及场发射显示器的真空封装技术进行了研究.利用一种新的碳纳米管生长工艺制备出了具有优良场发射性能的碳纳米管阴极.并将这种直接生长的碳纳米管薄膜作为阴极,结合一种弹性封装工艺,开发了一种具有简单字符显示功能的场发射显示器.该显示器在较低的工作电压下就可获得高亮度的显示效果,并且器件的亮度与驱动电压成较好的线性关系,这将有利于未来的碳纳米管场发射显示器实现高亮度和多级灰度显示.器件的持续工作寿命测试已经超过5500小时,充分验证了碳纳米管作为场发射阴极的应用潜力. 相似文献
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提出了一种新型阴极结构使发射电子束会聚以减小像素。用ANSYS软件模拟凹面阴极CNT-FED的发射过程。将凹面阴极发射与平面阴极发射进行比较,并对影响会聚的重要参数进行研究。试验结果表明,凹面阴极发射电子束会聚明显。随着凹面曲率逐渐变大,电子束会聚增强,阳极光斑半径逐渐减小。进一步增大凹面曲率,电子束发生交叉,光斑半径逐渐变大。适当的参数组合可使电子束会聚在阳极上很小的区域内,自会聚阴极可用于低功耗CNT-FED的设计。 相似文献
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本文介绍显示技术的新发展,场发射显示技术的掘起,场发射技术及真空技术,微显示技术的发展,从崦论述了我国场发射显示技术的研究方向。 相似文献
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针对现有的碳纳米管场发射显示器(CNT-FED)制造技术中存在的工艺复杂、成本过高的问题,利用通信光纤,通过烧结炉热处理的方法制作出了一种直径为125 μm的石英玻璃光纤支撑墙,并将其切为30 mm、50 mm 2种长度.根据设计结果,用自制的简易支撑墙定位装置,按10 mm等间距交错位排列该支撑墙,并在同一线上相邻光纤间留8 mm间隙.结合阴、阳极丝网印刷工艺,设计制作了一种显示面积为118 mm×123 mm、像素点数为64×64和可矩阵寻址的二极结构纤维支撑墙CNT-FED,并实现了动态显示. 相似文献
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碳纳米管场致发射显示器是一种新型的真空器件,也是一种具有巨大应用潜力的平板型显示设备。本文详细地介绍了碳纳米管场致发射原理,给出了碳纳米管阴极平板显示器的基本结构和工作原理,对于显示器件的真空封装,碳纳米管阴极装配,控制栅极制作等工艺问题进行了阐述和研究。采用这些技术,已经研制出了碳纳米管阴极场致发射显示器的样品。 相似文献
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真空微电子平板显示器(FED)进展述评 总被引:2,自引:0,他引:2
本文描述了场致发射阵列平板显示器(FieldEmissionDiplay)工作原理,和其他平板器件性能的比较,关键技术及未来市场发展前景。 相似文献
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碳氮纳米管薄膜及其场致电子发射特性 总被引:2,自引:2,他引:2
利用微波等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃衬底上600℃~650℃的低温下制备出了碳氮纳米管薄膜,氮含量为12%,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子谱(XPS)和Raman光谱等测试手段对所制备薄膜的表面形貌、微结构和成分进行了分析,并研究了其场致电子发射特性,阈值电场为3.7V/μm。当电场为8V/μm时,电流密度为413.3μA/cm^2,实验表明该薄膜具有优异的场发射性能,而且用这种方法制备的薄膜将大大简化平板显示器件的制作工艺。 相似文献
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场致发射显示器的现状与发展 总被引:18,自引:0,他引:18
通过对场致发射显示器(FED)发展现状及其应用前景进行系统的比较与分析,着重讨论了场致发射体与其阵列制备工艺以及各种关键技术的优缺点,并介绍国外著名公司的研究动态,展望FED的发展趋势。 相似文献
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