工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪

石英晶体胰厚监控仪已广泛应用于蒸发镀膜,离子刻蚀厚度的精细控制和真空系统污染监测等方面.但一般的石英晶体膜厚监控仪使用的蒸发型探头却不能在溅射系统放电区中正常工作.实践表明,在溅射系统中,由阴极靶发射的二次电子碰撞测量晶体而引起的热应力是导致石英晶体膜厚监控仪测量失效的主要原因.为此,对测量探头做了改造,设计了一种带偏转磁场的溅射型测量探头,使石英晶体膜厚监控仪能在平面直流磁控溅射镀膜系统中稳定地作原位置膜厚监控.为了对测量计算公式进行修正,用实验确定了修正因子.     

日本企业研制出一体化镀膜测量装置

物理化学设备研究开发风险企业日本Mierotec Nition以司(总部：日本千叶县船桥市)开发成功了名为“生物反射计(Bio-Reflect Meter)BLUE SKY RM-8000”的测量装置，一台装置可完成膜厚测定、附着性测定和吸附量分析等多种功能，该设备主要用于镀膜的研究与开发。并在2005年5月18日于东京Bigsight国际会展中心举办的“国际生物技术综合展”上展出了测定装置的量产款式。     

扫描电子显微镜在光伏原辅材料检验中的应用

采用扫描电子显微镜对镀膜玻璃、硅片、焊带、背板等光伏原辅材料进行测试及分析,分别介绍了扫描电子显微镜在镀膜玻璃膜层结构观察、膜厚测量、硅片表面形貌及间距分析、焊带表面微观分析、背板类型分辨、各层厚度测量等方面的应用,其结果可为镀膜玻璃的性能研究、电池片工艺优化分析、焊带性能评估、背板验货及鉴定等光伏原辅材料的研究及测试提供依据。     

真空离子镀铬合金厚膜替代电镀硬铬工艺研究(一)

离子镀功能厚镀膜主要用于提高工件耐磨性和耐蚀性,膜层厚度40μm以上。离子镀铬合金厚镀膜代替电镀硬铬工艺研发,已取得满意成果,可以投入工业生产,可以向社会提供技术及专用设备。     

90年代大面积真空镀膜的展望

用蒸发方法镀制金属镜是早期商用大面积真空镀膜技术之一。对早期的这些应用来讲,只要膜的光学密度及膜与基底的附着力满足了基本要求就行,而对膜厚及均匀性等均未作特殊控制。时至今日,大面积真空镀膜已从简单的制镜以及在“钟罩”内在刚性单个物品上镀膜发展到包括用卷绕式镀膜设备在纸及塑料基底上连续制备薄膜。这些大面积镀膜技术已得到了很广泛的应用,它们包括电容器的金属化聚合物膜、包装材料的装饰膜、建筑玻璃镀膜、工艺装饰品镀膜,反射镜面和透镜镀膜以及防眩 CRT 屏等。新的市场需求、技术进步     

基于遗传算法的Low-E膜系中透明介质膜层均匀性在线分析

本文针对离线Low-E镀膜玻璃生产控制过程中对厚度均匀性的需求,提出依据在线测试膜层膜面反射光谱数据,建立柯西光学模型利用遗传算法分析膜层厚度均匀性的方法。采用的在线光谱测量装置安装于镀膜设备产品出口端,在镀膜玻璃宽度方向可以测量24个位置的380~780nm波长范围。研究表明在分析过程利用各点平均光谱由遗传算法分析获得膜层折射率及平均厚度,针对性地建立膜层材料在特定厚度范围内的颜色与厚度关系,在保证分析结果正确性的同时提高了数据分析效率。     

采用改进型多弧离子镀膜设备镀制装饰膜层的研究

针对目前国内多弧离子镀膜领域存在的智能化水平不高和大颗粒污染问题,我们通过设备改进,增加了可编程逻辑控制器和磁过滤器.以装饰镀膜中常用的二氧化钛膜为研究对象,对比了设备改进前后膜层的性能.X射线衍射测试表明所制备的二氧化钛膜层为金红石相.改进后的设备制备的膜层基本看不到大颗粒的存在,且膜层的绿色更加鲜艳.同时,由于设备的智能化水平提高,使得产品的性能非常稳定,随机抽取的5个样品不论从外观看还是通过反射率测试,性能几乎一样.     

第十九讲 真空溅射镀膜

<正>(接2016年第4期第80页)(2)膜层沉积不均匀薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。任何一种有实际应用价值的薄膜,都对膜厚分布有特定的要求,都要求所镀的膜层厚度尽可能均匀一致,有尽可能好的膜厚均匀性。提高膜厚均匀性有多种方法,比如将溅射靶源和基片放置在合适的位置,采用旋转基片,增加遮挡机构等等。对于磁控溅射镀膜,理想的     

基于LabWindows/CVI在线膜厚控制仪软件设计

为实现复杂光学膜层的连续稳定镀制,提高生产效率,减少废品损失,利用Labwindows CVI 8.0软件和NI DAQmx 8.0函数支持库开发膜厚自动监控软件,结合数据采集和控制扩展卡,在工控制机内完成数据的采集、分析、计算、存储和显示,构成在线膜厚控制仪主体,控制镀膜机主机及其附属设备,在线实时监控镀膜工艺过程,使实际膜系曲线和理论设计曲线拟合,构成镀膜工艺的在线监控和自动化控制。     

蒸发镀膜基片工装改进与镀膜均匀性研究

红外滤光片,尤其是中长波红外窄带滤光片等光谱指标要求较高的红外光学薄膜,膜层厚度能达到几十微米,因而对膜料的需求非常大.当镀膜真空室较大时,一次填料不能满足膜料用量需求,通常采用减小蒸发距离的方式提高膜料的利用率,但同时会使膜厚均匀性变差,光谱性能变差.通过镀膜理论分析,在满足产品镀膜均匀性的前提下,设计了一套可自由调...