共查询到10条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
2.
研究了注F加固PMOSFET的总剂量辐照响应特性和辐照后由氧化物电荷、界面态变化引起的阈电压漂移与时间、温度、偏置等退火条件的关系,发现一定退火条件下注F加固PMOSFET由于界面态密度、特别是氧化物电荷密度继续增加,使得电路在电高辐照后继续损伤,探讨了加速MOS器件电离辐照感生界面态生长的方法。 相似文献
3.
4.
5.
6.
7.
环境温度、电离辐射剂量率对NMOSFET器件特性参数的影响 总被引:3,自引:4,他引:3
研究了辐射环境温度、辐射剂量率、退火温度和退火偏置对 CC40 0 7NMOS器件阈值电压的影响 .研究发现 ,低温 (- 30℃ )辐照感生的氧化物陷阱电荷比室温 (2 5℃ )多 ,界面态电荷比室温要少 ;受不同 γ剂量率辐射时 ,阈值电压的漂移程度不一样 ,在总剂量相同情况下 ,辐射剂量率高时 ,阈值电压的漂移量也大 ;辐照后 ,NMOS器件 10 0℃退火速度要大于 2 5℃退火速度 ,+5 V栅偏压退火情况要大于浮空偏置情况 .并对以上现象进行了分析和解释 相似文献
8.
文章研究了CMOS器件^60Coγ射线的总剂量辐照实验以及辐照后在100℃温度场下的退火效应。实验发现,辐照后,器件在加温和加偏条件下,可以加速n沟器件界面态的增长和氧化物陷阱电的退火,而加温浮空偏置条件下有利于n沟器件界面态的退火,但在100℃温度场中,两种偏置条件都有利于p沟器件氧化物陷阱电荷和界面的退火。 相似文献
9.
10.
双极线性稳压器(LM317)的电离总剂量效应及剂量率的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
对一款双极集成、三端线性稳压器LM317进行了不同偏置、不同剂量率条件下的电离辐射效应及室温退火特性研究。研究结果表明:器件输出电压、输入输出压差等敏感参数在电离辐射环境下发生了不同程度的变化,且在零偏偏置辐照下的变化比工作偏置辐照下的变化大;在零偏偏置条件,总剂量相同时低剂量率辐照下的损伤明显大于高剂量率辐照,表现出低剂量率损伤增强效应;在工作偏置条件,高剂量率辐照下的损伤大于低剂量率辐照下的损伤,但随后的退火实验中恢复到低剂量率辐照损伤水平,表现出时间相关效应。对稳压器辐射敏感参数的影响因素和不同偏置下的剂量率影响进行了分析和讨论。 相似文献