LSK—3型离子束刻蚀机的结构设计

LSK—3型离子束刻蚀机是用于刻蚀动压气体轴承螺旋槽为主的超精细加工专用设备。自1985年研制成功后,该机经过上百次长期使用运转,成功地刻蚀了台阶轴套.半球轴套、上推板螺旋轮等器件,每次开机连续工作10h,连续刻蚀时间8h 以上。实践证明:该机工作可靠、稳定、技术成熟。是一台国内领先的离子束刻蚀设备。对该机的设计原理、真空系统计算、结构特点、发展前景作以介绍。     

离子束刻蚀机的电源系统

离子束刻蚀机的性能,除主机外,在很大程度上取决于供电电源系统。为了提高离子束刻蚀机整机工作的稳定性,在以往的配套电源的基础上,研制了一套电源系统,用于离子束刻蚀机中。整机工作稳定度达±0.8%/h,每次连续刻蚀器件8h以上,连续运转3年多,电源系统稳定可靠。是国内离子束刻蚀机电源系统性能较好的供电电源系统。     

RIBE-5型反应离子束刻蚀机

反应离子束刻蚀技术是近年来发展起来的一种微细加工技术，它利用反应离子束轰击团体表面时发生的溅射效应和化学反应剥离加工工作上的几何图形。具有极高的分辨率，能够控制槽深和槽壁角度，表面应力小。反应离子束刻蚀技术已有效地用于研究和制造大规模和超大规模集成电路，声表面波器件，磁泡存储器，微波器件，集成光路，超导器件，闪烁光栅等。本文叙述了一台ＲＩＢＥ－５型反应离子束刻蚀机的工作原理、结构特点、技术性能和刻蚀工艺实验结果．     

16号航空防锈润滑油的研制

根据石油新型材料有关科研协议,兰州炼油厂石油炼制研究所开展了涡轮螺旋浆型航空发动机防锈润滑油的研制。该油经过实验室研制、用户复验,确定了16号航空防锈润滑油的调制方案。工业调制大样,经发动机工厂试车、验收试车短期润滑台架试验以及发动机500小时长试润滑性能考察。可满足润滑指标的要求。工厂试车、验收试车的两台发动机,经过潮湿地区两年多的整机封     

LSK-Ⅲ型离子束刻蚀机自动控制器

离子束刻蚀机是一个产生大面积离子束的对工件表面进行微细加工的设备。它是由离子源、真空室、配电和控制系统组成的。在一定的真空条件下,离子源产生大面积离子束,用这种离子束轰击各种固体表面,固体表面就会被剥蚀掉。     

离子束表面处理装置及其应用

本文介绍了一台自行研制的离子束表面处理装置。该装置能独立进行离子束溅射沉积金属膜，也能与离子注入机联机进行离子注入和离子束动态混合对材料表面作改性处理。同时介绍了用离子束溅射、离子注入和离子束动态混合技术进行Ｎｉ沉积于Ｓｉ、ＰＥＮ—２．６膜电导性及混合Ｃｒ于 Ｃｒ４Ｍｏ４Ｖ钢的实验结果。     

离子束刻蚀的束流回路控制

离子束刻蚀是70年代迅速发展起来的一种超精细加工新技术,它是利用离子束轰击固体表面的溅射现象,刻蚀固体表面,利用掩模,可加工出各种精细图形。在缺乏深度终点控制器的情况下,离子束流的稳定度关系到加工深度的精确控制,是离子束刻蚀机的重要指标。影响束流稳定的因素很多,如工作气体流量,阳极电压,真空室温度变化,阴极灯丝的蒸发,离子源栅极引出系统热变形等。因而提高束流稳定度是个重要而困难的问题。我们利用离子束刻蚀工艺制作沟槽栅声表面波器件,为了满足器件对沟槽深度分布的精度要求,需要提高束流稳定度,为此我们采用了束流回路控制方法。这方法是利用束流采样控制     

KZ-400离子束刻蚀装置的研制

日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置。它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实现大面积刻蚀。通过对关键部位的有限元计算,分析影响装置性能的主要因素,优化工艺结构,使各项指标达到了设计要求,现已投入运行。     

国产纸张凹版印刷连机横切机投入使用

日前,西安秦华机械有限公司为广东湛江卷烟材料厂精心研制打造的国产首台QHZ—8800型凹版印刷连机横切机安装调试成功。该机各项技术标准均达到设计要求,并接受了使用厂领导和设备技术人员的验收,受到了高度评价。QHZ—8800型凹版印刷连机横切机是西安秦华机械有限公司继QHZ—6800     

聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用

聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。     

石英和BK7玻璃的离子束刻蚀特性研究

石英和BK7玻璃是常用的光学材料和微系统材料.用Ar作为工作气体对石英和BK7玻璃及其掩模材料AZ1350的离子束刻蚀特性进行了研究,分析了离子能量、离子束流密度和离子束入射角等几种因素对刻蚀速率和选择比的影响,结合相关理论得到了相应的刻蚀速率拟合方程.AFM测量结果表明刻蚀工艺对材料的低损伤.由于与光刻胶的刻蚀选择比较低,随着石英和BK7玻璃刻蚀深度的增加,图形转移精度下降.因此提高刻蚀选择比是获得高分辨率图形的前提.     

反应离子束刻蚀母盘研究

对反应离子束刻蚀母盘和玻璃衬底光盘的工艺进行了探讨,在该工艺中,光刻胶用于图形掩膜,ＣＦ４气体用于反应离子束刻蚀并将预刻槽转移到玻璃衬底上,预刻槽的形状和深度由刻蚀机的设置条件控制。ＳＥＭ照片表明,刻蚀在玻璃衬底上的预刻槽的道间距为１．６μｍ,槽深０．１μｍ,槽宽０．６μｍ,符合光盘预刻槽的基本标准,说明该工艺是微细加工母盘凹坑和预刻槽的较好办法。     

聚焦离子束系统在微米/纳米加工技术中的应用

聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台.简述了聚焦离子束系统的组成和主要功能,着重介绍了近年来该技术在离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子注入、微区分析、掺杂和成像以及无掩膜曝光等微米/纳米加工领域的应用,并对未来的发展前景进行了简要分析.     

离子束刻蚀技术

一、概述离子束刻蚀技术是从70年代起随着固体器件向亚微米级线宽方向发展而兴起的一种超精细加工技术,它是利用离子束轰击固体表面时发生溅射效应来剥离加工器件上所需要的几何图形的。离子束刻蚀这种新工艺与机械加工、化学腐蚀、等离子体腐蚀、等离子体溅射等工艺相比较,具有以下特点:(1)对加工材料具有非选择性,任何材料包括导体、半导体、绝缘体都可以刻蚀;(2)具有超精细的加工能力。它能刻蚀加工非常精细的沟槽图形,是属于微米级和亚微米级加工,甚至能刻出0.008μm 的线条。(3)刻蚀的方向性好,分辨率高.     

多阳极束形可变的冷阴极离子源的放电特性的研究

研制了新型多阳极永磁冷阴极离子源,它可用于低能离子束辅助淀积、离子束刻蚀和离子束表面改性等领域。该新型离子源具有引出束形状、密度分布易于改变管制的优点,从而能预期离子束轰击靶面上的密度分布。本研究了几种多阳极结构,其单元阳极为矩形或圆形。论述了子阳极几何形状及它们的布局对放电的影响,阐明了放电特性与气压、磁场和阳极纵宽比的关系。中特别讨论了子阳极间沟道的作用。     

反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅

离子束刻蚀作为真空技术的一种重要应用,已广泛运用于现代微电子器件和微光学器件的制作工艺中。本文结合反应离子束刻蚀与全息光刻技术,针对线密度较低的小阶梯光栅,倾斜刻蚀石英同质掩模,制作了三种在紫外光和可见光波段透射闪耀的小阶梯光栅。第一种光栅线密度为360lp/mm,闪耀角16.8°,在325nm波长的透射衍射效率为74%;第二种和第三种光栅线密度均为400lp/mm,闪耀角为34.7°和43°,其在632.8nm波长的透射衍射效率分别为63%和57%。结果表明,使用CHF_3作为刻蚀气体的反应离子束刻蚀石英同质掩模,所制作的小阶梯光栅在其工作波段透射闪耀的衍射效率为理论值的75%以上,为全息离子束制作低线密度大闪耀角的光栅提供参考。     

声表面波沟槽器件反射栅的离子束刻蚀

利用数控离子束刻蚀机,在铌酸锂、锗酸铋和石英压电晶片上,溅射刻蚀等深度和深度加权沟槽反射栅,制作了声表面波谐振器和脉冲压缩滤波器。选用合适参数和刻蚀程序,槽深分布接近理论值。一、引言利用沟槽栅阵对声表面波(S AW)的反射特性制作的SAW器件,如脉冲压缩滤波器(RAC)和沟槽谐振器,具有优良的     

兰州石化通过3A测量管理体系换证评审

近日，兰州石化顺利通过了中启计量认证中心3A测量管理体系换证评审工作。此次换证评审是兰州石化引用GB／T19022—2003建立测量管理体系4年后重新取证的审核，同时也是对计量专业长远发展工作的进一步推动。     

新产品信息

速冻鲜啤销售机通过验收由广州制冷设备研究所消化吸收国外先进技术试制成功的 LPJ—120型速冻鲜啤销售机于8月2日通过了“星火计划”成果项目的验收。它属于八十年代国际先进冷饮设备,在国内尚属首创。速冻鲜啤销售机由制冷系统、冷却器、二氧化碳瓶、气阀双用阀门和售酒头五大部件组成,该机     

北京埃德万斯离子束技术研究所

北京埃德万斯离子束技术研究所是国内离子束刻蚀系统、离子束溅射沉积薄膜系统、微米及纳米器件微结构研究和薄膜材料研究的创新者,是先进商用技术产品的专业制造者。