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ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
电子回旋共振等离子体化学气相淀积(ECRPlasmaCVD)法淀积介质膜技术是制备性能优良的光电子器件光学膜和电介质膜的重要手段之一.本文报道了ECRPlasmaCVD法淀积介质膜的工艺以及介质膜的特性等 相似文献
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采用深能级瞬态谱技术(DLTS),测试了等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)法低温制备的富氮的SiOxNy栅介质膜的电学特性(界面态密度、俘获截面随禁带中能量的变化关系),结果表明,采用合适的PECVD低温工艺淀积SiOxNy膜可以制备性质优良的栅介质膜。 相似文献
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热壁LPCVD多晶硅薄膜的制备及其应用 总被引:2,自引:0,他引:2
程开富 《电子工业专用设备》1996,25(4):27-32
论述了热壁低压化学汽相渡积(LPCVD)制备多晶硅薄膜的淀积变量,是影响膜层质量的因素。其次简述了热壁LPCVD薄膜在硅CCD多路传输器和硅CCD多路开关组件等红外信号处理器件研制中的应用。 相似文献
4.
翁寿松 《电子工业专用设备》1997,26(2):12-18
介绍256M/1GDRAM产品技术指标、工艺及前道制造设备,包括光刻机、腐蚀设备、离子注入设备、热处理设备、溅射及金属CVD设备和绝缘膜CVD设备等 相似文献
5.
本文讨论了金刚石薄膜应用于光学领域所遇到的问题,研究了热丝CVD(HFCVD)方法生长应用于光学膜的金刚石薄膜过程中,衬底表面的预处理和沉积条件如碳源浓度、衬底温度等对制备腹晶粒尺度和晶粒间界以及膜表面形貌的影响. 相似文献
6.
本文在介绍等离子体增强型CVD(PECVD)、光-CVD制备非晶硅膜的同时,首先概述了国内熟知并使用较多的低压CVD技术,其次简单地介绍了国外近几年报导的电子迴旋共振微波等离子体低温CVD(简称MPCVD)、CLT—CVD、均质CVD等技术制备非晶硅膜的状况及设备市场。 相似文献
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本文将有关流体力学与分子传质理论及化学反应动力结合起来,对于反应室为单面加热,温度场可调节的热CVD系统进行了边界层理论分析,得到了流体的速度、温度及浓度分布。从硅烷的气相分解及有关基团的表面反应出发,求出薄膜生长速率模型,计算结果与实验数据相吻合,表明是合理的。同时也从理论上证实了所分析的这类甲硅烷热CVD系统是制备非晶硅薄膜的理想结构之一。 相似文献
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采用准静态C-V特性和高频C-V特性测试技术,结合温偏(B-T)实验,测试了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)法低温制备的富氮的SiOxNy栅介质膜的电学特性(界面态密度、固定电荷密度、介电常数、可动离子密度),结果表明,制备出的栅介质膜性质优良。 相似文献
9.
PCVD制备工业硬膜研究 总被引:7,自引:0,他引:7
用等离子化学气相沉积技术制备了TiN,TiC,Ti(CN)和(TiSi)N膜及其组合的多层膜。PCVD具有很好的覆盖性,PCVD-TiN具有很好的耐磨耐蚀性,膜与基体结合良好,因而用PCVD法在高速钢刀具,模具及轴承上沉积TiN可大大提高其使用寿命。 相似文献
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氮化硅薄膜的等离子腐蚀及钝化性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
程开富 《电子工业专用设备》1997,26(4):40-43
介绍在硅CCD多路传输器研制中,热壁LPCVD氮化硅钝化膜的等离子腐蚀及钝化性能。 相似文献
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本文研究了一种新的、具有实际应用价值的硅片吸除技术.该技术包括利用PECVD法在腐蚀硅片背面沉积400~800nm厚的非晶硅膜,再经过650~680℃温度的热处理,使沉积膜与硅片结合更牢固,之后,把硅片进行抛光.结果表明,该技术能有效地消除硅抛光片表面的雾缺陷,同时硅片表面层少子寿命可提高2~4倍. 相似文献
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本文阐述了真空电弧沉积(VAD)的各种净化方法,并讨论了纯净化的真空电弧在非晶硅膜层沉积方面的应用,包括在制造太阳能电池方面的应用前景。分析表明,真空电弧沉积非晶硅膜,关键在于合理设计弧源使电弧纯净化,采取各种有效方法抑制宏观颗粒对膜层的污染,同时采用适当的等离子体诊断设备,通过调节等离子体微观参数来控制膜层质量。 相似文献
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本文介绍了用于测量a-Si:H隙态密度的空间电荷限制电流(SCLC)法,并报道了采用此方法对PECVD方法制备的a—Si:H材料隙态密度的测量结果。对n+a—Si:H/a—Si1H/n+a—Si:H结构的样品,测量得到费米能级上0.16eV间的欧态密度分布为1015~1018(cm-3eV-1)。 相似文献
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超级VCD的核心技术是MPEG-2压缩标准和VBR技术。介绍了超级VCD与一般VCD的比较,超级VCD的主要新技术,给出了超级VCD的编码、记录、数据格式和解码技术的硬件实现。 相似文献
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扭曲向列型液晶显示器的相补偿──应用各向异性薄膜增大扭曲向列液晶显示器的视角 总被引:1,自引:1,他引:0
本文简明介绍了扭曲向列型液晶显示器(TN—LCD)的类型以及正常白型TN—LCD的一些特征,总结几种提高对比度,增大视角,改进显示质量的相补偿方法。阐述了聚合物取向膜提高TN—LCD对比度与视角的原理,重点说明聚酰亚胺分子由于面内取向而具备的负性双折射对TN—LCD的相补偿作用,即:减少偏离液晶分子光轴方向上的漏光从而提高对比度,增大视角。还具体展示了我们制备的透明聚酰亚胺薄膜对一种正常白型TN—LCD增大视角的相补偿效果。 相似文献
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硅衬底上外延CVD金刚石膜界面原子排列直接观察尤力平*高巧君(*北京大学电镜室,北京大学物理系,北京100871)CVD金刚石膜作为新型功能材料以其独特的优异性能引起材料工作者极大的兴趣。近年来,异质外延CVD金刚石单晶是国内外研究的热点之一,这是因... 相似文献
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介绍了LPCVD法Si3N4膜与PECVD法SiO2膜的淀积工艺,以及Si-Si3N4-SiO2钝化工艺在高可靠大电流开关二极管中的应用,并指出了工艺的适用范围。 相似文献
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