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本文介绍了几种最新的立方氮化硼(C-BN)薄膜的制备工艺,并对薄膜中立方氮化硼相形成的影响因素进行了讨论。 相似文献
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采用温度梯度法,通过MW-ECR射频磁控溅射在硅片基底上制备了六方和立方混合的氮化硼薄膜。研究了薄膜的键结构,化学成分和力学性能。结果显示,对于氮化硼立方相的出现存在温度阈值,薄膜的硬度随沉积温度提高而提高。相对于传统薄膜制备方法,温度梯度方法具有更高的效率。 相似文献
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《稀有金属材料与工程》2015,(5)
采用温度梯度法,通过MW-ECR射频磁控溅射在硅片基底上制备了六方和立方混合的氮化硼薄膜。研究了薄膜的键结构,化学成分和力学性能。结果显示,对于氮化硼立方相的出现存在温度阈值,薄膜的硬度随沉积温度提高而提高。相对于传统薄膜制备方法,温度梯度方法具有更高的效率。 相似文献
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室温低下脉冲等离子体生长立方氮化硼薄膜 总被引:2,自引:0,他引:2
运用脉冲高能量密度等离子体,在室温下制成立方氮化硼薄膜,沉积薄膜的衬底材料分别选用单昌硅,氯化钠和GCr15轴承钢,用扫描电镜,透射电镜,红外吸收谱仪,扫描Auger微探针等对沉积的薄膜进行了分析与测试,结果表明,氮化硼薄膜的结构及性质强烈地依赖于实验条件。 相似文献
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本文在Si掺杂N型片状立方氮化硼单晶(111)面上利用热灯丝化学汽相沉积方法生长了掺B的P型金刚石薄膜,从而制得了立方氮化硼单晶-金刚石薄膜异质P-N结,测试了该P-N结的V-A特性,结果表明其整流特性良好。 相似文献
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CVD技术在超硬涂层制备中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
类金刚石薄膜、金刚石薄膜、立方氮化硼薄膜等是近年来超硬涂层材料研究中引人注目的三种功能型薄膜材料,它们在机械、电子、光学等领域有着可观的应用前景,而这三种超硬薄膜的制备,CVD技术起着至关重要的作用。本文简要评述了CVD技术在近年超硬涂层发展中的应用。 相似文献
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溅射沉积由于获得的cBN薄膜颗粒尺寸小、立方相含量高,是cBN薄膜制备技术发展的一个重要方向。本文介绍了溅射沉积过程中的基体负偏压、沉积气氛、沉积温度、靶材功率等工艺参数对cBN薄膜中立方相的含量和薄膜性能的影响规律。并从优化沉积工艺参数、采用过渡层及在膜层中引入其它元素方面介绍了在降低膜层应力方面取得的研究进展。分析归纳出溅射沉积cBN薄膜目前存在的主要问题是薄膜应力过大、存在非立方相氮化硼及B、N原子的比例失配。提出了下一步研究工作的重点是通过深入认识溅射沉积cBN薄膜的的形成机理,优化沉积工艺参数及设计合理的过渡层和新型梯度涂层,以提高立方相的含量、保证B、N原子的比例、降低膜层应力。 相似文献
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超硬材料薄膜涂层研究进展及应用 总被引:7,自引:0,他引:7
CVD和PVD TiN,TiC,TiCN,TiAlN等硬质薄膜涂层材料已经在工具、模具、装饰等行业得到日益广泛的应用,但仍然不能满足许多难加工材料,如高硅铝合金,各种有色金属及其合金,工程塑料,非金属材料,陶瓷,复合材料(特别是金属基和陶瓷基复合材料)等加工要求。正是这种客观需求导致了诸如金刚石膜、立方氮化硼(c—BN)和碳氮膜(CNx)以及纳米复合膜等新型超硬薄膜材料的研究进展。本文对这些超硬材料薄膜的研究现状及工业化应用前景进行了简要的介绍和评述。 相似文献
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吴志英 《金刚石与磨料磨具工程》1992,(1)
本文讨论了六方氮化硼合成工艺对其纯度、杂质含量、石墨化指数、比表面积、成型密度等性能的影响。从原料、反应温度和后处理方面提出一些方法,合成出适合立方氮化硼合成的性能较好的六方氮化硼,并探讨了六方氮化硼性能指标对立方氮化硼合成的影响。 相似文献
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立方氮化硼以其优异的特性广泛应用于现代制造加工领域。随着制造要求的不断提高,对氮化硼的性能提出更高的要求,世界各国相继开发研究出纯相立方氮化硼的合成技术。本文对国内外纯相聚晶立方氮化硼的烧结、性能等进行了综述,并分析了各种纯相烧结方法。最后对纯相聚晶氮化硼的发展方向进行了展望。 相似文献
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