非晶态Cr-C合金镀层制备及其耐腐蚀性

以酒石酸为添加剂,采用电沉积法制备了非晶态Cr-C合金镀层。用X射线衍射、扫描电子显微镜及能谱仪对镀层结构、形貌及成分进行表征,并对镀层进行电化学耐腐蚀性测试。结果表明,当酒石酸加入量为40g/L时,镀层的X射线衍射图出现非晶态的特征峰,镀层表面平整、致密,无裂纹和针孔,与普通晶态Cr镀层相比,非晶态Cr-C合金镀层具有更优良的耐腐蚀性能。     

非晶态Cr-C合金镀层的制备研究

通过对添加剂酒石酸的优化研究,研究电沉积制备非晶态Cr-C合金镀层的新配方.用X射线衍射和扫描电子显微镜对镀层结构和形貌进行表征,并对镀层硬度及结合力进行测试.结果表明,当酒石酸加入量为40g/L时,镀层的X射线衍射图出现非晶态的宽化峰,镀层的硬度和结合力最高,表面平整、致密,无裂纹和针孔,异类原子的加入和酒石酸对表面活性点的吸附作用是形成非晶态结构的主要原因.     

电镀与环保2007年第3期

镁合金化学镀镍工艺研究进展；镍基合金耐磨镀覆层的研究现状及进展；金属镍电沉积中枝晶分形生长的研究；电沉积纳米晶镍制备金刚石工具；黑Cr-C纳米复合电沉积工艺中电流密度的确定     

三价铬水溶液电镀非晶态铬工艺

报导了一种Ｃｒ３ ＋ 水溶液中电镀非晶态铬新工艺。采用由适当的络合剂、稳定剂、添加剂以及Ｃｒ３ ＋ 盐组成的电镀液, 于室温下电沉积出厚度达１１ μｍ 、外观接近镜面的非晶态铬镀层。实验发现, 蓝膜的生成是光亮非晶态Ｃｒ 层得以电沉积出来的首要条件。采用Ｘ 射线衍射和扫描电子显微镜等方法对铬镀层的结构进行了分析。结果表明, 铬镀层的Ｘ 射线衍射图中只有非晶态铬的宽化峰; 扫描电子显微镜结果显示所得Ｃｒ 镀层没有针孔, 只有少数细小的裂纹。对Ｃｒ３ ＋ 水溶液中电镀Ｃｒ 的工艺条件和络合剂、稳定剂、添加剂的作用进行了探讨     

黑Cr-C纳米复合功能镀层的制备及影响因素

研究镀液中纳米C颗粒浓度、电流密度、温度、搅拌方式等对复合电沉积Cr-C镀层性能的影响.利用扫描电镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）分析镀层表面显微组织及相结构,利用显微硬度计对复合镀层进行显微硬度测试.结果表明,调整工艺参数可获得表面结晶均匀致密的黑Cr-C纳米复合镀层,显微硬度最高达10.8 GPa,镀层中颗粒体积分数最高达8.82%.电沉积复合镀最佳工艺参数是：电流密度为100 A/dm2、温度为15 ℃、镀液中纳米C颗粒含量为10 g/L,采用超声波分散辅助慢速机械搅拌.     

非晶态Cr-C合金镀层的晶化规律

采用电沉积方法制备了非晶态Cr-C合金镀层,对镀层进行热处理并测试硬度,用DSC和XRD表征镀层晶化过程,结果表明,镀层在300℃开始晶化,450℃左右晶化结束,600℃左右有Cr7C3、Cr23C6化合物析出。由于Cr的微晶化和Cr7C3、Cr23C6化合物的析出,600℃以下时,镀层硬度随温度的升高而升高,600℃时达到最高值1610 HV0.025。600℃以上时,因晶粒粗化镀层硬度迅速下降。     

添加剂对甲基磺酸盐镀锡电沉积过程的影响

为了探讨添加剂对锡电沉积的作用机理,运用循环伏安法、计时安培法和阴极极化曲线法研究了添加剂2-巯基苯并噻唑对锡电沉积过程的影响.结果表明锡的电沉积过程经历了晶核形成过程,其电结晶按照三维瞬时成核方式进行,加入添加剂没有改变锡的电结晶机理,对锡的电沉积过程起阻化作用,但有利于晶核的形成,从而可以得到结晶细致的镀层.     

非晶态Ni-W合金镀层电沉积影响因素和特性的研究

研究了络合剂加量、镀液pH、温度等因素对非晶态Ni-W合金镀层电沉积的影响.同时对非晶态镀层结构、结合力和耐蚀性也作了探讨.结果表明:各因素对电沉积都有不同程度的影响,其中氨基络合物加量为0.74～1.11mol/L时,合金镀层稳定,W含量大于44%的合金镀层为非晶态.有优异的耐蚀性,并且在不同材质上具有良好的结合力.     

离子液体电沉积铝添加剂的研究进展

离子液体作为一种新型绿色室温电解质,具有蒸气压低、挥发性小、电化学窗口宽等优点,是电沉积Al的理想选择.但是采用离子液体电沉积Al,当沉积时间较长、电流密度较大时,沉积层的晶粒粗大,表面较为粗糙,甚至会出现树枝状沉积,容易剥落,严重影响到Al沉积层的质量与性能.离子液体添加剂可显著改善Al沉积层光亮度、平整度、致密度以及耐腐蚀性能.综述了添加剂对离子液体电沉积Al的影响,重点介绍了添加剂对Al沉积层微观结构、离子液体物理性质、Al沉积层耐腐蚀性能的影响,以及添加剂在离子液体电沉积Al中的作用机理.添加剂通过优化离子液体电导率、黏度等电化学性能与离子放电条件,来控制Al晶粒的形核与生长,从而调整晶粒的形核位置、细化晶粒尺寸、择优晶粒取向,甚至一些无机氯化物添加剂可与Al形成合金,最终获得光亮、平整、致密且耐蚀性能优异的Al沉积层.添加剂在离子液体电沉积Al中主要起整平剂与光亮剂的作用.最后,分析展望了添加剂在离子液体电沉积Al中的应用前景及未来的研究重点.     

非晶态Al-Mn合金镀层的性能与组成

通过熔盐电沉积方法,获取了非晶态Al-Mn合金镀层,对非晶态Al-Mn合金镀层的组成、表面状态、硬度和耐蚀性进行了研究.结果表明,镀层的结构、耐蚀性及硬度与镀层含Mn量有关.非晶态Al-Mn合金镀层具有很高的硬度和优良的耐蚀性.     

铁系锌基合金电镀

综述了铁系锌基合金电镀的研究应用现状以及工艺的重要影响因素。重点对影响电镀铁系锌基合金镀层的各种因素进行了阐述，包括镀液组成、添加剂种类、添加剂用量、镀液pH值、温度以及电流密度等，从中归纳出影响电镀锌基合金的主要因素及其影响规律。指出，锌基三元合金是电镀锌基合金的发展方向。     

钢基电镀铝层阳极氧化处理后的组织结构和性能

用扫描电镜（SEM）和X射线衍射分析（XRD）测定了Q235钢上电镀铝层在硫酸溶液中不同时间阳极氧化处理后的组织结构和表面形貌，并对其硬度和耐蚀性能进行了测试。结果表明：电镀铝层经不同时间阳极氧化处理后，表面由非晶态Al2O3相和Al相组成，其上存在有纳米级的孔洞。随着氧化时间的延长，非晶态Al2O3相增多，Al相减少，氧化膜厚度增加，表面孔洞尺寸增大；氧化膜的硬度呈现先增加后降低，最后趋于稳定，且都显著高于电镀铝层的硬度。并且电镀铝层经阳极氧化处理后，在3．5％NaCl溶液中的电化学耐蚀性能大幅度增加，但随着阳极氧化处理时间的延长，电镀铝层的耐蚀性能降低。     

电镀铱过程各因素对镀铱层表面的影响

介绍了铱电镀的用途、铱镀液的组成,以及在铱电镀过程中电流密度、温度和添加剂等对电镀效果的影响,特别是对电镀层表面的影响,并得出最好的电镀条件.     

改性甲壳胺添加剂在钠盐镀锌中的应用

利用赫尔槽和金相观察观测等方法,对镀液性能和镀层性能进行了研究,探讨了改性甲壳胺分子对钠盐镀 影响,结果发现改性甲壳胺可作为钠盐镀锌的一种添加剂,其镀液及镀层性能优于裳睡的硫脲及氯锌１号镀液 。     

基于SCF-CO2电沉积制备纳米材料的研究进展

分析了CO2超临界流体特性及其电沉积工艺的特点;综述了表面活性添加剂含量、CO2的体积分数以及温度、压力等操作参数对电沉积制备纳米材料的影响,与普通电沉积工艺相比,采用CO2超临界流体的电沉积工艺获得的纳米材料组织致密、表面平整,其显微硬度和抗磨性有较大幅度提高;最后对其未来的发展方向进行了展望。     

熔盐电镀Al—Mn合金：电镀参数对合金镀层组成和结构的影响

介绍了在氯化物熔盐中,电镀合金的组成和结构。主要介绍了电镀参数如温度、电流密度、电位及熔盐中添加剂浓度对Ａｌ－Ｍｎ合金镀层组成和结构的影响。     

Zn-Al合金镀层耐蚀性研究

在碱性锌酸盐镀锌液中加入氧化铝和自制添加剂,获得了光亮Zn-Al合金镀层.采用中性盐雾实验、5％氯化钠溶液浸泡实验、电偶腐蚀实验、循环伏安曲线图和Rp-t曲线对Zn和Zn-Al合金的耐蚀性进行了探讨,结果表明,ZnAl合金镀层的耐蚀性优于锌镀层的耐蚀性,可用作钢铁件高耐蚀性镀层.     

STUDY ON STRUCTURE AND PROPERTIES OF Ni-W-SiC COMPOSITE COATING

1.IntroductionBecauseNi-Wa1loyc0atinghashigherhardness,wearresistanceandc0rrosi0nresis-tance,itspropertiesandelectroplatingprocessarestudiedwidelyll-5].H0wever,whenthethicknessofNi-Wall0ycoatingisincreasedsomemicrocracksshowupinthec0atingduetoincreasedstress,sothepracticalapplication0fNi-Wc0atingisrestrained.SinceNi-W-SiCcomp0sitecoatinghaslowerstress,itcanlessenoravoidthe0ccurrenceofthec.acks[6l.Furthermore,afterheat-treatmentornitrocarburizati0nthemicrostructureandprop-ertiesofNi-W-SiC…     

光亮碱性Zn-Al合金电镀工艺研究

在碱性锌酸盐镀锌液中加入铝盐，研究成功了一种光亮碱性锌铝合金电镀工艺。采用霍尔槽试验探讨了镀液成分和工艺条件对镀层质量的影响，检测了镀液和镀层性能。研究结果表明：镀液阴极电流效率达到80%以上，镀液分散能力和复盖能力好，镀层中铝含量为1．5％左右，所形成的Zn-Al合金镀层结晶细致、光亮度好、结合力好、耐蚀性优良，适用于作高耐蚀性镀层。     

PROPERTIES OF ELECTRODEPOSITED AMORPHOUS Ni-W-P-SiC COMPOSITE COATINGS

ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳＯＦＥＬＥＣＴＲＯＤＥＰＯＳＩＴＥＤＡＭＯＲＰＨＯＵＳＮｉ－Ｗ－Ｐ－ＳｉＣＣＯＭＰＯＳＩＴＥＣＯＡＴＩＮＧＳＧＵＯＺｈｏｎｇｃｈｅｎｇ;ＬＩＵＨｏｎｇｋａｎｇ;ＷＡＮＧＺｈｉｙｉｎ;ＷＡＮＧＭｉｎ（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＭｅｔａ...