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铝合金阳极氧化工艺的改进及应用 总被引:9,自引:1,他引:9
简述了宽温型铝合金硫酸阳极氧化工艺的溶液配制方法,操作条件,并把它普通硫酸阳极氧化工艺进行比较,结果表明,宽温型阳极氧化工艺扩宽了操作温度范围,缩短了氧化时间,提高了生产效率和氧化质量。 相似文献
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3种溶液体系下铝合金阳极氧化膜的性能 总被引:2,自引:0,他引:2
通过表面形貌观察、升压曲线测试、电化学阻抗谱(EIS)测试和疲劳性能测试等研究LY12铝合金铬酸阳极氧化(CAA)、硼酸硫酸阳极氧化(BSAA)和己二酸硫酸阳极氧化(ASAA)膜的性能。结果表明:CAA膜和ASAA膜缺陷较少且缺陷边缘光滑,BSAA膜缺陷数目较多且边缘较为粗糙。3种氧化膜的耐蚀性良好,在5%NaCl(质量分数)溶液中浸泡80 d后,均未出现明显的破坏。对比氧化膜的壁垒层阻抗(Rb)发现,BSAA的Rb值下降最大,约为94%,CAA和ASAA优于前者,其阻抗分别下降了75%和78%。3种阳极氧化技术对基体疲劳性能的影响结果表明,CAA处理降低基体的疲劳寿命值最小,约为14%;ASAA次之,约为20%;BSAA对基本疲劳性能的影响最大,约25%。 相似文献
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以工业纯铝L2为实验试样,通过表面预处理→交流电阳极氧化工艺在其表面制备阳极氧化膜,考察了氧化时间、氧化电压对氧化膜厚度和硬度的影响,并对阳极氧化试样的横截面进行SEM和EDS测试分析。研究表明:电解液成分H2SO4质量浓度为200 g/L、Al2O3质量浓度为1 g/L,交流氧化电压为12 V,温度为(20±1)℃的条件下,可以获得均匀、与基体结合紧密、硬度相对较高的氧化膜;随着氧化时间的增加,膜的厚度增加,但硬度相对降低。 相似文献
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稀土对6063铝合金阳极氧化膜厚度的影响 总被引:5,自引:0,他引:5
在硫酸、硫酸亚锡溶液中对添加稀土的6063铝合金进行阳极氧化和电解着色,系统地研究了氧化电解液浓度、温度、时间、电流密度对膜层厚度的影响.结果表明:稀土可以明显地提高6063铝合金氧化膜厚度,稀土含量以0.20%为好. 相似文献
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采用微波增强的反应磁控溅射和离子注入法以及两者相结合的工艺制备了TaN系薄膜。通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜的晶体结构,用微磨损仪和白光轮廓仪对样品的摩擦系数和磨损情况进行了检测和分析。结果表明,Ta离子注入与TaN沉积相结合的方式制备的薄膜耐磨损性能较好,其中Ta离子注入后沉积的Ta/TaN多层膜耐磨性能最好。说明此种工艺有效整合了两种工艺的优点,有利于薄膜力学性能的改善。 相似文献
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镁阳极氧化表面改性不同工艺及其成膜效果的比较 总被引:4,自引:1,他引:4
阳极氧化是Mg表面处理方法中最有效因而最常用的一种技术。对Mg阳极氧化经典工艺HAE和Dow17以及绿色环保工艺Starter进行全方位比较,发现工艺条件的选择对阳极氧化成膜效果有着十分重要的影响。Mg阳极氧化成膜条件具有多样性,但工艺条件不同,不仅阳极氧化成膜现象不同,而且所得膜层的颜色、均匀性、粗糙度及其耐蚀性、耐磨性和与基体金属之间的结合力等性能指标也不相同。 相似文献
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使用机械球磨制备细晶Ti/Al复合粉,采用不同的压制工艺,通过反应烧结和等温锻造方法获得不同晶粒尺寸的TiAl金属间化合物。对TiAl金属间化合物的微观组织特征进行了分析,研究了不同制备工艺对其微观组织的影响。结果表明:采用冷等静压630℃反应烧结及等温锻造工艺可以获得晶粒尺寸5~8μm的细晶TiAl金属间化合物;通过普通冷压、1250℃反应烧结与等温锻造后,也能获得近全致密的层片状TiAl金属间化合物,但晶粒尺寸为20~30μm。 相似文献
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采用低温燃烧合成法(LCS)、共沉淀法和固相法合成了超细Gd2BaCuO5(Gd211)粉体,并对3种粉体的形貌、化学纯度、比表面积和粒度进行了比较。结果表明,LCS工艺制备的Gd211粉体粒度最小,团聚最轻。将以上3种粉体作为掺杂剂制备GdBa2Cu3O5(Gd123)超导块材,块材的微观形貌说明微细Gd211粉体的添加能有效减小Gd123块体中Gd211颗粒粒度,临界电流密度的比较表明LCS法所制粉体的添加比另外两种粉体更能有效提高临界电流密度。 相似文献
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概述了利用低温等离子体技术制备有机薄膜的主要方法、特性、应用及研究现状,简要讨论了等离子体工艺条件对薄膜结构和性质的影响,介绍了现代分析技术对有机薄膜结构的表征,阐述了近年来对低温等离子体有机薄膜物理和化学性质,包括表面性质,渗透性,电学和光学性质等方面的研究新进展,并描述了其在工业生产上的一些应用. 相似文献
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PECVD制备Al-Al2O3复合阻氢涂层的研究 总被引:1,自引:1,他引:1
为了提高不锈钢的阻氢性能,利用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)技术在不锈钢表面上制备了Al薄膜,经真空热氧化处理(480℃)获得了Al-Al2O3复合薄膜.用表面分析手段SEM、 XRD、 EDS和XPS对所制备涂层的表面形貌、相结构、表面成分、表面元素的化学态进行了分析,并对其进行了阻氘性能研究.结果表明:该技术能够获得均匀、致密复合薄膜;在低于350℃时,阻氘效果非常好,几乎没有渗透,在350℃到450℃之间,阻氘因子能够达到250左右,但在高于450℃后,渗透非常明显. 相似文献