首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
2.
概述了sn-Ni合金电镀溶液,可以获得灰色至黑色的发色优良的无裂纹镀层。  相似文献   

3.
在含硫酸亚铁铁铵,氧化锑,柠檬酸和柠檬酸钾的镀液中,用脉冲电镀方法可获光亮细致,结合力良好的Fe-Sb合金。讨论了导通时间,关断时间,峰值电流密度,脉冲频率、占空比以及搅拌对合金镀层成分的影响,提出了极限导通时间和根限关断时间两个脉冲参数的概念,据此可有效地选择脉冲参数并控制合金镀层的成分。  相似文献   

4.
5.
电镀锑铟合金镀层性能初探   总被引:1,自引:0,他引:1  
在适合的电流密度下从柠檬酸体系电镀液中获得了富锑的,浅蓝色和较光亮的锑铟合金镀层.在20℃~40℃范围内,测定了温度对镀层成分、延伸率,耐蚀性能的影响.并用扫描电子显微等手段观察了镀层的形貌.初步研究表明,该镀层可望成为一种具有实用价值的镀层.  相似文献   

6.
浅谈电镀合金   总被引:1,自引:0,他引:1  
1前言随着科学技术和现代工业的迅速发展,对材料表面性能的要求越来越高。在表面处理技术中,电镀是最有效的方法之一。过去主要是电镀单金属,现已远不能满足对表面性能的高要求。因此,电镀合金在近20年来有了迅速的发展,它不仅可以得到各种特殊性能的表面,而且种...  相似文献   

7.
8.
9.
10.
脉冲电镀Ni—Co合金的研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
  相似文献   

11.
合金电镀的发展   总被引:1,自引:0,他引:1  
综述十多年来国内外合金电镀、化学镀、功能性复合电镀的发展、应用及前景。关键词:合金电镀化学镀功能性复合电镀  相似文献   

12.
复合电镀(Ni—P)—SiC的新工艺   总被引:5,自引:0,他引:5  
研究了复合电镀(Ni-P)-SiC过程,发现随镀液中SiC浓度增加,阴极极化随之增加,分散能力下降,镀液中加入混合稀土后,镀层硬度由574HV提高到602HV,相对磨损量由4.54×10^-2g/cm^2下降到3.5×10^-2g/cm^2与A3钢相对耐磨性提高4.1倍。  相似文献   

13.
日本电镀技术的发展   总被引:6,自引:1,他引:6  
简要介绍了1950年以前日本电镀技术及电镀工业的发展概况,1950年后,由于引进了先进的电镀技术,材料,设备并随着汽车和电子工业的发展,带动了日本电镀工业的发展,叙述了含金电镀、复合电镀、脉冲电镀和化学镀等科研成果及其使用情况。  相似文献   

14.
本文详细叙述了焦磷酸盐电镀锡钴合金的工艺。介绍了溶液的配方。焦磷酸钾250g/L,硫酸亚锡10—20g/L,硫酸钴10—20g/L,光亮剂100mL/L,pH 8.5~9.5,温度35~50℃,阴极电流密度Dk0.5~2A/dm~2,阳极:高纯高密度石墨板,搅拌:阴极移动或抖动,电镀时间3min。讨论了镀液中各成份的作用,工艺操作条件。研究了锡钴合金镀层的基本特性、镀液的性能、镀液中杂质的影响及故障处理和废水治理。还介绍了在400~#笔夹字块上生产应用后所获得的经济效益,并附有该镀液的分析方法。  相似文献   

15.
电沉积Ni—Ce—S非晶态合金   总被引:4,自引:0,他引:4  
研究了镀液组成和工艺条件对Ni—Ce—S非晶态合金沉积层的影响,结果表明,镀层中的S含量随电流密度、镀液的pH值和硫代硫酸钠浓度的变化而变化,但与镀液中的氯化钾浓度无关;X射线衍射图说明,当镀层中的S含量超过30%时,镀层为非晶态结构;扫描电子显微镜表明,当镀层中S含量增加时,镀层的微裂纹减少且变细,当镀层中Ce含量增加时,晶粒会细化。  相似文献   

16.
电镀铑钌合金新工艺   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文介绍了铑钌合金电镀新工艺,获得含铑85%、含钌15%的光亮银白色合金镀层,既可以钌替代部分贵重的铑,又可提高镀层性能。  相似文献   

17.
18.
钯—镍合金电镀的研究进展   总被引:3,自引:0,他引:3  
综述了钯镍合金常见的镀液类型及其特点,介绍了一些改进和提高镀层质量以适应电子工业技术要求的措施。  相似文献   

19.
20.
一、前言随着电镀技术的发展,人们正在寻找各种功能性镀层.以满足产品的不同技术要求.为了在产品表面获得功能性镀层,往往采用复合电镀方法.复合电镀是在电镀溶液中加入非水溶性的固体微粒,并使其与主体金属在镀件上共沉积的电镀工艺.本文所介绍的镍钴铬合金电镀工艺就是采用复合镀方法,在镀件表面得到具有高耐磨性和抗高温性的功能性镀层.它已在生产中取得了应用.  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号