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Fe-Dy非晶膜晶化过程中结构及磁性变化SCIEI 总被引:2,自引:0,他引:2
用真空双源蒸镀法在NaCl和Si单晶衬底上制备Fe,Dy成分调制多层膜.研究了非晶膜晶化过程,等温退火后多层膜结构及磁性变化。结果表明,在200℃以下退火,其沉积态非晶和成分调制结构几乎不变;300℃开始晶化,首先出现Fe晶核,随温度升高,Fe,Dy逐步晶化,600℃全部形成晶态bcc-Fe和hcp-Dy.饱和磁化强度Ms对非晶Fe,Dy膜晶化时Fe晶核的形成十分散感,而只有Fe晶粒的长大才导致矫顽力Hc增加. 相似文献
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简要介绍了Co基非晶纳米晶的组成及应用,讨论了Co基非晶的晶化的影响因素,以及晶化产物对磁性能的影响. 相似文献
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由Miedema半经验公式计算的Fe/Y二元系自由能图,及退火时Fe/Y非晶多层膜晶化过程的XRD分析结果得出:Fe、Y晶态自由能低于初始非晶态为晶化提供驱动力,形核势垒及临界晶核尺寸控制晶化反应的相选择。 相似文献
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室温下采用VSM测定了离子束溅射(IBSD)技术制备的Co/Pt多层膜垂直方向的M-H回线。研究结果表明:Co/Pt多层膜中单位体积Co的饱和磁化强度MsCo小于块状Co的饱和磁化强度;Co/Pt多层膜的饱和磁化强度(Ms)与厚度有关:随Co层厚度tPt和多层膜总厚度tf的增加而增大,随Pt层厚度tpt的增加而减小;外推结果表明当tCo小于一个原子层厚(≈025nm)时,室温下Co/Pt多层膜的饱和磁化强度为零,呈顺磁性 相似文献
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通过比较Fe/RE非晶多层膜中所有成分范围内非晶合金形成焓△H^am与固溶体形成焓△H^SS得出,在△H^am〈△H^SS成分范围内的非晶与在△H^am〉△H^SS成分范围内非晶的晶化方式及晶化温度不同。这从理论上系统地解释了多层膜晶化为一个缓慢过程,没有确定的晶化温度。 相似文献
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L.L. Liu X.F. Bi S.K. Gong H.B. Xu X. Y. Yuan Department of Materials Science Engineering Beijing University of Aeronautics Astronautics Beijing China 《金属学报(英文版)》2002,15(2):182-186
1. IntroductionAIllltili1},er ll1aterials attract l1lucll l1lore attelltioll[l--3I, because tlley provide a l1ewllletllod to desigll ll1aterials to lueet 1urio[[s requirelllellts. IIl additiol1, tlle developnlelltof electroll bea111 pl1}sical vapor deposi… 相似文献
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ZHANG Lin LIU Yihua Shandong University Jinan China WANG Hao Dongnan University Nanjing China engineer Department of Physics Shandong University Jinan China 《金属学报(英文版)》1993,6(8):112-115
Metal Fe/Pd compositionally modulated films(CMFs) were prepared by vapour depo-sition from two sources onto glass substrate under vacuum.The modulation and crystalstructures of the films were examined by X-ray diffraction.The magnetic properties weredetermined by vibrating sample magnetometer.The Pd layers in the Fe/Pd CMFs areof fcc structure,and the Fe layer structure transits from bcc into amorphous,state withdecreasing thickness of Fe layer.The dependence of specific saturation magnetizationon thickness of Fe layers has also been discussed. 相似文献
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L 《金属学报(英文版)》1993,6(11):387-392
The room temperature stability and crystallization of amorphous Nd_xFe_(1-x)thin filmswith x=0.06—0.90,prepared by flash evaporation at 77 K,were investigated by X-raydiffraction and TEM observation.The amorphous Nd_xFe_(1-x)films are stable at roomtemperature when 0.19相似文献
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中频对靶磁控溅射合成TiN/Ti多层膜 总被引:6,自引:0,他引:6
利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN/Ti多层膜.考察了不同Ti间隔层对多层膜硬度和结合力的影响,分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理;利用正交实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响,对工艺参数进行了优化.结果表明,靶电流对缺陷密度的影响最大,气体压力次之,基体偏压对缺陷密度影响最小;当靶电流I=20A、气体压力ρ(Ar+N2)=0.31Pa、基体偏压Vbias=-16m--300V和Ti间隔层厚度x-=0.12μm时,制备出硬度HV0.2N=2250、膜基间结合力(临界载荷)Lc=48N和表面缺陷密度ρs=58mm^-2的高质量TiN/Ti多层膜. 相似文献
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本文研究了非晶态Co_(90-x)Cr_xZr_(10)(0≤x≤25)合金的磁性,得到样品的Curie温度T_C和每个磁性原子的有效磁矩μ均随Cr含量x的增加近似线性下降,计算出每个Co和Cr原子的平均磁矩分别为μ_(Co)=1.51μ_B和μ_(Cr)=-3.62μ_B低温下的磁化强度与温度的关系符合Bloch的T~(3/2)定律,由此算出的自旋波劲度系数D从x=4时的D=2.788meVnm~2下降到x=20时的D=0.727meVnm~2,相互作用范围从x=4时的2—3个原子减小到x=20时的最近邻原子之间,样品的晶化温度随Cr含量x的增加单调上升,认为与合金的平均外层电子浓度有关,用X射线衍射和热磁测量分析了热处理样品的结晶相。 相似文献