基片负偏压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层结合的影响

利用等离子体增强控溅射离子技术，在高速钢基体上沉积ＴｉＮ之前先镀一层很薄的钛膜做界面膜，继之再沉积ＴｉＮ，利用能谱分析研究界面附近的元素成布，通过刻痕试验测定膜与基体之间的结合力。结果表明，沉积钛界面膜时基片负偏压愈大，基体与界面膜之间的过渡区就愈明显，膜与基体结合性能愈好。     

Cr过渡层沉积粘附型CVD金刚石膜的机理研究

研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺，在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜。利用SEM分析了电沉积层的形貌，利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面，利用SEM和Raman分析了金刚石膜的表面形貌、成分，利用XRD分析了过渡层和CVD金刚石膜的结合面．利用压痕法研究了金刚石薄膜与基体的结合力。结果表明，H等离子处理使得硬质合全与Cr镀层成为冶金结合，提高了电沉积层的结合强度；在Cr过渡层与金刚石膜之间形成的Cr3C2和Cr7C3等碳化物有利于金刚石的成核和膜基结合强度的提高。     

离子镀TiN色泽与工艺关系的研究

在ＴＧ－４型离子镀膜机上，择ＴｉＮ装饰膜镀制工艺进行了研究。结果表明，控制偏压、真空度、温度、氮气、氩气流量，可得到由白到淡黄、金黄、暗黄乃至黑色的ＴｉＮ膜层，而膜的沉积速度要在ｎｍ／Ｓ级范围内变化。     

金刚石薄膜与WC—Co硬质合金的随着性研究

以甲烷和氢气为气源，用热丝ＣＶＤ法，在ＷＣ－６％Ｃｏ的硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。研究了基体表面经抛光、腐蚀、脱碳及镀中间层等不同的预处理对金刚石薄膜与基体的随着性的影响。试验结果表明：基体表面经抛光、腐蚀再经脱碳或镀ＴｉＮ中间层，可改善和提高随着性，金刚石薄膜的形核率沉积速率有所降低；基体表面只经抛光、腐蚀预处理，金刚石薄膜的形核率和沉积速率较高，结晶性好，但随着性较差；采用分段沉积，可以提高     

金刚石薄膜与 WC-Co 硬质合金的附着性研究

以甲烷和氢气为气源，用热丝ＣＶＤ法，在ＷＣ－６％Ｃｏ的硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。研究了基体表面经抛光、腐蚀、脱碳及镀中间层等不同的预处理对金刚石薄膜与基体的附着性的影响。试验结果表明：基体表面经抛光、腐蚀再经脱碳或镀ＴｉＮ中间层，可改善和提高附着性，金刚石薄膜的形核率和沉积速率有所降低；基体表面只经抛光、腐蚀预处理，金刚石薄膜的形核率和沉积速率较高，结晶性好，但附着性较差；采用分段沉积，可以提高金刚石薄膜的附着性。     

Ti/TiN复合膜工艺优化及性能研究

利用正交试验和极差分析方法，分析了多弧离子镀Ti／TiN复合膜中工艺参数（弧电流、氮气分压、基体负偏压、钛过渡层厚度）对Ti／TiN复合膜的纳米硬度和膜与基体的结合力的影响及主次关系，并通过正交试验对工艺参数进行了优化。研究表明，氮气分压和弧电流是影响Ti／TiN复合膜纳米硬度的2个最主要因素，膜层与基体的结合力随着弧电流的增加而下降；升高基体负偏压，虽然可以提高Ti／TiN复合膜纳米硬度和膜与基体的结合力，但是高负偏压将急剧升高基体温度，可能导致基体退火；沉积一定厚度的钛过渡层可以显著提高TiN膜层与基体的结合力。     

PCVD－Ti（CN）膜的工艺及应用研究

通过正交试验对ＰＣＶＤ－Ｔｉ（ＣＮ）膜的镀膜工艺参数进行了优化，得到一可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率的Ｔｉ（ＣＮ）膜的工艺参数。试验表明，在用ＰＣＶＤ法沉积Ｔｉ（ＣＮ）膜的过程中，ＣＨ４的流量是一个重要的控制参数。过多的ＣＨ４会给Ｔｉ（Ｃｘ）膜带来不利影响。氩气虽然可以提高Ｔｉ（ＣＮ）膜的沉积速率，但降低了膜－基的结合牢度。其冷挤压模具应用结果表明，用优化工艺镀Ｔｉ（ＣＮ）膜的模具可比镀ＴｉＮ膜的模具提高寿命２～４倍；与未镀膜的模具相比，可提高寿命１０倍以上。     

SG涂层用于齿轮刀具上的效果

ＳＧ涂层用于齿轮刀具上的效果１．ＳＧ涂层的特点ＳＧ涂层是不二越公司独自开发的新型涂层，它由ＴＩＮ、ＴＩＣＮ、Ｔｉ系特殊膜等三层组成，其硬度为ＨＶＺ２００～２７００，耐磨性优于ＴｉＮ涂层；涂层与高速钢基体结合强度高，表层为Ｔｉ系特殊膜层，具有极好的耐热...     

离子镀氮化钛涂层高速钢刀具的性能研究

用空心阴极离子镀法（ＨＣＤ）在高速钢刀具表面沉积超硬ＴｉＮ膜，其结果用概率统计韦伯法研究表明：刀具的切削性能大大提高，试验数据分散度减小，可信度大大提高，ＴｉＮ涂层具有优良的化学和物理性质，是一种有效的提高刀具寿命的涂层。     

1Cr11Ni2W2MoV钢CVD沉积TiN涂层的耐磨抗振性能研究

采用化学气相沉积（ＣＶＤ）法在１Ｃｒ１１Ｎｉ２ＷＭｏＶ钢表面获得与基体结合良好的致密的ＴｉＮ涂层,经测定表层为ＴｉＮ厚度为４μｍ显微硬度２１５０－２４５０ＨＫ０．０３次表层为低碳马氏体,硬度为３９０－４１０ＨＶ０．０３,试验结果表明,在无振动,无冲击作用下,ＴｉＮ涂层比碳氮共渗层具有更好的耐磨性,但其抗振动损伤能力较低。     

TiN涂层高速钢的边界摩擦磨损特性

本文从摩擦学角度探讨了ＴｉＮ涂层高速钢的边界润滑摩擦磨抽特性及切削磨损过程中产生的一些特殊现象。在含硫润滑剂作用下，ＴｉＮ涂层表面受化学腐蚀，电化学腐蚀磨损，而反应边界膜在摩擦副之间起到部分隔离金属直接接触，避免ＴｉＮ涂层发生机械摩擦磨损；在切削过程中，在ＴｉＮ涂层高速钢刀具的刀－屑接触边界片ＴｉＮ与大气中的氧化合，生成有益的氧化物，致使ＴｉＮ涂层刀具抗缺口磨损能力较强，但刀一屑接触长度减小，因而     

气相沉积TiN和Ti（C,N）镀层的抗氧化性能

研究了气相沉积ＴｉＮ和Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）镀层的抗氧化性能，通过ＳＥＭ观察和ＸＲＤ相分析，研究分析了氧化腐蚀产物类型，探讨了膜基体系失效机制。结果表明，气相沉积层的抗氧化性能明显优于无镀层的３Ｃｒ２Ｗ８Ｖ试样，尤以ＰＣＶＤ ＴｉＮ性能最佳，氧化产物为金红石型ＴｉＯ２。     

沉积功率对金刚石薄膜质量和结合性能的影响

借助ＳＥＭ、ＸＲＤ和Ｒａｍａｎ光谱等分析方法对不同沉积功率条件不合成的金刚石膜形貌、结构和质量进行了表征，并采用压痕试验法评定了金刚石膜与基体的结合性能。     

高速钢与TiN膜结合强度计算方法的探讨

在研究与应用气相沉积方法的过程中,如何准确地评价膜与基体的结合强度一直是有待解决的问题。本文提出了用四点弯曲定性分析膜基结合强度的方法,并推导出定量计算膜基结合强度的公式。     

氮化硅陶瓷表面DLC膜的制备及摩擦性能研究

利用等离子体基离子注入与沉积技术,在氮化硅陶瓷片表面制备200～400nm的类金刚石碳膜。测试薄膜的厚度、表面形貌、结构、膜基结合力,利用球盘试验机考察DLC膜的摩擦性能。结果表明:沉积薄膜均匀光滑;薄膜的硬度和弹性模量与基体差异较小,膜基结合力强;DLC膜具有较低的摩擦因数,抗磨性能优异。     

等离子氮化与物理气相沉积TiN复合镀研究现状

物理气相沉积（ＰＶＤ）ＴｉＮ镀层已获广泛应用。为进一步改善ＴｉＮ镀层的性能,近年来致力于复合处理的研究,其中等离子氮化（ＰＮ）＋ＰＶＤ ＴｉＮ复合镀层的性能尤为优良,本文综述了其工艺、组织和性能之间的关系。     

用反应性PVD方法在金刚石表面沉积金属钛

采用反应性ＰＶＤ方法在金刚石表面沉积金属钛镀层，用Ｘ射线衍射分析了镀层的成分，证实了镀层中碳化钛的生成。扫描电镜分析表明，金刚石复合体中金刚石与基体金属之间结合致密，并提出了金刚石与基体金属之间的粘结机理。     

软硬交替多层膜应力应变响应的分析

为了对软硬交替多层表面膜在磨粒作用下的应力应变响应、膜层界面剥离和裂纹的产生及扩展的影响等有一个定量和全面的了解，从而为多层表面膜的结构设计提供理论基础，采用大变形弹塑性有限元法对高速钢基体上的ＴｉＮ／Ｔｉ／ＴｉＮ／Ｔｉ…多层膜在法向压痕作用下的力学行为进行了模拟和分析。为了研究膜层数和膜厚的影响，对从单层到１６层的不同膜层体系进行了计算。通过对膜层的变形、最大应力随膜层数的变化、界面切应力分布和表面张应力分布等的分析得出了这些参数的分布及其随载荷和膜层数的变化规律。这些结果将为多层膜的结构优化设计提供定量的依据。     

TiN多弧离子镀过渡层的组成及其对涂层结合力的影响

论述了ＴｉＮ多弧离子镀涂层过渡层的组成及其形成机制和影响因素。实验结果及分析表明,ＴｉＮ涂层过渡层由混合及扩散层组成,扩散层包括Ｔｉ原子扩散层及Ｎ原子扩散层;影响扩散层的主要因素是基体材料的成分和沉积温度;具有Ｎ原子扩散层的过渡层将使涂层的结合力明显提高。     

高速钢与TiN膜结合强度计算方法的探讨

在研究与应用气相沉积方法的过程中,如何准确地评价膜与基体的结合强度一直是有待解决的问题。本文提出了用四点弯曲定性分析膜基结合强度的方法,并推导出定量计算膜基結合强度的公式。