两亲性三嵌段共聚物对聚丙烯薄膜的表面改性EI北大核心CSCD

分别制备了以聚丙烯(PP)为亲油链段,聚乙二醇(PEG)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚甲基丙烯酸羟乙酯(PHEMA)为亲水链段的两亲性三嵌段共聚物,并将其用于PP薄膜的表面改性。使用傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜和接触角表征薄膜的表面组成、形貌和亲水性,比较不同亲水链段在聚丙烯薄膜中迁移扩散及在薄膜表面聚集的情况。研究发现,亲水链段向薄膜表面迁移扩散并在薄膜表面聚集浓度的顺序为:PEG链段>PVP链段>PHEMA链段>PMMA链段。亲水链段在薄膜表面聚集形成柱状微相区,微相区的分布密度与亲水链段在薄膜表面聚集浓度的顺序一致。由于PEG链段在薄膜表面的聚集浓度和微相区分布密度最高,表面改性效果最明显;而PMMA链段在薄膜表面聚集浓度最低,极性较弱,表面改性效果最差。     

两亲性三嵌段共聚物对聚丙烯薄膜的表面改性

分别制备了以聚丙烯(PP)为亲油链段,聚乙二醇(PEG)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚甲基丙烯酸羟乙酯(PHEMA)为亲水链段的两亲性三嵌段共聚物,并将其用于PP薄膜的表面改性。使用傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜和接触角表征薄膜的表面组成、形貌和亲水性,比较不同亲水链段在聚丙烯薄膜中迁移扩散及在薄膜表面聚集的情况。研究发现,亲水链段向薄膜表面迁移扩散并在薄膜表面聚集浓度的顺序为:PEG链段PVP链段PHEMA链段PMMA链段。亲水链段在薄膜表面聚集形成柱状微相区,微相区的分布密度与亲水链段在薄膜表面聚集浓度的顺序一致。由于PEG链段在薄膜表面的聚集浓度和微相区分布密度最高,表面改性效果最明显;而PMMA链段在薄膜表面聚集浓度最低,极性较弱,表面改性效果最差。     

氩气氛下制备的C_(60)薄膜的形貌、结构和光学性质

用原子力显微镜 (AFM)、X射线衍射 (XRD)、红外光谱 (IR)及紫外 可见光谱 (UV/VIS)研究了在氩 (Ar)气氛下制备的C60 薄膜的表面形貌、结构及光吸收特性。发现其UV/VIS的强度和吸收峰位置明显不同于在真空中制备的C60 薄膜。与真空中制备的C60 薄膜比较 ,所研究薄膜的红外谱没有变化 ,但X射线衍射表明其结构从面心立方 (fcc)相变成fcc相与六角密堆(hcp)相的混合相。AFM表明 ,在Ar气氛中制备的C60 薄膜有较大的表面粒子 ,并且表面生长岛更尖锐。这将有利于C60 薄膜的场电子发射。     

氩气氛下制备的C60薄膜的形貌、结构和光学性质

用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)及紫外-可见光谱(UV/VIS)研究了在氩(Ar)气氛下制备的C60薄膜的表面形貌、结构及光吸收特性.发现其UV/VIS的强度和吸收峰位置明显不同于在真空中制备的G60薄膜.与真空中制备的C60薄膜比较,所研究薄膜的红外谱没有变化,但X射线衍射表明其结构从面心立方(fcc)相变成fcc相与六角密堆(hcp)相的混合相.AFM表明,在Ar气氛中制备的C60薄膜有较大的表面粒子,并且表面生长岛更尖锐.这将有利于G60薄膜的场电子发射.     

退火温度对Bi0.5Sb1.5Te3薄膜的微结构及热电性能的影响

采用瞬间蒸发技术沉积了厚度为800 nm的P型Bi0.5Sb1.5Te3热电薄膜,并在373 K-573 K进行1小时的真空退火处理.利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和能量散射谱(EDS)分别对薄膜的物相结构、表面形貌以及化学计量比进行表征.研究了退火温度对Bi0.5Sb1.5Te3薄膜的电...     

氟碳铝单板表面溶胶凝胶法制备N-TiO2薄膜的组构及光催化性能

为了实现氟碳铝单板在太阳光下的自清洁,以钛酸丁酯为钛源、尿素为氮源,采用溶胶凝胶法在氟碳铝单板表面低温制备了N掺杂的Ti O2(N-Ti O2)薄膜,并制备了纯Ti O2薄膜进行比较。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、红外光谱仪分析了薄膜的形貌、物相及分子结构;用紫外-可见光分光光度计测定薄膜的紫外-可见光吸收波谱,并在可见光下分析了薄膜对亚甲基蓝溶液的光催化降解性能。结果表明:N掺杂能抑制Ti O2由锐钛矿相向金红石相转化,N-Ti O2薄膜表面光滑平整,没有孔洞和裂纹,在可见光下表现出了显著的光催化活性。     

膜厚对N型Bi_2Te_(2.85)Se_(0.15)薄膜热电性能的影响

采用瞬间蒸发技术沉积了N型Bi2Te2.85Se0.15热电薄膜,沉积的薄膜厚度在50~400nm范围之间,并在473K进行1小时的真空退火处理。利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能量散射谱(EDS)分别对薄膜的物相结构、表面形貌以及化学计量比进行表征。XRD分析结果显示,薄膜的主要衍射峰与Bi2Te3和Bi2Se3的标准衍射峰一致,沉积薄膜的最强衍射峰为(015),退火后,薄膜的最强衍射峰是(006)。采用表面粗糙度测量仪测定薄膜厚度,薄膜的电阻率采用四探针法在室温下进行测量,在室温下对薄膜的Seebeck系数进行表征。测试结果表明,薄膜为N型传导特性。并考察了薄膜厚度对电阻率及Seebeck系数的影响。     

DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能

采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。     

连续式离子层吸附与反应法沉积CuSCN薄膜及其微观结构、光学特性研究

采用乙二醇作溶剂,以连续式离子层吸附与反应法(SILAR)实现硫氰酸亚铜(CuSCN)薄膜在ITO、TiO2薄膜以及玻璃衬底上的沉积.通过X射线衍射、扫描电镜和紫外-可见光透过谱等手段表征薄膜结晶性、表面和断面微观形貌以及光学特性.结果表明,衬底以及溶剂性质均对SILAR法薄膜沉积过程存在重要影响.ITO衬底上获得的CuSCN薄膜更为致密,呈结晶态,而TiO2薄膜衬底上的CuSCN薄膜主要由颗粒组成,为非晶态.随沉积次数增加,薄膜表面粗糙度增大,光学透过率逐渐下降.在优化条件下(ITO衬底,20次沉积循环),所得CuSCN薄膜表面致密均匀,可见光透过率约60%.     

Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征

在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构.