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铜丝键合工艺在微电子封装中的应用 总被引:6,自引:0,他引:6
在铜丝或铜条长期应用于分立器件及大功率器件的同时,近年又出现了晶片的铜金属化工艺。由此,业内人士采用铜作为丝焊键合的一种材料使用,进而开始了一些新工艺的研究。结果证实,铜金属化使电路的线条更细、密度更高。因而铜丝可以作为一种最有发展前景及成本最低的互连材料替换金丝,可进行大量高引出端数及小焊区器件的球形或楔形键合工艺。主要阐述铜丝键合工艺在微电子封装中的现状及未来发展方向。 相似文献
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聚酰亚胺材料在微电子工业中的应用 总被引:7,自引:0,他引:7
介绍了高纯度高性能聚酰亚胺材料在集成电路及微电子工业中的应用,包括α粒子的遮挡层膜、微电子器件的钝化层和缓冲内涂层,多层金属互联电路的层间介电材料和多芯片模块多层互联基板的介电材料和接点涂层膜。 相似文献
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混合微电子技术用关键材料的新进展 总被引:7,自引:0,他引:7
概述了混合微电子技术用关键材料的种类和现状,讨论了混合微电子产品对不同材料的要求,分析了各种材料的特点,列出了相关材料的详细数据,指出了这些材料的发展趋势。 相似文献
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超细铜粉的化学镀锡及其抗氧化性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
以水合肼还原法制备出平均粒径约1μm的超细铜粉,并对其进行化学镀锡。研究了镀锡层对复合粉末微观形貌及抗氧化性能的影响。结果表明:镀覆质量分数50%的锡后,复合粉末平均粒径有所减小,但在空气中的氧化起始温度从120℃提高到220℃,与镀银层相比,镀锡层在较低温度区间对铜粉抗氧化具有优势。 相似文献
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采用单因素实验法,以镀液稳定性、镀速及镀层光亮度为指标,优化了化学镀铜液参数以提高镀液稳定性,并研究了添加剂对镀液电化学极化性能的影响。试验结果表明:随着Cu SO4·5H2O和HCHO浓度的增加,镀液稳定性有所下降;适量的络合剂和稳定剂的加入能有效提高镀液稳定性。采用优化后的镀液施镀30 min,镀速为4.93μm/h;施镀后的镀液在80℃水浴中的稳定时间大于2 h;所得铜层为具有金属光泽的淡粉红色,铜颗粒排列紧密;镀铜层电阻率低至3.67×10–8Ω·m,铜层与基体之间的附着强度提高至10 N/mm2。 相似文献
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