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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
本文描述了电流下降到零时,固定间隙为10mm的平板触头间的大电流真空电弧的三种类型:(1)集聚型--没有形成足够数量的单个阴极斑点;(2)集聚型--除集聚的阴极根外,还有大量的阴极斑点;(3)扩散型。本文指出了大电流真空电弧在转变为扩散状态之前,最具代表性的型式是在其中同时存在触头边缘附近的集聚放电和一组自激有斑点。同时,也测量了从集聚型真空电弧向扩散型真空电弧转变的临界电流。  相似文献   

2.
吴旭峰  凌一鸣   《电子器件》2006,29(4):1372-1374,1378
掺有铁镍催化剂的石墨棒状阳极和石墨块状阴极之间进行电弧放电,成功制备了单壁碳纳米管。激光拉曼散射和扫描电子显微镜测试表明,单壁碳纳米管直径约1.14m,呈管束形态,管束直径约15~20m。放电过程中的电弧等离子体光谱测试表明其中主要有C2分子的发射峰,光谱分布曲线与普朗克黑体辐射曲线中T=4350K的分布情况吻合,确定放电电弧等离子体温度约4300-4400k,测量误差约100K。  相似文献   

3.
正 大电流电子源是高功率氩离子激光器、离子镀膜装置、真空冶炼设备等的关键部件。目前多数是采用热阴极,现在介绍一种水冷杯状空腔电弧阴极。 设计空腔电弧阴极主要考虑:散热、绝缘、防止烧蚀、消除污染、限制弧斑运动、稳定电弧、启动电弧等因素。 本文设计的阴极如图1所示。图中1是水冷杯状金属空腔,其内壁面是阴极的发射面。在阴极出口孔内,装有自加热衬套2,用它来把阴极斑约束在空腔内。3是绝缘垫  相似文献   

4.
本文采用真空阴极电弧沉积方法在纯钛球顶场声器振膜基体上沉积类金刚石(DLC)薄膜。研制成DLC/Ti复合球顶振膜。着重讨论了钛基体的材质、厚度、振膜形状尺寸、DLC镀膜工艺参数对复合振膜性能的影响,并讨论了在镀膜过程中采用辅助工夹具以及合理的遮挡技术,保证振膜不变形和最佳的DLC膜层厚度与分布,使DLC/Ti球顶复合振膜频响达30kHz。  相似文献   

5.
研究CO2:N2:He激光混合气体中的非自持放电阴极层是很有意义的。通常,正是由于阴极层发展导致放电弧产生和电弧中放电中断的过程。从阴极附近区域传播出去的流体动力学扰动会使介质的光学质量变坏,而用非自持放电泵浦CO2激光器时,激光辐射的发散度就与这种扰动的主要因素有关。  相似文献   

6.
阴极斑点是真空电弧等离子体的重要源头,而真空电弧阴极斑点烧蚀形貌形成的过程是对阴极斑点特性展开研究的基础,对于提高真空电弧相关设备的性能及寿命有重要的理论指导意义。为对真空电弧阴极斑点烧蚀形貌形成的过程进行系统性的回顾,本文从实验与仿真两方面的研究现状进行了综述分析。论文总结分析了国内外对阴极斑点微观行为的实验研究,从建模仿真的角度综述了阴极斑点理论模型的发展历程,进一步对阴极斑点烧蚀形貌二维与三维模型的主要仿真结果总结分析。通过仿真与实验结果对比,讨论了现有真空电弧阴极斑点烧蚀形貌形成过程的实验与仿真研究存在的不足,并对其进一步展开研究进行了展望。  相似文献   

7.
用分帧摄像机可以研究两个螺旋形触头间的情况。这种研究是给弧柱施加一横向磁场,并将一圆筒形的电弧屏蔽罩焊接在固定电极上。当这一固定电极和屏蔽罩为阴极时,可以观察到,屏蔽罩上的阴极斑点是通过两种途径产生的。其中一种就是只有当弧柱很强烈时才会产生阴极斑点,这种强烈的柱形电弧对阴极和阳极焊根(IARC〉25kA峰值)都有的侵蚀能力。这种情况下,当电弧弧柱沿着触头边缘被驱动时,弧驻和屏蔽罩之间会有短暂的相互  相似文献   

8.
真空断路器广泛应用于中压电力系统中,利用触头线圈产生的磁场调控真空电弧是提高真空断路器开断能力的重要手段,然而目前的设计方法没有综合考虑阴极斑点动态运动与触头线圈磁场的耦合效应,影响其设计准确性和精度。本文建立了考虑阴极斑点与磁场耦合关系的触头磁场计算模型,根据阴极斑点分布计算触头间隙控制电弧的磁场,并由磁场推进阴极斑点运动。在四分之一匝线圈式触头下,分析了阴极斑点分布对触头磁场的影响,对比了考虑耦合关系对触头磁场计算结果造成的差异。仿真结果表明,在阴极斑点的初始扩散阶段,纵磁变化不明显,而横磁随阴极斑点扩散而变化;稳定燃弧时,考虑耦合关系与否的纵磁最大差值可达纵磁最大值的24.1%。本文所建立的模型以及计算方法为真空灭弧室触头提供了一种新的设计思路与方法。  相似文献   

9.
八十年代以来硬质膜的发展是通过膜层选材、制备工艺改进和材料设计三条途径进行的。在硬膜新材料方面,金刚石、立方氮化硼和β-Si3N4等超硬膜近年来最受重视。然而,以TiN为代表的硬度在Hv1500-4000kg/mm^2硬膜,仍然是工业而耐磨涂层的主流。电弧离子镀已经取代了空心阴极离子镀,成为工业中应用的主要硬膜工艺。然后,大颗粒问题却一直未能解决,因而限制了电弧离子镀在仿金装饰镀层方面的应用。近年  相似文献   

10.
用快速成像的CCD摄像机可以研究集聚型大电流真空电弧下的阳极和阴极弧根。该研究在杯状触头上进行,采用振幅为20-100KA,半波宽度为11.5ms的正弦电流。触 头分离时,电弧被拉开,并受电弧电流与横齿形触 头产生的横向磁场之间的朗兹力作用而加速。  相似文献   

11.
氧化钪掺杂钨基扩散阴极的结构、表面与发射特性的研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
以钪盐的水溶液与氧化钨液-固掺杂法制备了氧化钪掺杂钨基扩散阴极,利用扫描电镜、能谱分析仪和原位俄歇电子谱仪等现代分析技术研究了烧结体的形貌、Sc的分布及阴极的表面特性。用自行研制的微机控制全自动电子发射测量装置检测了阴极发射性能。研究表明,与Sc2O3与W机械混合制备的混合基含Sc阴极相比,采用液固掺杂法制备的阴极,Sc2O3分布均匀,阴极耐高温和抗离子轰击能力强,发射性能优异。  相似文献   

12.
于海波  林祖伦  祁康成 《现代显示》2005,23(6):38-40,34
目前,用于场发射阵列(FEA)的阴极发射体材料多种多样,按制备工艺可以分为蒸镀锥尖型、涂覆型和图形化阴极型等。本文概述近年来场发射阵列阴极材料及其制备工艺的研究现状,以及一些新型材料的应用情况。  相似文献   

13.
采用喷砂和真空蒸散技术,改进了Ni海绵氧化物阴极制备方法。试验表明,这一改进可显著提高阴极制备质量,有利于提高大功率微波器件的可靠性。  相似文献   

14.
多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析   总被引:2,自引:0,他引:2  
宏观颗粒是阻碍电弧离子镀广泛应用的障碍。它们镶嵌在膜层中,或散布在膜层表面。引起薄膜微区成分和结构的突变,对于工具镀来讲不一定有害,而对于高档模具和装饰来讲无疑是有害的。由于真空电弧阴极斑点局部温度高达8000~40000K,阴极表面的微小熔池产生喷射,最终形成这些宏观颗粒。许多方法用来减少和消除真空电弧离子镀中的大颗粒。本文比较了在直流偏压、直流迭加脉冲偏压和磁场过滤电弧作用下的宏观颗粒特点。实验方法用4弧源真空电弧离子镀设备进行TiN膜的沉积,用Zr、Cr、Ti靶进行(ZrCrTi)N复合膜的共沉积。工艺条件为:电弧电流80…  相似文献   

15.
利用扫描电镜,分析了磁控电弧沉积的氨化钛膜微观形貌。实验表明,阴极磁场对膜层的形貌有显著的影响,合理的磁场设计可减少膜层中的宏观颗粒(MP);膜的表面形貌主要受MP的影响,但当基片表面起弧时,弧痕对表面形貌的影响比MP的影响大;MP粒径多数在1~3微米之间,但少数的MP也可能大于十几微米或1微米以下。对MP的形貌分析表明,MP的形态与其粒径有关,较小的MP顶部呈圆球形,而较大的MP顶部扁平,且底部有微孔。  相似文献   

16.
彩色拖尾也叫彩色延迟,是指在聚焦电路和会聚系统工作正常的前提下,颜色向右边缘溢出的现象。维修实践中常见的有以下几种类型,可视具体情况分别处理。1显像管阴极衰老1)三个阴极都衰老此类故障表现为:亮度较暗,图像淡薄,当调大亮度、对比度和色饱和度时,图像模糊,聚焦发散,图像严重拖尾。为了进一步证实阴极是否老化,可采用灯丝加热后测栅极电阻的方法进行判断。一般认为,阻值在1~4kΩ表明阴极发射能力正常;阻值在4-100kΩ为轻度衰老;阻值若大于100kΩ说明阴极严重衰老。对此类故障多采用“激活阴极”法进行…  相似文献   

17.
煤制备洋葱状富勒烯的HREM分析   总被引:4,自引:1,他引:3  
采用直流电弧放电法以煤为原料制备富勒烯。实验采用工作气体为Ar,催化剂选用纳米Cu颗粒。所得到的阴极产物的HREM观察表明:在适当的工艺条件和催化剂作用下,可宏量制备出碳纳米颗粒—洋葱状富勒烯(nano-structured onion-like-fullerenes;NSOFs),直径为25~40nm;同时生成一些特殊形状的碳纳米管,其形状为探讨高温条件下碳纳米管向洋葱状富勒烯转变提供了有力的证据;煤的独特结构使其在制备过程中沿两条路径形成富勒烯:非晶态碳原子的石墨化和芳香结构的重排。X射线能谱分析表明煤中舍有Mg、Si、S等微量矿物元素,这些元素的存在意味着可能对洋葱状富勒烯的生成有催化作用,  相似文献   

18.
铸态贮氢合金显微结构研究温小杰①姚①陈玉茹②刘文西①(①天津大学分析中心,②天津大学材料系,天津300072)图1铸态贮氢合金背散射电子像贮氢合金的制备过程对其显微结构具有较大的影响。本文采用背散射电子像观察和透射电镜电子衍射分析的方法研究电弧熔融...  相似文献   

19.
陈德英 《电子器件》1998,21(2):94-101
本文回顾了近十年来,真空微电子在材料(硅、金属、砷化镓和金刚石膜)、制备工艺、阴极结构及应用等方面的进展。并详细介绍一些新阴极结构的制备方法与特点,供选择参考。  相似文献   

20.
马静 《电子工程》2004,(3):70-72
介绍了浸渍式钨酸盐钡钨阴极制造的工艺流程,并对钨海绵的压制、磨削夹具的设计、钨酸盐的制备、钨酸盐的浸渍等几个关键工艺进行了详细的探讨,指出只有严格按照相关工艺操作,才能制备出性能良好的阴极。  相似文献   

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