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作为目前制备多晶硅的主流工艺——改良西门子法,其工业生产技术很成熟,但是高能耗和高生产成本依然是阻碍该过程的主要原因。冶金法具有生产效率高,成本低的优点,这个方法可用来提纯冶金级硅,以制备太阳能级多晶硅。文章介绍了冶金法制备太阳能级多晶硅的主要工艺,结果表明:冶金级硅的各种提纯过程中,没有任何一个能单独制备低价太阳能级硅,但是可以通过把这些过程按照最优化的组合结合在一起,可以实现生产低价太阳能级硅。 相似文献
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采用流化床反应技术,以H2还原SiHCl3的方法制备太阳能级多晶硅。在直径50 mm的流化床反应器中,加入多晶硅颗粒作为初始晶种,通入SiHCl3和H2气体使颗粒处于流态化状态;高温下,反应生成的多晶硅在晶种表面沉积令颗粒逐渐长大而获得颗粒多晶硅。实验考察了流化床反应状态下的硅还原率和硅沉积速率及其影响因素,分别在950~1100℃,H2/SiHCl3摩尔配比为15,20,30及晶种粒径为350,550μm的条件范围内进行实验。当加入晶种粒径为550μm时,在1100℃条件下,H2/SiHCl3摩尔配比从15%增加到30%,硅还原率从14.2%提高到21.6%;当H2/SiHCl3摩尔配比为20时,温度从950℃提高到1100℃,硅还原率从14.9%提高到19.4%。在1100℃,H2/Si-HCl3摩尔配比为30的条件下,当加入晶种粒径为350μm时,测得硅还原率为25.7%,硅沉积速率为21.3 g.h-1;而晶种粒径为550μm时,硅还原率为22.9%,硅沉积速率为18.0 g.h-1。实验结果表明:提高H2/SiHCl3摩尔配比、提高温度和减少晶种粒径均可显著提高硅还原率和沉积速率,适宜的工艺条件为1050~1100℃,H2/SiHCl3(摩尔比)20~30;晶种颗粒粒径和流化床气流速度是流化床反应过程主要的动力学因素。在西门子法中应用流化床技术将能显著提高硅的还原率和沉积速率,是制备太阳能级多晶硅的可行技术。 相似文献
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我厂生产钼铁采用炉外法。钼铁冶炼的特点是短时间内放出大量含尘烟气,烟尘中平均含钼19.1%,因此每年要损失大量熟钼精矿,还造成了环境的严重污染,故有必要加以治理。 相似文献
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陆文龙 《有色金属材料与工程》1981,(2)
为降低太阳电池的价格,必须研究拉制硅单晶或硅带所用的多晶硅的低成本化问题。日立中央研究所和信越化学研究所于1980年秋在东京的“日立技术展”上,陈列了两所协作的用低成本多晶硅制作的太阳电池,并在日本“第十二届固体器件会议”上发表了《用流动床反应炉制备太阳级硅和扩散工艺太阳电池的制造和特性》一文。据称,用流动床反应炉方法的太阳级硅制作的太阳 相似文献
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高温熔炉产生烟尘的组成、污染物的组成特点,烟尘设计治理的原理,工艺治理的流程、集烟罩的作用、导流屏的辅助性、治理的主要技术参数,采用活动门提高集烟效果的新方法,利用气箱高压脉冲袋式除尘器治理后,达到排放标准,改善作业环境,满足环境法律法规的要求。 相似文献
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响影多晶硅质量的因素很多,这些因素往往是错综复杂的,涉及面广。在几年来的生产实践中,我们对消除多晶硅棒氧化夹层的问题作了某些观察与研究,取得了一些粗浅的认识。 1.如何防止硅棒的氧化试生产开始时,正值冬天,而且各种净化试剂都是新的,又加上当时比较注意还原过程种种条件的控制,如载体温度、混合气体配比、加料量、三氯氢硅纯度等等,并注意防止沾污。因此生产出来的多晶硅产品表面色泽光亮,结晶緻密,质量较好。可是,到夏天,如0017炉,硅棒在生长过程中出现如下一些异常现象:(1)沉积硅的结晶变 相似文献
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根据相似理论,对50t电铅熔炉进行了冷态模拟试验,其结果表明:炉内气流分布不均匀、炉子内部结构不尽合理、工艺及热工操作制度尚欠完善。为此,提出了相应的改进措施。 相似文献
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垂熔炉控制系统的数据采集 总被引:1,自引:0,他引:1
数据采集是计算机控制系统的第一道大门,其重要性是明显的。为了能够准确迅速地获取有关模拟量的数值,在我们研制的垂熔炉微机控制系统中,应用了直接计算有效值的工作方式,满足了控制生产过程的要求。 相似文献
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近年来,以多晶硅光伏产业为代表的硅及光伏产业链由于有新材料、绿色能源等良好题材支撑,引来了各方大量投资,形成了较为完整的产业基础,受到了全社会广泛的关注。但是,自2011年下半年以来,受下游消费行业的需求增速放缓和国内经济增长压力的增加,整个硅产业发展也受到巨大影响。其中多晶硅产业表现最为明显,其价格从年初的22万元/吨跌至12万~13万元/吨,进口多晶硅价格从年初的32美元/千克跌至18美元/千克,跌幅均超过40%。价 相似文献