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苯磺酰脲类除草剂合成 总被引:1,自引:0,他引:1
以N—正丁基—2—甲酯基—5—甲基苯磺酰胺和N—(4,6—二甲氧基嘧啶—2—基)苯基氨基甲酸酯为主要原料合成了N—(4,6—二甲氧基嘧啶—2—基)—N—(5—乙酰胺甲基—2—甲酯基苯磺酰基)脲。N—正丁基—2—甲酯基—5—甲基苯磺铣胺与N—溴琥珀酰亚胺反应,得到N—正丁基—5—溴甲基—2—甲酯基苯磺酰胺,产率60%;N—正丁基—5—溴甲基—2—甲酯基苯磺酰胺和叠氮化钠反应得N—正丁基—5—叠氮甲基—2—甲酯基苯磺酰胺,产率73%;N—正丁基—5—叠氮甲基—2—甲酯基苯磺酰胺经催化加氢得N—正丁基—5—氨甲基—2—甲酯基苯磺酰胺,产率75%;N—正丁基—5—氨甲基—2—甲酯基苯磺酰胺用乙酰氯酰化得N—正丁基—5—乙酰胺甲基—2—甲酯基苯磺酰胺,产率90%;N—正丁基—5—乙酰胺甲基—2—甲酯基苯磺酰胺经取代得5—乙酰胺甲基—2—甲酯基苯磺酰胺,产率77%:5—乙酰胺甲基—2—甲酯基苯磺酰胺和N—(4,6—二甲氧基吡啶—2—基)苯基氨基甲酸酯缩合,得到N—(4,6—二甲氧基嘧啶—2—基)—N—(5—乙酰胺甲基—2—甲酯基苯磺酰基)脲,产率63%。 相似文献
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介绍了线形氯化磷腈的分子结构、合成及应用;主要介绍了[Cl_3P—(N=PCl_2)_nCl]~+·PCl_6~-的合成及在二甲基硅油、乙烯基硅油、含氢硅油制备中的应用;Y—PCl=N—(PCl_2=N)_n—PCl_2O(包含PCl_3=N—PCl_2=N—PCl_2O的合成及在二甲基硅油制备中的应用;HO—PCl_2=N—PCl_2=N—PCl_2O的合成及在α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷制备中的应用;PCl_3=N—(PCl_2=N)_3—PCl_2O的合成及在α,ω-二(乙烯基二甲基硅氧基)聚二甲基硅氧烷制备中的应用。 相似文献
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利用熔融缩聚的方法将N-甲基二乙醇胺与丁二酸和1,4-丁二醇共聚,制备含N的聚丁二酸丁二酯(PBS)共聚物(N–PBS),然后将其与纤维素衍生物羟乙基纤维素(HEC)进行溶液共混,制备了在水相中均匀分散的共混乳液,用流延成膜法制备了N–PBS/HEC共混膜。研究了N–PBS中—N(CH3)—基团的含量对N–PBS亲水性及共混膜性能的影响。结果表明,随着N–PBS中—N(CH3)—含量的增加,N–PBS极性增加,亲水性增强;相对于PBS,N–PBS与HEC的相容性得到改善,共混膜的热分解温度在300℃以上,热稳定性良好,其透过率和断裂伸长率也随着N–PBS中—N(CH3)—含量的增加而提高。 相似文献
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在橡胶行业中能够满足具有较长有效期、较慢硫化速度的由仲胺衍生的苯并噻唑次磺酰胺促进剂已经应用了很多年。最近研究发现MBS(NOBS),N,N—二异丙基—2—苯并噻唑(DIBS)和N,N—二环己基—2—苯并噻唑(DCBS)均能产生有毒的N—亚硝基亚胺。在某些情况下,前硫化防止剂,如CPT以及用伯胺合成的苯并噻唑次磺酰胺,又如N—t—丁基—苯并噻唑次磺酰胺TBBS(NS),都与由仲胺合成的苯并噻唑次磺酰胺类促进剂具有相似的作用,但它 相似文献
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<正> 嗪氨灵的化学名称是N,N—双(1—甲酰胺基—2,2,2—三氯乙基)哌嗪。商品代号CELA—W524,分子量434.76,分子式C_(10)H_(14)Cl_6N_4O_2,结构式为: 相似文献
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美国固德里奇公司不久前推出一种新的次磺酰胺促进剂—N—氧二乙撑硫代氨基甲酰—N′—叔丁基次磺酰胺(OTTBS)。具有毒性小(特别是分解亚硝胺少)、在橡胶中溶解和分散性好、在通常硫化温度下能快速硫化、胶料可长期贮存等优点,因而可取代已有十年使用历史的N—氧二乙撑硫代氨基甲酰—N′—氧二乙撑次磺酰胺(OTOS)。本品的特点是分子量小(234),在69~71℃下熔融,在各种溶剂中的溶解度比此类一般 相似文献
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于莲 《中国石油和化工标准与质量》1991,(10)
1999年新出版的 ASTM99卷中对 ASTM D3324-88《用标准参比炭黑改善试验方法的再现性》进行了重新修订。修订后的标准编号是 ASTM D3324-89a。在新修订的标准中发布了一套6个标号的标准参比炭黑,总代号为 SRB-4(Standard ReferenceBlack)。6个标号的炭黑及对应的品种分别为 A—4 N 326,B—4 N 330,C—4 N 121,D—4 N762,E—4 N 660和F—4 N 683。标准中给出了这六种炭黑的标准测试方法。其精密度(重复性,最小有效差值),炭黑性能(目标值,典型值)及性能范围见表1。新发布的 SRB—4与原标准(ASTMD3324-88)中的 SRB—3(见表2)相比有以下差异。 相似文献
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N含量对CN薄膜折射率的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
采用射频磁控溅射法沉积了CN薄膜,利用XPS,XRD,FTIR等测试手段研究了CN薄膜的成分和结构。结果表明:CN薄膜为非晶结构;CN薄膜中n(N)/n(C)随沉积室中N2浓度的增加而增大,n(N)/n(C)最高可达到0.33;CN薄膜中主要含有C—C,C—C,C—N,C=N,C=N等原子基团;N在CN薄膜中主要起稳定sp^2C的作用。利用椭圆偏振仪测量了CN薄膜的折射率和厚度。对薄膜的折射率与N含量之间关系的研究发现:CN薄膜的折射率随n(N)/n(C)的增加而减小;CN薄膜的折射率由2.2减小到1.8。 相似文献