一种显著减少抛釉砖釉面水波纹的工艺技术

本文介绍了釉面水波纹显著减少的抛釉砖的生产工艺流程,重点介绍了制备方法中的坯料化学成份、底釉和透明抛釉配方、施釉工艺、烧成制度及抛光工艺这五道关键技术,通过以上几个关键技术得到的拋釉砖产品釉面具备如下效果:釉面水波纹显著减少,平整度显著提高,釉面光泽度提高,图案立体感增强,防污性能优越。     

煅烧釉料对抛釉砖釉面防污性能的影响

本文从抛釉砖釉层中气泡的残留量特性出发,研究了煅烧方式、煅烧温度、煅烧保温时间对生料型全抛釉原料特性的影响,创新性研制了煅烧料相应的透明釉料配方,并制定相应的合理窑炉烧成制度。研究表明:在1110℃的温度下煅烧生料型釉粉,煅烧保温时间15 min,可改变釉料的工艺性能,降低釉料自身烧失,同时产生相对生料釉更多的玻璃相填充釉料颗粒之间的空隙,从而有效地减少抛釉砖透明釉层中残留气泡的大小和数量,提升了抛釉砖釉面防污性能。     

超耐磨高硬度全抛釉的制备研究

针对目前全抛釉砖产品存在的釉面耐磨性差、硬度小、坯釉结合性差及防污能力差的不足,通过采用成熟温度高的生料釉作为面釉和烧成温度低的熔块釉作为底釉制备了全抛釉。通过底釉和面釉釉料的配方组成优化和调整釉料熔融性能及制备工艺等,研制出超耐磨、高硬度的全抛釉,有效提升了全抛釉砖产品质量。     

关于抛釉砖表面白色粉状落脏的答疑

正问:我们公司的几条抛釉砖生产线,生产中经常性的出现砖坯表面白色粉末状落脏现象,这些落脏有白色片状的,有表面凸起并有粗糙感,有起泡状如黄豆或玉米粒在砖表面抛光后为凹坑状;白色片状落脏用手触摸,可以感觉到釉面存在粗糙感不光滑。请问潘工,在生产过程中,我们应该如何操作才能有效避免这些问题的发生?答:目前所生产的抛釉砖,由于其表层釉面特性要求与抛光砖不一样,抛釉砖在抛光加工过程中只对表面0.2     

高、低吸水率抛釉砖变形控制的区别

正问:从目前国内抛釉砖产区分布来看,北方的抛釉砖以高吸水率为主导,南方产区则以低吸水率为主,请问这两种不同吸水率抛釉砖的变形值的控制,在烧成过程中有何异同点?答:目前抛釉砖从产品的吸水率高低来划分的话,一般可分为低吸水率(小于0.1%)和高吸水率(大于0.5%以上)两种。1抛釉砖变形控制的相同点(1)不管是低吸水率还是高吸水率产品,其变形     

抛光砖辊道窑炉改造为烧抛釉砖窑炉的注意事项

正某公司现有几条生产抛光微粉砖的辊道窑炉,准备改为生产抛釉砖。该窑炉长280 m、辊棒直径为65 mm、棒距为80 mm、内宽为2.5m。以水煤气为燃料,助燃风管为普通铁质无缝钢管。请问潘工关于窑炉方面的改造,我们重点应该注意哪些方面?答:首先,我们应该分析渗花砖或微粉抛光砖与抛釉砖工艺要求的差异性。(1)抛釉砖釉面质量和发色要求比普通渗花或微粉抛光砖要严格,砖坯表面不允许有落脏缺陷及釉面发色     

抛釉砖耐磨釉面的研究

利用常用陶瓷原料,采用正交试验法研制出了适用于抛釉砖生产用的亚无光耐磨釉,并对影响耐磨釉的因素进行了探讨,提出了提高耐磨釉面质量的措施。     

一种柔光抛釉砖的制备方法

本文介绍了柔光抛釉砖的生产工艺流程,重点介绍了制备方法中的底釉配方、柔光釉配方、烧成制度和抛光工序这四个关键技术,通过以上几个关键技术的综合得到的柔光抛釉砖产品光泽度为15~35,漫反射光柔和舒适、产品手感细腻平滑、耐磨性高、防污性能最优。     

影响抛釉砖变形的因素

本文结合全抛釉瓷砖的实际生产经验,从配方和烧成工艺对全抛釉瓷砖烧成变形的原因进行了分析和探讨,并提出相应的解决对策,以期对陶瓷企业有一定的帮助。     

浅谈抛釉砖淋釉釉浆性能控制方法

随着喷墨机的普及,全抛釉产品以其釉面防污性能好、图案纹理丰富逼真、层次鲜明等特点,已经占领陶瓷市场的半壁江山。晶刚釉作为全抛釉的升级产品,其攻克了全抛釉耐磨性能及平整度差的问题,已成为陶瓷市场的新宠。但晶刚釉属于熔块釉,其釉浆性能远比生料釉差,所以其控制难度更大。本文从釉料配方、釉料加工、釉浆陈腐等几个方面阐述晶刚釉釉浆的控制方法,以供同行参考。     

抛釉砖防滑工艺技术研究

根据市场上普通抛釉砖类产品普遍存在着防滑性能差,安全性能有待提高的特点,本文选择采用防滑剂对抛釉砖做后期防滑处理作为基准点,探讨不同防滑剂、不同防滑剂工艺方案、防滑剂不同用量和不同使用时间对抛釉砖防滑性的影响,得出抛釉砖后期防滑处理的最佳工艺方案,提高抛釉砖类产品的防滑性能。     

抛釉砖釉裂原因分析及预防措施

<正>笔者公司生产的全抛釉产品,有时会出现釉裂缺陷,其表现形式有如下几种:一、淋釉量400g/片砖时,不管做深颜色或浅颜色产品,都没有砖坯表面出现釉裂现象。二、当坯体的淋釉量增加到600~800g/片或以上时,坯体边缘,特别是出窑方向的前边很容易出现一条或多条的釉面收缩裂,该裂纹特征只裂釉面,没有裂到坯体,     

浅谈深色喷墨抛釉系列产品的生产调试

本文主要对深色喷墨抛釉产品在短窑炉与短釉线上面生产时的常见缺陷尤其是针对喷墨深色砖生产时釉面难干、产生缩釉及抛光后釉面有毛孔等问题进行原因分析与调试,通过调试生产工艺,对隔离釉和全抛釉配方进行系列研究,解决了深色喷墨抛釉产品存在的问题,提高了生产质量与品质。     

影响抛釉砖缺陷的因素及解决方法

抛釉砖色彩丰富、色泽明亮,比抛光砖装饰效果更丰富、比仿古砖光泽更多变、比瓷片更耐污,由于适用于多种装饰场合而越来越深受消费者的喜爱。但因其透明釉与坯体存在膨胀系数差异、熔融温度差异,以及使用弹性软质模块进行抛磨等原因,所以容易在其表面产生波浪纹等缺陷。本文简单分析了影响抛釉砖表面不平整的因素以及解决产品缺陷的原因,希望能给同行提供一些帮助。     

一种新型抛晶干粒的试制

探讨了一种陶瓷专用试剂――新型抛晶干粒的试制,并针对其在使用过程出现的缺陷问题如釉层透明度、釉面针孔和釉层气泡、干粒和砖坯膨胀系数不相匹配等进行了分析和讨论。     

瓷片全抛釉的工艺技术探讨

“瓷片全抛釉”作为一种新型的瓷片釉下彩装饰技术,能大幅度地提高瓷片整体釉面效果,这将成为高端瓷片市场的一种趋势和潮流。本文阐述了瓷片全抛釉的生产工艺流程及参数,并分析了瓷片全抛釉各釉层的应力情况。通过分析得出．全抛釉釉层应力决定产品的热稳定性,坯体承受的应力决定砖形,只有两者之间都匹配适当．才是瓷片全抛釉产品的关键。生产过程的各个工艺参数都要控制好,才能达到生产作业优等率高的目标,取得良好的经济效益。     

提高全抛釉瓷砖釉面硬度的研究

随着人们住房条件的改善、装修档次的不断提高,全抛釉瓷砖以其釉面花纹图案丰富、光泽度佳等特点占据了家装瓷砖的半壁江山,受到无数消费者的青睐。伴随需求量的增大,质量要求也越来越高。本文概述全抛釉瓷砖釉面硬度的测量,从釉料配方组成、多元配方系统、添加硬质晶体等对全抛釉瓷砖釉面硬度的提高展开研究。     

抛釉砖凹釉缺陷产生原因及其克服方法

淋釉是釉面墙地砖生产中一个重要环节。淋釉过程中最容易出现的凹釉缺陷,在生产过程中,我们应该如何预防控制呢?凹釉缺陷的特征:淋釉后,砖表面出现大小不一的凹陷釉坑,该凹陷的釉坑抛后无光,颜色暗哑,根据其产生原因可分为A/B两种类型的凹釉,如图1。A类凹釉:指施釉之后,在釉线上肉眼不能看见,待烧成后才能看见的凹釉。     

影响新型建筑陶瓷抛釉砖性能的因素研究

抛釉砖作为一种新型的建筑陶瓷,在近年内有了突飞猛进的发展,同时,新型抛釉砖以其优良的性能和高白度受到市场青睐。本文对影响新型抛釉砖白度等性能指标进行了分析研究,并提出利用陶瓷原理改善新型抛釉砖性能指标的主要工艺措施。     

抛釉砖类产品的特点、不足及发展前景

由于瓷质抛光砖存在防污性差、工艺美学性欠佳两个方面的不足,所以一方面要解决它的防污性;另一方面要提高它的仿石材艺术效果的逼真度将成为科技人员研发新产品的技术思路。而抛釉砖类产品就是实现这种技术思路的最快捷的方式,由此抛釉砖类产品应运而生。本文详细阐述了抛釉砖类产品的特点及不足,并讲述了抛釉砖类产品的发展前景。