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相似文献
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1.
开关电流技术与过采样A/D变换器   总被引:2,自引:0,他引:2  
开关电流(SI)电路技术与标准数字CMOS工艺的完全兼容使得它成为实现过采样A/D变换器乃至单片模数混合集成系统的理想选择。本文讨论了开关电流电路技术及其在过采样A/D变换器的应用,包括开关电流电路的基本单元及其各种改进型,实现过采样A/D变换器中调制器的建构模块和制器的结构。  相似文献   

2.
一种用于流水线A/D转换器的低功耗采样/保持电路   总被引:1,自引:0,他引:1  
陈曦  何乐年 《微电子学》2005,35(5):545-548
文章介绍了一种适用于10位20MS/s流水线A/D转换器的采样/保持(S/H)电路。该电路为开关电容结构,以0.6μm DPDM CMOS工艺实现。采用差分信号输入结构,降低对共模噪声的敏感度,共模反馈电路的设计稳定了共模输出,以达到高精度。该S/H电路采用低功耗运算跨导放大器(OTA),在5V电源电压下,功耗仅为5mW。基于该S/H电路的流水线A/D转换器在20MHz采样率下,信噪比(SNR)为58dB,功耗为49mW。  相似文献   

3.
一种用于10位100 MSPS流水线A/D转换器的CMOS线性采样开关   总被引:1,自引:0,他引:1  
唐林  杨谟华  于奇  宁宁  梅丁蕾 《微电子学》2005,35(2):199-202
分析了影响CMOS模拟开关性能的主要因素,针对10位100 MHz采样频率A/D转换器对输入信号动态特性的要求,设计了一种适合在3.3V电源电压下工作的CMOS全差分自举开关采样电路。基于0.35μm标准CMOS数模混合工艺,在Cadence环境下采用Hspice对电路进行了模拟。模拟结果显示,其无杂散动态范围达到95 dB,满足了A/D转换器采样保持电路对输入信号高动态范围的要求,也保证了电路的可靠性。  相似文献   

4.
本文介绍了一种12位多路带采样/保持器的A/D转换器MAX116,将其应用于电机矢量控制系统中,结合数字信号处理器DSP的强大功能,增加了系统实时性;该方案省去了传统多路A/D转换电路中的采样/保持电路,简化了硬件电路设计,实现了真正的同时采样。文中也对MAX116与DSP的接口电路及时序配合进行了阐述,并给出了实用程序。  相似文献   

5.
基于AD650的VFC型A/D转换器   总被引:1,自引:0,他引:1  
李平利 《现代电子技术》2005,28(6):117-118,122
针对实际工程的技术要求,设计了一种新型高精度模数转换电路——VFC型A/D转换器。该电路作为计算机控制系统与受控设备之间的接口电路,在计算机控制下,所有的逻辑判断和校正网络均由计算机软件实现,此转换电路不仅调试方便、简单,而且增加了系统的可靠性。实践表明,设计的VFC型A/D转换电路完全满足系统设计要求。本文详细叙述了VFC型A/D转换电路的工作原理、设计思想和实现方法。  相似文献   

6.
一种智能检测系统电路设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
徐祯 《现代电子技术》2004,27(24):30-31
简述了一种智能检测系统电路的设计,具体分析其中超高部分、轨距部分电路、里程部分测量电路、温度部分测量电路的设计,中央处理与A/D转换电路,电源变换电路。  相似文献   

7.
本文讨论了雷达信号处理中的一个关键器件A/D转换器,以及如何根据信号处理的要求选择合适的A/D采样器件,并对采样、过采样、欠采样等问题作了一些探讨。  相似文献   

8.
MAXl20是高速的12位A/D转换芯片,并自带采样保持电路和参考电压。本文详细介绍了其功能、特点、工作方式,及硬件接口实现方法。  相似文献   

9.
单片机系统中高速数据采集的实现   总被引:3,自引:0,他引:3  
介绍一种单片机系统中高速数据采集的实现方法,在单片机与高速A/D转换器之间以静态存储器作缓冲器,采用A/D转换器直接写存储器的方式提高采样频率,实现高速数据采集。并给出了设计方案。  相似文献   

10.
根据高速定点DSP芯片TMS320F206的特点,提出使用串行A/D转换器LC2558作为DSP系统的模拟量输入部分,解决了以往基于并行数据传输的A/D转换器不能与高速DSP进行很好配合的问题。在此基础上设计了DSP与串行A/D转换器连接的硬件电路,并就A/D转换在软件设计时应注意的问题进行了探讨。  相似文献   

11.
Four vanadium-based contacts to n-type Al0.6Ga0.4N were compared in this work. Both V/Al/Pd/Au and V/Al/V/Au contacts with optimized layer thicknesses provided lower specific-contact resistances than did the previously reported V/Al/Pt/Au ohmic contact. Specific contact resistances of the V/Al/Pd/Au (15 nm/85 nm/20 nm/95 nm) and V/Al/V/Au (15 nm/85 nm/20 nm/95 nm) contacts were 3×10−6 Ω·cm2 and 4×10−6 Ω·cm2, respectively. On the other hand, an analogous V/Al/Mo/Au contact never became ohmic, even after it was annealed at 900°C for 30 sec. Compared to the V/Al/Pd/Au contact, the V/Al/V/Au contact required a less severe annealing condition (30 sec at 700°C instead of 850°C). The V/Al/V/Au contact also provided a smoother surface, with a root-mean-square (RMS) roughness of 39 nm.  相似文献   

12.
利用MBE外延材料和接触式光学光刻方式,成功制备出1.0μm栅长GaAs基MHEMT器件,分别蒸发Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au作为栅电极金属.获得了优越的DC和RF性能,Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au MHEMT器件的gm为502(503)mS/mm,JDss为382(530)mA/mm,VT为0.1(-0.5)V,fT和fmax分别为13.4(14.8),17.0(17.5)GHz.利用单片集成增强/耗尽型GaAs基MHEMT器件制备出九阶环型振荡器,直流电压为1.2V时,振荡频率达到777.6MHz,门延迟时间为71.4ps.利用Ti/Pt/Au MHEMT器件设计并制备出了DC-100Hz单刀双掷(SPDT)关MMIC,其插入损耗、隔离度、输入输出回波损耗分别优于2.93,23.34和20dB.  相似文献   

13.
利用准分子激光原位淀积方法制备了BIT/PZT/BIT,PZT/BIT和BIT层状铁电薄膜,获得了电流密度-电压(I-V)回线和极化强度P-V电滞回线。在这三种结构中,Au/BIT/PZT/BIT/p-Si(100)结构的界面电位降、内建电压及频率效应是最小的。在电压转变电VT、饱和极化强度Ps及矫顽场Vc之间有三种关系,他们与I-V回线及P-V回线的关系相匹配,这种匹配关系使得以I-V回线操作的存储器将能够非挥发和非破坏读出及具有保持力。  相似文献   

14.
多媒体通信中基于ABR业务的融入凭证方式的速率控制机制   总被引:1,自引:0,他引:1  
提出了一种融入基于凭证方式的基于速率的流量控制模型,该模型继承了基于凭证方法的记数机制,通过设定高低缓存门限和调节速率升降因数来控制源端速率。仿真结果表明,这种控制机制不仅能够保证缓存的充分利用,而且能够提高其在减少信元丢失、降低传输时延等方面的性能。  相似文献   

15.
WLAN工程设计     
本文就WLAN工程设计提出了带有普遍意义的概念,包含室内覆盖、室外覆盖、室外(视距内)无线桥接。并就无线侧的规划、优化进行了浅析。  相似文献   

16.
用磁控溅射系统和快速合金化法制备了Mo/W/Ti/Au多层金属和n-GaAs材料的欧姆接触,在溅射金属层之前分别用HCl溶液和(NH4)2S溶液对n-GaAs材料的表面进行处理.用传输线法对比接触电阻进行了测试,并利用俄歇电子能谱(AES)、X射线衍射图谱(XRD)对接触的微观结构进行了分析.结果表明,用(NH4)2S溶液对n-GaAs材料表面进行处理后,比接触电阻最小;在700℃快速合金化后获得最低的比接触电阻,约为4.5×10-6Ω·cm2.这是由于(NH4)2S溶液钝化处理后降低了GaAs的表面态密度,消除了费米能级钉扎效应,从而改善了难熔金属与GaAs的接触特性.  相似文献   

17.
TiO2/n-Si/p-Si及n-PS/p-PS/Si的光伏特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
在抛光的p型单晶硅上通过扩散工艺制备pn结,采用此种硅片利用阳极腐蚀法制备多孔硅(PS).用磁控溅射镀膜机在有pn结的单晶硅表面镀上一层TiO2纳米结构薄膜,并用表面光电压谱(SPS)研究了n-PS/p-PS/Si和TiO2/n-Si/p-Si的表面光伏特性.结果表明TiO2/n-Si/p-Si和n-PS/p-PS/Si的光伏效应比n-Si/p-Si在不同程度上有所提高.在300~600 ℃热处理温度范围内TiO2/n-Si/p-Si的光伏效应随温度的升高而增强,600~800 ℃范围内随温度的升高而降低.  相似文献   

18.
本文基于网络逻辑隔离概念,利用业务随行、VxLAN和SDN等网络新技术进行网络架构规划,在减少基础建设投资的前提下,通过精准逻辑隔离的方式对科研单位的办公网、科研网和数据中心网络进行整体架构设计.该方式在不能单独组网(传统物理隔离)的条件下实现了网络终端、服务器、试验装置的访问可控和权限可控,可保障科研单位的整体网络运...  相似文献   

19.
利用MBE外延材料和接触式光学光刻方式,成功制备出1.0μm栅长GaAs基MHEMT器件,分别蒸发Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au作为栅电极金属.获得了优越的DC和RF性能,Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au MHEMT器件的gm为502(503)mS/mm,JDss为382(530)mA/mm,VT为0.1(-0.5)V,fT和fmax分别为13.4(14.8),17.0(17.5)GHz.利用单片集成增强/耗尽型GaAs基MHEMT器件制备出九阶环型振荡器,直流电压为1.2V时,振荡频率达到777.6MHz,门延迟时间为71.4ps.利用Ti/Pt/Au MHEMT器件设计并制备出了DC-100Hz单刀双掷(SPDT)关MMIC,其插入损耗、隔离度、输入输出回波损耗分别优于2.93,23.34和20dB.  相似文献   

20.
面向全业务运营的城域传送网的建设   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文首先展望了全业务的发展,然后主要阐述为了满足全业务接入需求,城域传送网的建设方案。  相似文献   

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