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化学镀非晶态Ni—Mo—P合金析出机理研究 总被引:2,自引:0,他引:2
通过对Ni-Mo-P非晶态合金形成过程的研究,借鉴表面催化理论对Ni-P二元合金析出机理的解释,提出了Ni-Mo-P三元合金镀层的析出机理。 相似文献
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利用XPS等手段研究了化学镀Ni-Mo-P合金在H_2SO_4溶液中的阳极溶解行为。结果显示,稳定电位下阳极形成稳定致密的钝化膜,其主要成分为Ni(OH)_2,其余为Ni(PO_4)_2、MoO_2及部分结合水。阳极电位正移,阳极表面膜厚度增加,结合水减少,在0.2V左右,阳极溶解电流剧增,局部腐蚀严重。此时,表面膜的主要成分为Ni_3(PO_4)_2,其余为Ni(OH)_2及MoO_2。合金在阳极溶解过程中出现磷(钼)在合金的富集。 相似文献
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本文采用X射线衍射和全浸试验方法,对化学镀Ni-Mo-P合金层的结构和抗蚀性能进行研究。结果表明:在硫酸溶液中,三元非晶态Ni-Mo-P合金层的耐蚀性高于二元非晶态Ni-P合金层的耐蚀性。 相似文献
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化学沉积Ni—Mo—P合金结构和耐蚀性的关系 总被引:2,自引:0,他引:2
本文采用X射线衍射和全浸试验方法,对化学镀Ni-Mo-P合金层的结构和抗蚀性能进行研究。结果表明:在硫酸溶液中,三元非晶态Ni-Mo-P合金层的耐蚀性高于二元非晶态Ni-P合金层的耐蚀性。 相似文献
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化学镀Co-P/Ni-P磁记录介质的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对用化学镀制取Ni-P/Co-P磁记录介质的工艺进行了研究。结果表明,对基片进行合适的预处理后,首先化学镀一层Ni-P合金层,厚度在24μm左右,然后再化学镀Co-P磁性合金,可获得良好的磁记录性能。 相似文献
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化学镀Ni-Sn-P合金镀层耐蚀性的研究(Ⅱ) 总被引:4,自引:0,他引:4
研究了化学镀Ni-Sn-P合金镀层的耐蚀性、并同高磷Ni-P合金(11.9wt%P)镀层进行了比较。结果表明:Ni-Sn-P合金镀层孔隙率低,在酸性、中性和碱性介质中的耐蚀性优于Ni-P合金镀层。 相似文献
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析氢电催化剂Ni—Mo—Pb合金的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
用电沉积法得到了非晶态Ni-Mo-Pb合金,该事金在碱性溶液中对氢的阴极析出具有很好的电催化活性,并有良好的可逆性和稳定性。给出了Ni-Mo-Pb电极上析氢反应的有关动力学参数。用稳态极化测量和XRD对Ni-Mo-Pb电催化剂进行了表征。 相似文献
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化学镀非晶质电阻膜的现状与展望 总被引:2,自引:0,他引:2
叙述了化学镀非晶质电阻膜分类和制作技术,其中包括Ni-P,Ni-W-P,Ni-Mo-P,Ni-Cr-P,Ni-B,Ni-W-B,Ni-Mo-B,Ni-B-P,Ni-P-SiC以及Ni-B-SiC等非晶质电阻膜的化学镀技术。介绍了化学镀非晶质电阻膜的形成机理。归纳了化学镀非晶质电阻膜的优点,指出了今后的发展方向。 相似文献
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化学镀Ni-Sn-P合金的工艺研究(Ⅰ) 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了以复合配位剂的化学镀Ni-Sn-P合金镀液、镀液组分和操作条件对沉积速度的影响。综合考虑镀层的组成,镀液的稳定性,确定了化学镀Ni-Sn-P合金的镀液最佳组成和工艺条件。 相似文献
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论述了各种搅拌方法,如空气氧、氮和电磁搅拌对Ni-P-MoS2化学复合镀层性能、外表的影响,通过试验对比得出,镀液的搅拌非常重要,是必不可少的,而对Ni-P-MoS2复合镀镀槽来说,空气搅拌比其它搅拌方式要好。文中对几种搅拌方法所取得的试验进行了分析比较。 相似文献
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利用电化学测试及XRD、XPS等方法,研究了化学镀Ni-Cr-P合金的结构及耐蚀性能,结果表明:在碱性溶液中使用络合剂可以获得化学镀Ni-Cr-P合金,其结构主要决定于合金中的磷含量,高磷合金为非晶结构。铬显著地提高了合金的耐蚀性能,铬在合金表面膜中富集是合金在1mol/LHCl溶液中产生钝化的主要原因。 相似文献
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脉冲电镀Ni-Co合金的研究 总被引:6,自引:0,他引:6
研究了脉冲参数对电沉积Ni-Co合金镀层的钴含量与硬度的影响。确定了最佳的脉冲参数。应用X射线和扫描电镜分析了Ni-CO合金镀层的结构和形貌。比较了脉冲电流(PC)和直流电流(DC)电镀Ni-Co合金镀层的各种性能。 相似文献
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化学镀Ni-P-B合金工艺的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
研究化学镀Ni-P-B合金工艺,对镀液的稳定性以及镀层的结构和耐蚀性进行了分析。实验表明:采用含稳定剂硫酸镉的镀液施镀,可得到结合力强、非晶态结构的Nj-P-B合金镀层,并具有优良的耐蚀性。 相似文献