一种加热炉炉管表面红外检测温度的修正方法

加热炉炉管表面温度检测的准确性直接关系到加热炉的运行状态和生产安全,利用红外热像仪测量炉管温度时易受到火焰和烟气、邻近炉管、炉墙辐射等因素的强烈干扰。为了实时准确获取炉管表面的真实温度,以某炼油厂加热炉为例,首先给出了炉管表面热红外检测温度的干扰分析,进而提出一种基于现场参数的实时温度校正模型,并结合该模型给出一套判别某厂加热炉炉管状态的专家规则,最后将这套软件应用于实际工程检验。研究结果表明,该方法有效实现了炉管表面的温度修正。     

CMP后清洗技术的研究进展

化学机械抛光(CMP)技术是目前广泛采用的几乎唯一的高精度全局平面化技术,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP技术水平的高低.介绍了各种机械、物理及化学清洗方法与工艺技术优缺点,指出了清洗荆、清洗方式是CMP后清洗技术中的关键要素.综述了CMP后清洗技术的发展现状,分析了CMP后清洗存在的问题,并对其发展趋势进行了展望.     

清洗过程中可能用到的化学药剂的性能

在清洗剂中特别是水基清洗剂中经常用到表面活性剂，为此将与表面活性剂有关的概念做一介绍。     

用表面分析技术对显像管电极清洗工艺的研究

两种不同工艺清洗的显像管电子枪电极用 XPS、SEM 和 AES 进行了分析研究,发现用国内工艺清洗的电极表面大多程度不同的存在污染斑痕。污染物的主要成份是 Na、Cl、S、CaO、MgO 和 Al_2O_3,很可能是未彻底清洗掉的研磨剂残留物。分析表明,表面分析技术在显像管研制与生产中有可能发挥重要作用。     

浅析高压绝缘子和高压电力设备带电化学清洗技术

介绍了高压绝缘子和高压电力设备的化学清洗剂技术,描述了该种方法的操作方法、注意事项,并通过与其他方法的比较,总结了这带电化学清洗的优势.     

计算机硬盘基片的化学机械清洗技术研究

目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低.采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声清洗实验,结合一系列的表面微观分析,研究了盘片CMP后清洗过程中的化学作用、机械作用以及清洗剂、清洗方式等物理化学要素对CMP后清洗效果的影响.结果表明,CMP后清洗是一种机械作用、化学作用等综合作用的过程.采用优化的清洗工艺及清洗剂,得到了低腐蚀、高洁净、平整的硬盘基片表面.     

表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响

为了去除蓝宝石化学机械抛光(CMP)后表面残留的抛光液,采用表面活性剂复配清洗法,选用非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚9 (AEO9)和阴离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES)按不同质量比复配,并与酸碱清洗法进行了对比。对CMP后的蓝宝石进行超声辅助清洗实验,分析了不同复配比对于蓝宝石晶片清洗后表面接触角、表面形貌以及颗粒去除率的影响。结果表明:表面活性剂复配清洗法的清洗效果优于传统的酸碱清洗法,最优配比的表面活性剂复配清洗法的颗粒去除率较酸碱清洗法提升了31.17%;当表面活性剂复配清洗法中AEO9与AES复配比为1∶1时,清洗后的蓝宝石表面接触角最小,为21.6°,表面形貌最优,颗粒去除率达到99.65%,清洗效果最好。     

通过添加表面活性剂和螯合剂改进硅片化学清洗工艺的研究

通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中,添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA),实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weibull分布,评价了不同清洗方法所得氧化层的质量。结果表明,上述改进能够显著提高对颗粒粘污和金属粘污的去除效果,同时能省去RCA的SC-2清洗步骤,具有节省工时、化学试剂消耗量小的优势。     

表面贴装加工领域的清洗技术及市场现状

本文针对环保和绿色制造的发展趋势,就SMT制造领域是否需要取消清洗工艺做了初步的探讨,并且论述了目前国内外在该领域的技术现状和清洗工艺及设备的市场状况。     

锅炉化学清洗技术的发展(二)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得.文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素.     

住宅楼取暖系统的化学清洗

本文针对取暖系统复杂的特点，通过对取暖系统管壁垢样的分析，确定采用柠檬酸、草酸和盐酸复配技术，并介绍了清洗系统设计和实际清洗过程。     

锅炉化学清洗技术的发展(三)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得。文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素。     

锅炉化学清洗技术的发展(二)——综述及相关问题分析

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求。     

300 mm快速升降温炉体的研究

介绍了一种快速升降温炉体的研制。由于传统的炉体升温响应较慢,升温耗时耗能,与之相比的快速升降温炉体,在升温性能方面,实现了升温响应快、抑制超调效果好。在降温方面,传统炉体只能依靠自然降温,平均降温速率3~4℃/min,增加了晶圆的工艺时间,增大了设备工艺气体、水、电等资源的消耗,而具有快速降温能力的炉体,很好地克服了传统炉体自然降温方面的不利。在新近研制的300 mm立式氧化设备中,实现了30℃/min的升温速率和15℃/min的降温速率,大大缩短了晶圆的工艺时间,保证了晶圆的成膜质量。     

锅炉化学清洗技术的发展(一)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得。文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素。     

一次成功的钛设备化学清洗

本文详细介绍了钛换热器中磁性氧化铁垢化学清洗的原理、施工方案、化学监督、工程注意事项，以及一个成功的清洗案例。     

中央空调制冷机的化学清洗

阐述了中央空调制冷机结垢的类型及其产生的原因和危害,分析了中央空调制冷机的冷媒水系统、冷却水系统的化学清洗技术和操作方法。     

油水混输管道的综合清洗技术

油田油水混输管道的结垢成分复杂，应用化学和物理方法进行综合清洗，能够取得很好的清洗效果，经济效益可观，应用前号十分看好。     

化学清洗对玻璃表面层光学特性的影响

利用p-偏振双面反射法、原子力显微术及激光损伤实验，对经不同化学清洗的K9平板玻璃基片表面的光学特性进行了综合表征。实验结果表明，经酸洗的玻璃表面，其消光系数明显减小，而光洁度和激光损伤阈值明显提高；通过进一步的碱洗，玻璃表面的光学性能仍可得到一定的改善。另外,随玻璃基片清洗程序的不断深入,p-偏振双面反射法测得的玻璃表面层光学参量的变化趋势，与观测的表面粗糙度及激光损伤阈值的变化趋势一致。     

净化管路内腔的工艺装备和环保型清洗工艺

系统的介绍了ZJL02型管路清洗机的构造、用途和使用方法，该工艺装备适用于铁路机车车辆、汽车、消防车、石油机械、化工设备等行业。投入使用后能使机械净化工艺创新，整体机械设备的内在质量能大幅度提高，有利于环保事业，性能价格比突出。