长寿命磁光光盘

日本染料盒公司声称，该公司已研制成可记录、再现、消去的具有10年以上寿命的磁光光盘，并确立了批量生产技术。磁光光盘作为信息化时代的超大容量记录介质而受人注目，但在耐用年数、批量生产方面存在问该公司采用聚碳酸酯衬底来防止迄今由丙烯树脂的题,吸水性引起的寿命劣化,同时采用特殊保护涂层 防止、记录膜氧化,成功地确保长期稳定性能。     

光盘光固化复制工艺中玻璃基片表面改性

测定了光固化膜分别与玻璃基片、金属Ni-模的结合力.采用预涂PMMA底化层、使用α-型硅烷偶联剂和SOL-GEL法制备衬底三种方法对玻璃基片表面进行改性并作比较,来选择合理的、经济的工艺路线.运用此工艺复制了CD唱片,并用SEM观察复制信息的微观形貌.     

TG28磁光玻璃

介绍了高Ｖｅｒｄｅｔ常数法拉第旋光玻璃的研究结果。选择了Ｔｂ２Ｏ３一Ｂ２Ｏ３—Ａｌ２Ｏ３—ＳｉＯ２系统为基础，研究玻璃形成．得到了高Ｔｂ２Ｏ３含量下稳定的玻璃组成ＴＧ２８．并获得了０．５Ｌ规模下高质量的玻璃样品．研究了ＴＧ２８玻璃的物理化学性质及熔制工艺．实验表明ＴＧ２８玻璃的Ｖｅｒｄｅｔ常数可高达—９７．４４Ｒａｄ／Ｔ．ｍ。此结果表明了进一步提高Ｖｅｒｄｅｔ常数的可能性．     

玻璃基片上双层多模光波导的制备

在光学玻璃基片上制作了双层掩埋式多模光波导芯片,这种芯片中的上、下两层光波导均通过熔盐离子交换和电场辅助离子迁移形成。对光波导的横截面以及输出光斑进行了观察,并进行了损耗和串扰测试。研究结果表明:双层多模光波导芯片中上、下两层光波导芯部横截面尺寸分别为29 m19 m和31 m20 m;两层波导的输出光斑尺寸相互匹配;两层波导传输损耗分别为1.000.32 dB/cm和0.780.35 dB/cm;两层光波导之间的串扰在17.7dB左右。这种玻璃基片上的双层多模光波导可以使板级光互连的互连密度增大一倍,提高EOCB的性能。     

磁光调制法测量玻璃内应力

为了实现玻璃内应力的高精度测量,提出了一种磁光调制的新方法,建立了基于磁光调制的内应力测量系统.首先,根据偏振光的穆勒矩阵描述方式推导了该系统的测量模型,通过分离被测信号的直流、基频和各次谐波分量,并利用归一化的方法,消除了光强波动对测量结果的影响,并根据处理接收到的各信号分量得到玻璃内应力方向和应力双折射大小.通过测量玻璃的不同位置验证了该方法的有效性,内应力方向的测量精度为5,应力双折射的测量精度低于0.5 nm/cm,且系统具有稳定性高、精度高等特点.     

Bi代石榴石磁光膜／金属反射层／玻璃多层结构磁光盘的优化设计

从磁光读出和热磁写入两者结合的角度提出一个新的优化目标函数．并用其完成了Ｂｉ代ＤｙＧａＩＧ／金属反射层／玻璃多层结构磁光盘的优化设计。结果表明新优化目标函数更具实际意义。     

用于编码数据存储的袖珍式磁光光盘

已研制出一种用于编码数据存储的袖珍式磁光光盘,其存储容量是13.34cm(5.25in)软塑料磁盘的500倍。由于采用了先进的高灵敏偏振光捡测光学系统和高质量记录介质,获得了较低的误码率。这方面的进展是通过读出信号噪声进行分析而取得的。该光盘驱动装置既可以通过址码段写入和擦除数据,它还可以用作为现行的一次性写入型光盘。这种光盘/光盘驱动装置可以提高存储容量,因而它可以提高办公系统自动化和其它信息系统的性能。     

磁光玻璃Verdet常数的精确测量

为了精确测量磁光玻璃的Verdet常数,设计了测试光路;应用光学矩阵方法对测量原理进行了分析,得到了具有线性双折射时磁光玻璃的法拉第偏转角的计算公式,并进一步得到了线性双折射较小时磁光玻璃Verdet常数的计算公式.在实验室条件下对同一块磁光玻璃用633nm和780nm两种激光光源分别进行了测量,测量结果表明:只有当线性双折射引起的相位延迟量远小于法拉第偏转角时,测量得到的Verdet常数可以忽略线性双折射,否则必须要消除线性双折射的影响,这对于磁光玻璃在光学电流互感器中的应用具有重要的参考价值.     

光盘与磁光盘简介

光盘与磁光盘简介安康当今激光技术发展，使信息存储技术面貌一新。与磁盘相比，光盘是有以下优点：１．存储密度极高。以只读型光盘为例，其密度高达５６０～７００兆位／平方英寸，比目前５．２５英寸７６５兆位硬磁盘的密度４３～５８兆位／平方英寸高１２倍。一个５，...     

3M公司制出可擦除磁光光盘

美国3M公司宣布,它已发展出一种光盘，象磁盘一样，其数据能移动、变换和擦除。据报导，本月计划少量生产的这种5.25英寸光盘，可以存储250000页文献资料。     

用于光盘的透明塑料基片

本文主要介绍光盘存贮器(光盘)。这种存贮器的一面或两面,按直径大小不同(12~30厘米）可制备约20000~50000条螺旋形轨迹，带有微细的信息槽。这些信息槽在光盘高速旋转时，用聚焦成直径约1微米的激光束读出。通常，光盘存贮器可以分为三种类型：ROM(只读存贮器,如视盘或所谓袖珍声盘)，DRAW(写后直读，已处于试用阶段）及Ε-DRAW(可擦式写后直读，处于继续发展阶段)。     

磁光盘存储

磁光盘存储是用磁性材料作为存储介质，用激光作为记录、再现和擦除手段的存储方法。七十年代解决了基本概念问题，研究活动虽然十分活跃，但并未达到实用化阶段。进入八十年代以来，随着小型盘和视频盘的商品化和光控技术的进步，利用Gd、Tb、Dy 等稀土元素和铁制成的非晶态薄膜作存储介质的装置相继问世，渐渐向实用化发展。     

飞秒激光直写磁光玻璃波导研究

用飞秒激光在硼铝硅酸盐类磁光玻璃中直写光波导 。对比了 飞秒激光在TG20和TG28两种Tb³⁺浓度不同的硼铝硅酸盐玻璃中的磁光波导的效果 ,并研究 了飞秒激光脉冲的能量和偏振对波导的模式以及Verdet常数的影响。实验结果表明,圆偏振 光具有更低的 阈值能量,且诱导的折射率增量高于同功率的线偏振光,首次在实验上证明飞秒直写加工硼 铝硅酸盐磁光 玻璃时,折射率的改变主要源于离子键的三或四光子吸收过程。磁光系数测量表明, 飞秒激光的功 率与偏振对TG28中波导Verdet常数的影响较弱,Verdet常数损失量小于体材料的15%,而在TG20中 却可以达到70%。实验结果表明,TG28比TG20更适用于飞秒激光加工 磁光微结构,即通过对 磁光玻璃中掺杂离子浓度的选择,可以实现高磁光系数、高折射率调制的光学微结构的制备 。     

磁光盘存储技术综述

文中对下一代磁光盘可能采用的技术：短波长记录读出技术、短波长磁超分辨技术（MSR）、磁畴放大读出技术（MAMMOS）、畴壁移动检测技术（DWDD）和超分辨近场结构型（Super-RENS)光存储技术的原理进行了介绍，并对上述磁光盘记录技术的现状及发展趋势进行了综述。     

宽温环境下磁光盘写入光功率的优化

利用有限单元法研究了环境温度、写入光功率、磁光盘膜面温度分布三者间的关系，在此基础上导出了宽温环境下的最优写入条件，该条件为优化宽温磁光盘读出性能提供了依据。     

采用不同中间夹层的双记录层磁光光盘热光特性比较

磁光存储技术是一种颇受关注的下一代光存储技术.为提高单个磁光光盘的存储容量,途径之一是采用多值存储、多波长读出技术,实现所谓三维磁光存储.通常使用不同波长的蓝光来实现信号的读写操作.如果不同波长的激光在磁光存储多层膜中产生热场分布的差异较大,将有利于提高读出信号的信噪比.本文结合光学矩阵法及有限元方法分析了中间夹层分别为SiN、GaP时,磁光存储多层膜的热光特性.结果表明在蓝光波段,用GaP层替代传统的SiN中间夹层,将使磁光光盘具有更好的热光特性.