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引言 如图1所示,将功率MOSFET或者IGBT用于全增强型的高压侧开关,其栅的驱动要求,即各端子的最低电压可归纳如下: 1、栅压应比漏电压高出10~15V。高压侧开关管的栅电位通常比系统中的最高电位──固定电平要高。 2、栅电位一般是对地而言的,必须逻辑可控。因此,控制信号应抬高到高压侧功率器件的源电位,在大多数应用中,此源电位在两固定电平间摆动。 3、栅驱动电路所消耗的功率对整体效率不能有明显的影响。 由于以上的限制,目前已采用好几种工艺可用来完成功能,原理见表Ⅰ,每一种基本电路均可用多种结构来实现。 国际整流器公司的IR2110栅驱动器集成了驱动高压侧与低压侧功率MOSFET或IGBT所需的大部分功能,兼有小体积与高性能的封装。附加少许元件。IR2110便能提供很高的开关速度(见表Ⅱ)以及低耗 相似文献
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本文介绍了一种耐压为500伏,具有8路高压输出的MOS高压集成电路HVICSEU,具体介绍了高压NMOSFET的设计和工艺实施,它特别适用于高压等离子显示的驱动,并且可以多位并联使用。 相似文献
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双栅MOS场效应管是近年来发展起来的很有前途的新器件.由于它具有工作频率高、增益可控、高跨导、高输入阻抗、低噪声系数、低反馈电容以及大动态工作范围等优点,被广泛地运用在甚高频和超高频的通讯电路中.例如:在电视接收机中作自动增益控制放大器、乘法检波器、彩色同步解码器、VHF与UHF调谐器中高频放大器、混频器以及图象中频放大器.特别当应用在VHF、UHF电子 相似文献
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采用多晶硅栅全耗尽CMOS/SIMOX工艺成功研制出多晶硅栅器件,其中N+栅NMOS管的阈值电压为0.45V,P+栅PMOS管的阈值电压为-0.22V,在1V和5V电源电压下多晶硅栅环振电路的单级门延迟时间分别为1.7ns和350ps,双多晶硅栅SOI技术将是低压集成电路的一种较好选择。 相似文献
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本文阐述了MOS高压和功率集成电路的现状。在前言部分叙述了这些集成结构的发展,回顾了与分立器件相比的一些主要优点,提出了一些关于集成方法的问题。对于用MOS技术制作并用作集成电路功率开关的各种器件结构进行了评述。考虑了最近开发的两大电路系列:(1)智能功率技术,它包括与控制电路和保护电路集成在一起的单个或多个纵向(共漏)功率开关;(2)高压集成电路,其功率器件是横向的,电流能力较低,其控制电路(CMOS或双极)具有较高的集成密度。提出了设计智能功率开关的一些主要功能问题。对于主要的晶体管单元结构,特别是限热电路和稳偏网络,作了详细介绍。可以看出,在电气波动和与工艺有关的参数变化方面及非稳定因素方面,所涉及的模拟电路都可做到非常稳定。 相似文献
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MOS集成电路的世界市场一览裹 (单位:百万美元)1 9 7 81 9 7 91 9 8 01 9 8 11 9 8 21 9 8 3民用品 手表 台式计算机 汽车 乐器 电视 钟 玩具 家用电器 家用计算机 其他电子计算机 CPU(包括存储器) 外围设备事务机 科学、事务计算机 其他工业用机 测量仪器 工业用机通信与航空 通信 其他政府与军事总计 535 89 89 83 48 62 28 80 25 6 25 721 405 316 315 155 160 145 T3 T2 241 161 80 1302,08T 632 95 82 13T 53 70 30 90 29 15 31 843 466 37T 362 163 199 16T 84 83 295 198 9T 1412,440 789 110 84 196 60 79 3T 114 40 30 391,0… 相似文献
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《电子科技文摘》2001,(2)
0102051片上系统集成(SoC)时代的到来[刊]/张宝元//微电子技术.—2000.28(5).—13~17(E)本文从信息市场需求和技术发展的角度分析了片上系统集成(SOC)是集成电路发展的必然趋势,它是设计技术的一场革命.将成为信息领域 IC 的主流。本文还简要地叙述了 SOC 所涉及到的如 IP、设计方法学、软、硬件协调设计、验证等主要技术。参2Y2000-62185-147 01020520.8μm CMOS 工艺的器件设计,制造及特性=Devicedesign.fabrication and characterization of 0.8gm CMOStechnology[会,英]//1998 IEEE International Confer-ence on Semiconductor Electronics.—147~151(E)Y2000-62185-162 0102053用于 CMOS 集成电路逻辑和 IDDQ 测试集成化的电流传感器及测试处理器设计=Current sensor and testprocessor design for integration of logic and IDDQ testingof CMOS ICs[会,英]/Ahaf-U1-Amin.M.& Darus,Z.M.//1998 IEEE International Conference on Semicon- 相似文献
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《电子科技文摘》2001,(3)
Y2000-62422-86 0103719全耗尽绝缘体上硅技术比例生成0.13μm 1.2~1VCMOS 电路=Scability of fully-depleted SOI technologyinto 0.13μm 1.2V~1V CMOS generation[会,英]/Raynaud,C.& Faynot,O.//1999 IEEE InternationalSOI Conference Proceedings.—86~87(EC)Y2000-62422-88 0103720用于超薄(35nm)绝缘体上硅0.18μm CMOS 电路的硅化物=Advanced silicide for sub-0.18μm CMOS on Ul-tra-thin(35nm)SOI[会,英]/Ren,L.P.& Cheng,Bth.//1999 IEEE International SOI Conference Proceed-ings.—88~89(EC) 相似文献
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《电子科技文摘》2001,(1)
Y2000-62364-105 0100354混合信号设计与测试(IEEE TTTC-LA 专题部分)(含3篇文章)=Session 7:mixed-signal design and test,IEEE TTTC-LA special session[会,英]//Proceedings ofthe Ⅻ Symposium on Integrated Circuits and SystemsDesign(SBCC199).—105~118(PC)本部分收入3篇论文。题名为:混合信号可编程序组分的电路级考虑,采用瞬态分析的2阶动态特性系统中的故障检测,以及具有可测试性特征的低灵敏度开关电容器滤波器设计。 相似文献
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《电子科技文摘》2002,(10)
Y2002-63121-594 0219677深亚微米 CMOS 的备用能量降低技术的有效性=Ef-fectivity of standby-energy reduction techniques for deepsub-miron CMOS[会,英]/Van der Meer.P.R.& vanStaveren.A.//The IEEE International Symposium onCircuits and Systems Vol.4 of 5.—594~597(HE)Y2002-63121-758 0219678应用多层多晶硅二极管的接通有效功率轨迹静电放电钳位电路设计=Design on the turn-on efficient power-rail ESD damp circuit with stacked polysilicon diodes[会,英]/ker,M..D.& Chen,T.-Y.//The IEEE 相似文献