电解法制取氧化亚铜的研究

确定了电解法制取氧化亚铜的最佳条件：氯化钠浓度３００ｇ／Ｌ；氢氧化钠浓度０．４－６ｇ／Ｌ：重铬酸钾浓度０．１ｇ／Ｌ；温度大于８０℃；电流密度５００－１０００Ａ／Ｍ￣２。在此条件下可以得到纯度为９５％以上的一级产品。     

船底防污涂料用氧化亚铜制备的研究

采用水溶液电解工艺制备出了船底防污涂料用的氧化亚铜粉末。研究了电解液组成及其浓度、电解温度以及电流密度等因素对氧化亚铜产品质量的影响,得到了电解法制备氧化亚铜的优化工艺条件：［ＮａＣｌ］＝２５０ｇ／Ｌ,［ＮａＯＨ］＝０．１～１．０ｇ／Ｌ（ｐＨ＝１１．１～１２．１）,电解温度：８０～８５℃,电流密度：５００～１５００Ａ／ｍ２,［Ｎａ２ＣｒＯ４］＝０．０３～０．０５ｇ／Ｌ。在此工艺条件下可制备出Ｃｕ２Ｏ≥９７％以上的产品。     

电解法制备氧化亚铜粉末的研究

采用电解法制备船底防污涂料用氧化亚铜（Ｃｕ２Ｏ）粉末。研究了ＮａＣｌ电解液组成及其浓度、温度,以及Ｎａ２ＣｒＯ４添加剂浓度、阳极电流密度等因素对Ｃｕ２Ｏ产品质量的影响,确定了电解法制备Ｃｕ２Ｏ的最佳工艺条件,可制得Ｃｕ２Ｏ≥９７％的产品。     

电沉积工艺对氧化亚铜薄膜成相的影响

利用电沉积的方法制备氧化亚铜薄膜,研究了络合剂的种类、浓度、后处理工艺及沉积时间对薄膜成相的影响。研究表明,络合剂柠檬酸钠有利于形成氧化亚铜薄膜;随着柠檬酸钠的浓度增加,薄膜中氧化亚铜含量降低,铜单质含量升高;沉积薄膜后,后处理对薄膜成相影响很大,烘干前不清洗薄膜中含有溶液中物质;随着沉积时间变长,薄膜变厚,然后出现掉膜现象。实验结果表明,选用柠檬酸钠为络合剂,柠檬酸钠的浓度为0.015 mol/L,沉积t为30 min,沉积薄膜后用蒸馏水清洗,制备出结晶良好,表面呈均匀纯相的氧化亚铜薄膜。     

石墨烯/氧化亚铜界面交互作用对储锂性能的影响

通过一种简单的液相法以及随后的热处理合成了石墨烯/氧化亚铜复合材料(Cu_2O/GNSs)。通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射以及X射线光电子能谱对复合材料的形貌和结构进行了表征。当复合材料作为锂离子电池负极材料时,在50 mA/g电流密度下,首次可逆容量为448 mAh/g,经过90次循环以后,容量增加到613 mAh/g。在500、1 000 mA/g下,可逆容量依然可达444、346 mAh/g,分别为50 mA/g电流密度下容量的99%和77%。Cu_2O/GNSs较高的容量以及优异的倍率性能应当归结于石墨烯与氧化亚铜之间的协同作用。     

稳定剂的配比对产品质量的影响

稳定剂是生产聚丙烯必不可少的主要助剂,但是由于稳定剂自身的因素会从不同方面、不同程度的影响聚丙烯的产品质量．自2002年以来,聚丙烯装置生产的聚丙烯产品随时有黄辩出现,严重影响产品质量,针对聚丙烯产品出现黄科较多的问题,年初公司引进了复合抗氧剂9301、PW-9225,但由于检测手段不完善,不能看出复合抗氧弃鼍的直接效果．     

电化学法制过硫酸盐所用添加剂的研究

本文研究了在电化学法制备过硫酸铵的过程中,添加剂聚磷酸铵等对其电流效率的影响,并对添加剂的用量及其对产品质量的影响情况进行了试验。     

溶液pH对电沉积氧化亚铜薄膜的影响

采用醋酸铜-醋酸钠酸性溶液和硫酸铜-乳酸碱性溶液,分析了不同pH下电沉积Cu2O薄膜的形貌及结构,讨论了镀液体系及溶液pH对Cu2O薄膜生长的影响,测定了不同形貌的Cu2O薄膜的光学透射性能.结果表明,溶液的氢氧根、羧基、羟基中的氧原子会影响Cu2O薄膜的结构及形貌.酸性溶液中,Cu2O薄膜易形成混晶结构;而碱性溶液中,随着pH的变化,Cu2O薄膜有不同的择优取向.酸性溶液中Cu2O薄膜形成网状结构,碱性溶液中易形成锥形结构.     

金负载对立方体纳米氧化亚铜光催化性能的影响

以1-苯基-5-巯基四氮唑(简称四氮唑)为晶体生长控制剂,用葡萄糖还原氢氧化铜的方法制备了尺寸均匀的立方体纳米氧化亚铜;用硫氰酸金加热分解的方法在氧化亚铜上负载了金,并对其光催化性能进行了研究。结果表明,金的负载能有效提高纳米氧化亚铜的可见光催化效率。     

联醇废触媒回收生产氯化亚铜与氧化锌

介绍了利用甲醇废触媒中的铜、锌制取氯化亚铜和氧化锌的原理、操作工艺及条件。所得氯化亚铜和氧化锌产品达到国家标准,回收率分别为９５％和９２％,经济效益显著     

稀土氧化物对氮化铝瓷介电性能的影响

研究了添加Nd2O3和Er2O3对氮化铝陶瓷烧结性能、介电性能和显微结构的影响。结果表明:在氮化铝瓷中添加Nd2O3和Er2O3,有利于降低氮化铝陶瓷烧结温度,提高致密性,并且介电性能能够得到显著改善。添加3%(质量分数)Er2O3的AlN陶瓷的相对密度达98.8%,介电损耗为1.3×10-4,是纯AlN陶瓷的5%。其显微结构分析表明,氮化铝晶粒尺寸更均匀,并且其晶格参数更接近理论值,晶界相较少,从而使得其介电性能得到较大改善。     

先进再燃脱硝机理与添加剂增效机理

先进再燃是将再燃和喷入氨剂相结合的脱硝技术.添加剂可以改善先进再燃脱硝反应,进一步提高脱硝效率.主要阐述了先进再燃脱硝技术的进展和脱硝机理,综述了先进再燃脱硝添加剂及其增效机理.添加剂可对同相和异相还原反应起促进作用,可同时利用一种或几种添加剂以改善再燃和氨剂还原NOx的反应,其中碱金属化合物是先进再燃的良好添加剂.有必要筛选制备合适高效的添加剂,进一步研究添加剂对再燃、氨剂还原NOx的增效机理及其协同反应条件.     

表面活性剂对氟硅酸钠、氟硅酸钾及二水硫酸钙的界面能的影响

从界面能方法和结晶理论入手,研究了磷酸介质中表面活性剂对氟硅酸钠、氟硅酸钾、二水硫酸钙结晶生长的影响。利用薄层浸润法测定固液间的接触角,计算上述三种物质在磷酸介质中的固液界面能,研究得知：最先析出氟硅酸钠,其次是氟硅酸钾,最后是二水硫酸钙;而且添加表面活性剂使界面能增大,其中聚乙二醇10000、OP乳化剂和十二烷基苯磺酸钠阻垢效果明显,十二烷基苯磺酸钠对首先析出的氟硅酸钠的影响最大。     

添加剂对金属陶瓷惰性阳极电解腐蚀的影响

采用粉末冶金法制备了无添加剂和添加V2O5的Ag-NiFe2O4/NiO金属陶瓷惰性阳极.铝电解试验在960 ℃进行,电流密度为0.5 A/cm2,电解时间为8 h,研究了无添加剂和添加2.0%(质量分数,下同)V2O5的Ag-NiFe2O4/NiO样品在Na3AlF6-5?F2-5%Al2O3熔体中的腐蚀行为.研究表明:无添加剂的样品有较明显的腐蚀迹象,而添加2.0%V2O5的样品腐蚀后尺寸略有变化,表现出很好的耐腐蚀性.对腐蚀后样品的表面进行扫描电镜/能量色散X射线分析发现:在添加剂V2O5的作用下,Fe2O3在冰晶石中的溶解速率减小,从而抑制了陶瓷基体的溶解.另外,无添加剂样品表面各元素分布不均匀,说明无添加剂的样品在电解过程中发生选择性腐蚀,晶界等薄弱部位先被腐蚀.而添加了2.0%V2O5的样品中各元素分布均匀,说明V2O5增强了晶界的稳定性,提高了材料抗电解质的腐蚀能力.     

添加剂对高铝瓷耐磨性能的影响

根据大量文献，从影响高铝瓷耐磨性诸因素出发，系统讨论了添加剂对高铝瓷耐磨性的作用，指出高铝瓷耐磨性研究中几个值得注意的研究方向。     

添加剂对氧化铝瓷烧结及物化性能影响的探讨

研究了在“90”氧化铝瓷基础上 ,添加剂对其烧结及部分物化性能的影响。在低温烧结系列配方样品中 ,不同添加剂其助烧结作用的强弱排序是 :特制熔块 >白云石 >长石 >滑石 >莫来石 ,而补强排序为 :莫来石 >特制熔块 >白云石 >滑石 >长石。在补强增韧系列配方样品中 ,不同添加剂其作用由强到弱排序是 :SiC晶须>3Y -ZrO2 >TiC >Si3 N4>莫来石     

塑料成型加工实用技术讲座(第三讲) 注射成型工艺对制品质量的影响

介绍注射成型工艺对制品质量的影响。指出注塑工艺参数主要有温度、压力、时间三类。对不同的塑料原料、模具结构、工艺参数的选择各不相同，且各工艺参数对制品质量的影响也有较大区别。在塑料原材料、模具结构一定的情况下，注射成型工艺参数的选取、设定对制品质量的作用显著。并指出了注射成型工艺参数的合理选用原则以及如何用PVT关系曲线对工艺参数进行优化。     

基材温度对铟锡氧化物膜结构与电性能的影响

采用阴极磁控溅射法,在不同基片温度条件下镀覆铟锡氧化物（ＩＴＯ）透明导电膜,由Ｘ射线衍射分析试样结构随温度的变化,并测试了样品的方块电阻,电阻率,Ｈａｌｌ迁移率,载流子浓度等电性能和膜层的可见光透过率。