椭圆膜孔透镜电子枪中用作动态聚焦和象散控制的四极透镜

引言众所周知,在一列式彩色CRT中使用了自会聚系统,其偏转线圈引起了很大的象散,这种象散大大减弱了屏边缘的分辨率。近来,做了一些尝试以校正这种象散,即在电子枪中使用一种具有双电位主透镜系统的聚焦电极的四极透镜。在四极透镜上加上一个与束偏转同步的动态电压,以补偿由于偏转系统引起的象散。这种动态电压也可以在整个屏上使电子束聚焦,即能够实现动态聚焦。     

CRT用非轴对称电子枪的电子束分析

装有非轴对称电子枪的显象管的电子束模拟器已开发出来，该模拟器已考虑到了电荷效应，电子热扩散和偏转散焦效应，模拟器中，电子束被分成各个高斯束流，每个高斯束流都具有主轨道和旁轴轨道。为计算主透镜的静电场，对于复杂的电极需采用极场展开法与表面电荷法相结合的办法来减少ＣＰＵ时间，简化数据输入，动态象散校正依靠主透镜上旋转一四极透镜的方法来完成，象散的消除采用电子束形成区域用狭缝和方孔的方法来完成，这些都已     

一种极低场曲复合聚焦偏转系统的设计

本文提出了一种用系统本身预偏转和主偏转象差相抵消来消除电子光学场曲的方法。采用解析函数近似表示系统场分布和电子轨迹,对象差进行了理论分析和解析计算,表明在一定条件下,可以完全消除复合聚焦偏转系统的彗差和横向色差,并使场曲达到极小。由设计实例可见,该系统在10×10mm~2扫描范围内,场曲仅为0.013μm。     

彩色显象管电子光学系统的进展

本文介绍了近年来彩显管在电子光学系统方面取得的主要进展,重点介绍了减少象差三极管枪、减速场预聚焦电子枪、动态校正象散和散焦、失会聚校正、枕形失真校正等。     

电子束聚焦偏转系统中透镜和偏转器不对中装配误差效应的数值计算

本文讨论了透镜和偏转器在电子束系统中不对中装配造成的电子光学性质影响的数值计算问题,包括推导出不对中的透镜和偏转器在系统中的电磁场表示式,电子轨迹方程及象差积分式等。根据这些公式所编制的计算机程序已用来计算了若干个实例,从中可见不对中误差效应的数值计算对于设计和装配电子束聚焦偏转系统起到指导性的作用。     

第七节 自会聚荫■管的原理结构

一、自会聚的基本原理 由于对偏转磁场的深入研究,1959年菲力浦公司提出了自会聚荫罩式彩显管的基本原理。至1972年美国RCA发表报导,宣布PI型自会聚荫极试制成功。1974年欧洲菲力浦公司亦宣布试制成功20A×系列自会聚荫。自会聚荫的试制成功,使得彩显管的使用维护大大简化,彩显管和接收机成本下降,在荫罩型彩显管的发展过程中,它是一种最新的型式,是彩显管的一个重要发展方向。 在上一节里我们已经向大家介绍了磁偏转系统的各种误差;畸变,场曲和象散以及差。其中场曲和象散是最重要的误差,无法用改变偏转磁场分布的方法来加以消除。按理说,这对于获得良好的偏转聚佳是不利的。     

GaAs自旋极化电子源球形偏转器电子光学设计

GaAs极化电子源对于极化低能电子衍射(PLEED)和反光发射谱仪有重要的意义[1][2]。整个电子源由90°球形偏转器、双圆筒透镜及单透镜组合而成的束流传输系统组成。在系统的电子光学设计中,我们最感兴趣的是90°球形偏转器,因为很少见到这方面的设计资料。这是一种非旋转对称系统,而比较成熟的计算机辅助设计软件大都是用于旋转对称系统的。为了设计90°球形偏转系统,我们把有限差分法旋转对称静电场程序加以改变,使之适合于二维不对称平面场的计算。在编制的软件[3]中,整个网格的划分可以随系统的横向和纵向的比例自由选择。可以选择50×3…     

具有动态象散与聚焦校正的一字形电子枪

为了提高自会聚、一字型彩色显象管的分辨率,研制了动态象散与聚焦(DAF)电子枪。在当前流行的枪结构中,由于偏转线圈磁场畸变产生的光点偏转散焦和象散,使得分辨率下降。DAF枪,在双电位枪的兰极管部分与主透镜之间,采用了一种新设计的、与四极透镜合并在一起的透镜系统。四极透镜结构简单,面对着的矩形孔互相垂     

KYKY2000型电镜电子光学控制系统

KYKY2000型扫描电子显微镜电子光学控制系统的主要特点是:具有自动聚焦、自动消象散、自动对中以及自动亮度和对比度等控制功能。该系统全部采用了数字化电路,利用无级连续调节增强电路的可靠性,保持了一般扫描电镜传统的手动调整功能,实现了自动控制调节透镜的功能。本系统是采用一个Z80微处理机及相应的内存和外设接口,由软件来控制物镜、聚光镜、X,Y对中、X,Y消象散器以及亮度和对比度组成的各组电源。数字控制电路通过各组透镜的单功能键和一个公用光电编码器输出脉冲,产生数字控制信号,用D/A变换器把数字量转换成模拟参考电压,并沿用原KYKY1000B电镜成熟的模拟电路功率输出部分,完成各组透镜电流的手动调整。同时通过微处理机与     

41cm细管颈CDT用电子枪

我们开发出了低功耗的４１ｃｍ细管颈ＣＤＴ用电子枪为了消除管颈趋小所产生的问题，这种电子枪应用了２项关键技术。一是采用单一电压、能够动态校正象散的ＤＡＱ系统，校正了通过水平、垂直偏转磁场的电子束的失真。二是主透镜采用扩展电场式透镜，克服了由于细管颈化的机械的制约，从而实现了主透的大口径比，采用这两项技术，实现了与心前的φ２９．１小管颈用电子枪同等或更好的聚焦特性。     

多重网格法求解三维静电场分布

本文将一种高效率的数值计算方法——多重网格法引入三维静电场分布的计算,多重网格法利用限制和延拓可迅速求得满足精度要求的场分布.研究了求解各种静电透镜电子光学系统三维场分布的多重网格法程序,验算了静电同心球模型的三维场分布.通过与目前在场计算中常用的有限差分法进行比较,可以看出多重网格法的计算效率和计算精度优于有限差分法.本文表明利用多重网格法计算三维场大大提高了场分布的计算效率,缩短了计算时间,因此为后续计算打下了良好的基础.     

Projection electron lithography using aperture lenses

Methods are presented for using two-dimensional (axially symmetric) aperture lenses of both the single- and multiaperture (fly's-eye) kind and one-dimensional (planar-symmetric) aperture lenses in image-projection systems for electron lithography. The basic electron-optical properties of such aperture lenses are derived. The ancillary film technology is discussed, including pre-exposure and postexposure resist processes in use and the techniques developed for fabricating electron-transmission object masks that can withstand the requisite electron bombardment during image projection. The image-projection systems developed for use in fabricating arrays of thin-film field emitters, electron-beam-addressed memory planes, optical waveguides, and interdigital transducers (unapodized and apodized) for surface-acoustic-wave devices are described, and representative examples of each device produced are shown.     

电子束聚焦偏转系统中透镜加工误差效应的数值计算

本文讨论了由于电磁透镜中电极和极靴加工的误差(孔径椭圆度和端面倾斜)造成电子束系统电子光学性质影响的数值计算问题,包括用有限元法计算具有孔径椭圆度和端面倾斜的透镜中电磁场的分布,电子轨迹方程和像差积分式等。最后给出了用所编制的计算机程序计算的若干个加工误差效应的实例。     

Planar Log-Periodic Antennas on Extended Hemishperical Silicon Lenses for Millimeter/Submillimeter Wave Detection Applications

In this paper, the radiation properties of log-periodic (LP) antennas on extended hemispherical dielectric lenses are investigated. The starting point is the far field pattern for the log-periodic antenna on a semi-infinite silicon substrate obtained from numerical simulation. Then the effects of extended hemispherical silicon dielectric lenses on this far field pattern are evaluated using ray tracing and field integration techniques. The far fields patterns out of the lenses are derived as a function of the extension length (L), from which the optimum L can be determined. The coupling efficiencies of the pattern to Gaussian beams are also calculated. The computation results show that the log-periodic antennas have good performance in terms of impedance and pattern and can be used in many submillimeter/THz systems. The simulation methods are verified by comparing the simulation results with experimental data from literature. The utilized approach represents an effective method for log periodic antenna-lens system design at millimeter/submillimeter wavelengths.     

外鼓式热敏CTP制版机光学系统设计

为了解决外鼓式热敏计算机直接制版(CTP)设备的制版镜头因畸变、场曲过大而导致制版质量不良问题, 采用ZEMAX光学仿真软件, 设计了一款低畸变、低场曲的制版镜头光学系统, 并对其进行了公差分析和实验验证。结果表明, 该光学系统由6片透镜组成, 工作波长为830 nm, 场曲小于1 μm, 畸变小于0.1%, 调制传递函数在全视场200 lp/mm处大于0.7, 并且镜片都采用标准球面设计, 制版效果良好。该系统能够满足实际制版生产需求, 具有一定的市场前景。     

圆锥浸没透镜电子光学系统的研究

本文研究利用边界元素法计算圆锥透镜场分布，用曲傍轴轨迹方程组、实际轨迹方程组追迹计算各种初条件的带电粒子轨迹，确定电子光学参量。其计算结果Ｓ．Ｙａ．Ｙａｖｏｒ等采用渐近解析方法的结果相符。     

动态激光散斑用于透镜轴向象差的测量

在高斯光束照明下，根据在平面内匀速运动的散射体经光学系统在观察面内产生的动态散斑的复振幅和强度起伏的空－时互相关函数，给出了散斑纯沸腾状态的位置，这位置恰好是点光源经过透镜的成象位置，由此提出了一种测量透镜球差、象散和场曲的新方法，并与其它方法作了比较。     

Design of aplanatic waveguide Fresnel lenses and aberration-freeplanar optical systems

A modification of the waveguide Fresnel lens design that has phase-shifting zones placed on the curved contour is suggested. It is shown that the selection of a suitable shape for this contour allows coma aberration to be eliminated. Computer simulation results are presented to demonstrate the significant improvement of the optical characteristics for curved contour lenses. The aplanatic homogeneous refracting waveguide lenses are also considered. It is found that thick aplanatic refracting lenses and the proposed Fresnel lenses have field curvature aberration of opposite sign. This fact allows planar optical systems free from low-order aberration to be designed by combining refracting and Fresnel lenses. An algorithm for producing such a system is presented     

扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计

在综合研究已有的各种复合物镜(如移动物镜、变轴物镜和摆动物镜等)的基础上,本文对复合物镜的一般理论进行了探讨,推导了普遍化计算公式,并提出新的复合物镜(弯曲物镜)系统。采用解析函数近似表示系统场分布,对弯曲物镜系统象差进行了理论分析,并设计出一个实际系统。数值计算结果给出该系统在55mm2扫描场内,束孔径角5mrad和能散2.5eV下,最大彗差0.005m,横向色差0.001m。