激光物激光烧蚀法制备铁电和压电薄膜

本文叙述用激发物光辉烧蚀法沉积几种铁电和压电薄膜的制备法和性能，并介绍了这种些薄膜在微电子学器件和微波声学器件方面的应用。     

偶极—偶极相互作用对原子行为和光场压缩的影响

本文研究了与真空辐射场作用的两个二能级原子系统中，原子间的偶极－偶极相互作用对双原子粒子布居差、双原子偶极压缩以及光场压缩的影响。     

激光初始光场的强度分布特性对远场能量集中度的影响

激光初始光场的强度分布特性在一定条件下将影响其远场能量分布.强度的不均匀分布可能会由于近场热晕导致远场光斑漂移,并可能导致光学器件的变形甚至损坏,从而造成远场能量集中度的下降,而强度的深度调制本身将造成远场能量的发散,导致能量集中度的下降. 初始光场的强度分布特性在空间域可以用强度非平整度因子UE来描述.UE定义为强度起伏均方根值/强度平均值,它相当于振幅调制度m,标志了中心能量向外围的转移份额.随机分布的初始光场强度,UE大于0.6时,光束质量因子随强度起伏空间频率迅速增大,远场光斑迅速发散;UE小于0.3时,强度的非均匀分布对光束质量因子影响很小. 空心束是一种特殊的强度非均匀分布光束,其远场光斑中心强度低于实心束,随遮拦比的增大而减小;空心束中心亮斑半径小于实心束,且随遮拦比增大而越来越小;随遮拦比增大,能量从中心向外环扩散. 在无风情况下,高能激光束强度的不均匀分布导致其近场热晕效应类似偏转棱镜,引起了远场光束的偏转,从而导致远场目标上能量集中度的下降.有风条件将大大缓解远场光束的偏转.(OG14)     

激发物激光烧蚀法制备铁电和压电薄膜

本文叙述用激发物激光烧蚀法沉积几种铁电和压电薄膜的制备法和性能，并介绍了这些薄膜在微电子学器件和微波声学器件方面的应用。     

材料色散对光子晶体全反射隧穿光场分布的影响

为了研究材料色散对光子晶体全反射隧穿光场分布的影响,利用特征矩阵,推导出1维光子晶体中的光场分布公式。又利用光场分布公式和材料色散公式,研究了材料色散对1维掺杂光子晶体全反射隧穿光场分布的影响。结果表明,材料色散对1维光子晶体全反射隧穿的光场分布会产生明显的影响,材料色散会使全反射隧穿光场的峰值发生明显变化,并会使光场分布的周期性发生明显改变。此研究结果加深了对1维光子晶体全反射隧穿现象的认识。     

光场力的电磁理论分析

利用经典电磁理论导出光场中线性动量的守恒定律,并获得光散射力和梯度力的一般表达式,进而解释光场辐射压及尺寸远小于光波长的任意形状的生物微粒子在激光光场中所受的散射力和梯度力.理论分析表明光散射力是由于偶极子散射导致电磁波动量变化产生,而梯度力为作用在感应偶极子上的洛伦兹力,激光对微粒的作用力与光束束腰半径、粒子的大小、粒子及周围媒质的折射率和激光功率等系统参数的有关.     

纤端光场分布的计算机处理

本文引用文献［７］提出的多参数纤端光场场强分布表达式作为目标函数，结合实验中得到的实测数据，利用数据处理方法中的最小二乘拟合法的原理，采用三维极值的单形调优方法，给出调合参数的数值解，得到能准确反映实测数据的纤端光场场强分布表达式。并比较实验数据与拟会结果，最后给出纤端光场场强分布的三维图形。     

基于光场分布的光学邻近效应校正

本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。     

硅基狭缝脊形波导的几何尺寸对光场分布的影响

文中采用时域有限差分模拟的方法,研究了狭缝脊形波导中狭缝的宽度、狭缝两侧波导的宽度以及狭缝的深度对狭缝脊形波导光场分布的影响。在狭缝脊型波导中, 随着狭缝宽度的增加, 其归一化光功率先增大后减小;同样,光功率随着狭缝两侧波导的增加也呈现出先增加后减小的现象;随着狭缝刻蚀深度的增加,归一化光功率是逐渐增大的。通过比较狭缝中归一化光功率的值,将其影响量化,进一步找到最合适狭缝脊形波导的几何尺寸。实验结果表明,当狭缝的宽度为40 nm,两侧波导的宽度为220 nm,狭缝刻蚀深度为220 nm时,归一化光功率达到最大值为13.54 %。该仿真结果有助于优化狭缝脊形波导与调制器制造和集成。     

激光场中轴向光压力的二阶解析解

从光学布洛赫方程出发，对激光驻波场中作用在一双能级原子上的光压力进行求解，求得轴向光压力的二阶谐波项的解析解，并得到当激光场较强时，二阶谐波项的作用不再是低强度时的零贡献这一重要的结论。     

基于结构光标记的光场三维成像技术研究

由于四维光场数据中记录了场景中所有光线的方向和强度,通过对其分析和计算即可获得空间场景中对应点的3D坐标。但是目前对光场数据进行处理所采用的重聚焦和多目视觉方法,由于空间场景中特征较少,导致很难确定光场数据中的对应关系光线,因此,重建获得的3D数据不仅稀疏而且精度较低。针对此,提出了一种使用结构光投影技术对三维场景进行标记,并根据相位标记精确的建立起光线之间的对应信息,最终快速地计算出空间场景3D数据的方法。由于4D光场矩阵中存储的是光线相位而不是传统方法中的强度,并且还记录有不同方向的光线信息,因此,该方法不仅提高了传统光场三维重建的精度,还可以解决以往结构光投影三维测量方法中存在的遮挡和高光反射问题。最后通过实验验证了所提方法的可行性和准确性。     

场发射显示技术研究进展

介绍了场发射显示技术的发展过程、器件结构和工作原理,讨论了目前这项技术所面临的问题。着重介绍了近两年来在场发射显示技术研究领域的最新进展,包括发光材料的改进、器件寿命的提高、器件结构的改进以及样机的试制工作等。进而分析了场发射显示技术的发展前景     

自发参量下转换光场的实验研究进展综述

自发参量下转换(spontaneous parametric down-conversion,SPDC)光场是基于单色泵浦光子流和量子真空噪声对非线性晶体的综合作用而产生的,它固有的量子起源决定了在非经典光场研究中的重要地位和作用.对SPDC光场的相干特性和它在绝对测量光电探测器量子效率中的应用进行了深入而细致的研究和探讨.     

加速度场中工作的六维力传感器软件设计

六维力传感器处于加速度场中,其自身受到惯性载荷作用产生的力信号和被测试件产生的力信号混合在一起,传感器系统很难准确给出被测试件产生的受力(矩)情况。本文分析了六维力传感器在离心加速度场中工作的受力情况以及测量工作原理,给出其在加速度场进行力(矩)测量的解耦方法,在此基础上,开发了一套可应用于离心加速度试验的六维力传感器测量软件。经过试验验证,证明该软件可成功用于离心加速度六维力传感器的动态测量。     

基于BAlq的有机电致发光器件的磁效应

研究了ITO/NPB(40nm)/BAlq(60nm)/BCP(5nm)/LiF(0.8nm)/AI有机电致发光器件(OLED)的磁效应.实验结果表明,磁场在10mT时,器件的效率最大增加了34%,这一结果是由于三线态激子与三线态激子间的相互淬灭产生激发单线态激子从而使单线态激子比率增加,致使电致发光(EL)增强.当磁...     

Magnetic field effects on electroluminescence in phosphorescence organic light emitting diodes

In this letter, we presented a method to study the MFEs on the triplets in phosphorescent OLEDs. The magnetic electroluminescence (MEL) was obtained by doping a red phosphorescent guest with low concentration into a fluorescent host, where the guest and host can simultaneously emit. Experimentally two different MEL shapes of Lorentz and linear were observed, depending on the used host materials. We presented two different mechanisms to explain their difference. The diffusion process of triplets from host to guest and prolonged lifetime of triplet by magnetic field were attributed to the formation of the Lorentz shape, and it is considered that the linear shape was caused by magnetic field increased Dexter energy transfer rate and determined by the triplet energy difference between guest and host. It can be seen that the competition of two processes lead to the formation of the two different MEL shapes in the phosphorescent OLEDs.     

多深度层场景光场渲染的无重影条件

为避免光场渲染的结果因采样率不足而发生重影,提出了多深度层复杂场景的无重影光场渲染条件,证明了可由场景几何及摄像机角分辨率确定,不发生重影的最大摄像机间隔及最优深度,并在此基础上推导了两者间的关系。计算了不同摄像机间隔下的合成视图与标准视图间的峰值信噪比(PSNR),并以此衡量渲染质量。实验数据及人眼对重影发生与否的主观判定结论与本文的理论分析基本一致。     

细胞培养用品光透射规律的研究

应用紫外分光光度计对细胞培养板盖及培养液的光透射规律进行了初步观察。结果显示，200－280nm波长范围的光很难透过培养板盖（透射率仅2％－10％），对400－800nm波长范围光的透过率达84％左右，含小牛血清和未含小牛血清的PRMI细胞培养液对600－800nm波长范围的光透过较高（透射率分别为78％左右，81％左右），对小于600nm波长的光透过较弱。