XEA枪聚焦性能研究

日立公司的EA—UB电子枪是比较成熟的产品，形成了EA—UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品，用于大屏幕彩管。为了进一步改进电子枪的聚焦性能，保证大屏幕纯平面彩管的品位，日立公司最近开发出新一代XEA电子枪。本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟，对该枪优异性能的内在原因进行了分析和研究。     

彩色显象管电子枪技术性能分析（Ⅱ）

彩色显象管电子枪技术性能分析（Ⅱ）北京牡丹电子集团公司胡瑞海４大屏幕电子枪关于大屏幕电子枪已在前面顺便介绍了几种（如单枪三束ＤＡＧ电子枪、ＸＬ和ＭＰＦ－ＬＯＬＦ型电子枪等），但目前由于大屏幕技术竞相发展，相适应的新型电子枪已成为开发大型管的技术关键。...     

一种64cm彩色显像管电子枪的研制

为了改进聚焦和适应中屏幕CPT低成本的趋势，开发出一种用于64cm CPT的电子枪，这种电子枪是在现有大屏幕CPT电子枪的基础上开发出来的。由于大屏幕CPT电子枪的会聚帽采用横长孔，使该枪难以直接移植在中屏幕CPT中。通过重新设计会聚帽组件，增添磁场控制器和校正电权，使新电子枪可以与非消彗差偏转线圈配合，作到了低成本，同时获得良好的聚焦性能。     

一种64cm彩色显像管电子枪的研制

为了改进聚焦和适应中展幕CPT低成本的发展趋势，开发出一种用于64cm CPT的电子枪，这种电子枪是在现有大屏幕CPT电子枪的基础上开发出来的。由于大屏幕CPT电子枪的会聚帽采用横长孔，使该枪难以直接移植在中屏幕CPT中。通过重新设计会聚帽组件，增添磁场控制器和校正电极，使新电子枪可以与非消彗差偏转线圈配合，作到了低成本，同时获得良好的聚焦性能。     

33英寸高性能彩色显像管

为了满足对大屏幕电视日益增长的需求以及引进高质量的电视系统,例如 EDTV,研制了33英寸大屏幕彩色显像管。高性能的彩色显像管使用下列新技术来制成,即,日立公司研制的特殊动态聚焦工作的 EA-DF 电子枪,Fe—Ni 合金(殷钢)制造的低热膨胀荫罩等,以改进图像质量。与过去管种相比,使用 EA—DF 电子枪后,屏幕中心的束点直径减小15%,而在屏四角减小30%。使用殷钢制造的低热膨胀荫罩可使电输入(阳极电压×阳极电流)增加约20%,以得到更高的亮度。从人机工程考虑,进行了抗静电和防眩处理。     

X—EA—MDF动态聚焦电子枪性能浅析

日立DP在新开发的92cm（16：9）PF、86cmPF和81cm（16：9）PF中采用了一种新型电子枪，即X—EA—MDF枪。这种枪结构简单，工艺裕度较大，聚焦性能优异，在这三个管型中，均获得了良好的性能表现。本文通过对X—EA—MDF枪的EBS仿真分析，对其性能进行了简单的分析和研究。     

非对称束形成区的静态像散设计分析

作为改善彩色显示器件屏边缘聚焦性能的一种措施，电子枪束形成区静态像散设计被各种高质量彩管所采用，由于其结构的非轴对称性，其定量的模拟计算和设计必须使用CAD手段。本文分析了彩管像散的形成原因，并用我们自行开发的CAD软件对两种彩管电子枪的静态像散结构进行了定量的计算。     

非对称束形成区的静态像设计分析

作为改善彩色显示器件屏边缘聚焦性能的一种措施，电子枪束形成区静态像散设计被各种高质量彩管所采用，由于其结构的非轴对称性，其定量的模拟计算和设计必须使用ＣＡＤ手段。本文分析了彩管像散的形成原因，并用我们自行开发的ＣＡＤ软件对两种彩管电子枪的静态像散结构进行了定量的计算。     

RL电子枪结构模拟分析

利用电子枪数值模拟软件对RL电子枪进行模拟计算，分析枪内场分布和电子轨迹以及四个功能系统的工作原理，了解RL电子枪的结构、交叉截面位置、像散特性等，以掌握电子枪的分析方法。     

日立公司最新电子枪技术

本文对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论。其超大椭圆孔的主透镜使有效直径比上一代电子枪提高了25％，电子束形成区实现最优化设计，不同电流下聚焦的稳定性提高，同时进入主透镜的电子束发散角在水平和垂直方向不同，实现与主透镜的最佳配合，充分发挥了主透镜中共同透镜为椭圆孔透镜的特点。聚焦对比实验也显示出日立公司新一代电子枪聚焦的优异性能。     

日立公司最新电子枪技术

对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论. 聚焦对比实验显示出日立公司新一代电子枪具有优越的聚焦性能.     

动态聚焦电子枪的模拟与实验研究

动态聚焦技术是为了满足大屏幕高分辨率彩色显像管及高分辨率彩色显示管的发展需求而产生的一项新技术。在本文中，作者首先提出了一种动态聚焦电子枪结构，进行了数值计算与分析，制作了动态聚焦电子枪并装管实验。通过对实验样管的测试与分析。证实该枪性能良好，动态聚集效果明显。     

电子器件基础

9914973浸渍式阴极电子枪清洗工艺的探讨[刊]/鲍湲/光电子技术.—1999,19(1).—79～82(Y)探讨了使用浸渍式阴极电子枪的清洗(?),通过试验采用了与原来氧化物阴极电子枪清洗的不同方法,从而改善了使用浸渍式阴极电子枪的发射与寄生发射等性能,并提高了彩管的品质。     

改进21FS彩管会聚品位

本文运用6Sigma工具定量分析了由于21FS彩管QPF电子枪的受聚焦电压影响SP光点位置相对移动,从而导致产品在用户处静会聚一致性差的重要原因。并通过设计优化电子枪偏孔设计特点,从理论和试验实践上解决了聚焦电压对21”静会聚的影响。     

老炼台的改造

我厂投产以来,使用过日立型电子枪和北斗型电子枪。这两种枪的电极结构大不相同,特别是由于阴极结构的不同以及阴极制造中阴极粉配料和喷涂方法等工艺上的差异,导致了各自老炼工艺的不同。因此,这对于两种枪,要达到良好的性能必须分别采用特定的规范进行老炼。由于我厂设备从日本帝国电子公司引进,原设计目的是为北斗型电子枪生产服务,当然老炼台的设计也是针对北斗型电子枪的生产工艺。以往在采用日立枪生产显象管时,只能用北斗枪的规范进行老炼,结果影响了电子枪质量。阴极发射面的发射电流密度分布不均匀,     

大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析

电子枪聚焦性能是由电极结构决定的，本文通过计算机模拟的方式对3种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的为形貌进行了系统的模拟，对各电子枪聚焦特性进行了分析和比较表明电子束形成区，主透镜结构对屏幕中心，角部的着屏光点及不同电流下了聚焦的稳定性都有较大的影响。     

浸渍式阴极电子枪清洗工艺的探讨

探讨了使用浸渍式阴极电子枪的清洗方法,通过试验采用了与原来氧化物阴极电子枪清洗的不同方法,从而改善了使用浸渍式阴极电子枪的发现与寄生发射等性能,并提出了彩管的品质。     

彩管电子枪CAD软件的研制与开发

随着新型高性能显示器件对图像分辨率要求的不断提高,彩管电子枪的结构设计变得越来越复杂,电极形状也更多的采用非对称性结构,这使得彩管电子枪的分析、模拟、设计和开发越来越多地依赖计算机辅助设计的手段。我们研制的电子枪模拟计算软件包ＥＧＳ（Ｅｌｅｃ－ｔｒｏｎＧｕｎＳｉｍｕｌａｔｉｏｎ）就是专为彩管电子枪开发人员进行结构设计和分析的有用工具     

大屏幕彩色显像管光点像散分析

大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜，其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是着屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能进行模拟表明：理想情况只出现在一定电流范围内，电流变化时，着屏光点的像散量会有较大的变化。     

U－B电子枪探讨

Ｕ－Ｂ电子枪可以在高的阳极电压下工作，因而能够增强ＣＰＴ的亮度，改善枪的聚焦性能，本文对Ｕ－Ｂ电子枪的结构和性能进行了探讨。