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在质谱中同位素离子峰是一个经常遇到的问题。组成有机化合物的主要元素多数都是多同位素元素,它们的天然丰度是已知的而且通常是最轻同位素的丰度最高。所以在一个有机化合物的质谱中在分子离子峰M的右侧相应于M+1,M+2,M+3……等位置上常伴有一些由重同位素选成的峰(即同位素离子峰)。由于在一种化合物(被测的样品)中每种元素的各同位素的丰度是确定的,所以对一个确定的元素组合(分子式 相似文献
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采用电感耦合等离子体发射光谱法测定电镀锡铋合金镀层中铋的含量.采用盐酸-硝酸混合酸(盐酸、硝酸与水的体积比1:1:8)分别对镀件上刮下来的镀层和不剥离镀层的同槽电镀铁箔样品进行消解,选择190.24 nm和223.06 nm作为铋的分析线,以基体匹配的方式消除锡和铁的干扰.测得此法的相对标准偏差(n=6)均小于1%,回收率在95% ~105%之间.本法的测定结果与HB 20056.1-2011标准规定的分光光度法的测定结果一致.采用与镀件基体材质相同的纯金属箔进行同槽电镀后,在不剥离镀层的情况下的测定结果与刮下镀层进行测定的结果一致. 相似文献
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脉冲激光改性聚氨酯表面无钯化学镀铜的实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种在改性聚氨酯(PUR)材料表面进行金属化的方法。以掺杂了铜基金属复合物粉末的PUR浆料为基体,采用SPI光纤激光器(波长1 064 nm)对PUR表面进行刻蚀改性,达到传统化学镀铜中粗化和活化的目的,最后进行化学镀铜。对铜镀层进行了结合力、导电性以及延展性测试。结果表明,制备的铜镀层光亮、致密、结合力强、导电性好、延展性优良。通过扫描电子显微镜、X射线能谱仪、X射线光电子能谱(XPS)分析和俄歇电子能谱(XAES)分析对经过激光刻蚀改性的基体表面形貌和成分进行表征。探讨了激光刻蚀改性材料表面后,基体表面上铜元素的价态,分析XPS图谱和XAES图谱发现,激光刻蚀改性后的基体表面上铜元素以Cu+形式存在。研究了不同激光功率对刻蚀表面粗糙度的影响规律,通过胶带拉力实验验证了基体表面形貌与镀层结合强度的关系,实验结果表明,当用功率为7 W的激光刻蚀基体表面时,材料表面粗糙度值最大,并且其镀层结合力也最强。 相似文献
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分子式是有机结构分析的基础。在质谱中分子离子同位素峰的丰度是与原化合物中各元素原子数及其自然丰度有关,它们的贡献有加合性,服从于二项式展开式,可通过 M+1峰、M+2峰的丰度比,计算元素原子数目,进而确定分子式。 相似文献
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2种不同激光对钛宝石辐照作用的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
分别采用波长为193 nm的ArF准分子激光与波长为800 nm、脉冲宽度为120 fs的飞秒激光对温梯法生长的钛宝石进行辐照,并对辐照前后的吸收谱、荧光谱及电子顺磁共振(EPR)谱进行了检测。2种不同辐照的结果表明:218 nm及266 nm吸收峰并不是完全由同一种色心所引起的。通过对比不同品质因数(FOM)值的钛宝石样品在420 nm处的荧光谱,发现准分子激光辐照后420 nm处荧光强度降低,表明样品中Ti~(4 )离子浓度降低。而在飞秒激光辐照下荧光强度增大,即Ti~(4 )浓度增大。根据2种激光的波长,功率密度及辐照方式的差异对于2种辐照产生不同结果做出了解释。 相似文献