硫化铅选择性涂层的研制

本文报道一种我所研制成的低成本选择性硫化铅涂层,其太阳吸收率α_s=0.91—0.94,红外发射率ε_n=0.34—0.58。研究了配比、厚度和颗粒度对涂层光学性能的影响,硫化铅颗粒分布峰值位于2微米附近时,可获得较好的光学性能,该峰值刚好位于选择性涂层光谱的截止波长。作为粘合剂,沥青清漆在红外光谱范围有良好的透明性。     

阳极化铝电解着色选择性吸收涂层

本文报道了在铝底材上采用阳极氧化、电解着色方法制备的太阳能选择性吸收涂层。其太阳吸收率α_s=0.92-0.96,法向发射率ε_n=0.1-0.2。镀层经200℃加速试验及室外曝露试验,光学性能无明显变化。最后讨论了影响涂层光学性能的因素,并对薄膜结构进行了分析。     

真空沉积双层黑铬选择性涂层

本文介绍了用于全玻璃真空管太阳能集热器的真空沉积双层黑铬选择性涂层的工艺和性能。其α_s为89％—91％,ε_n为5％—7％(80℃)。该涂层经300℃—400℃、1小时的烘烤后,α_s和ε_n基本没有变化。 应用激光干涉法,在λ=6328(?)波长下对每层黑铬涂层的光学常数进行了初步测定,并用测定的数据计算了该波长下双层涂层的反射率,其结果与分光光度计测定的反射率基本相符。结果表明,第二层黑铬具有减反射作用,因而使真空沉积的双层黑铬选择性涂层具有较高的吸收率,并仍保持其低的红外发射率。 还应用了电子显微镜、电子衍射与x光衍射等对黑铬选择性涂层进行了表面形貌观察与物相分析。 对所试制的真空沉积双层黑铬真空集热样管的试验表明,涂双层黑铬的真空集热管的集热性能优于单层黑铬的集热管。     

二氧化锡选择性透过涂层对平板集热器效率的影响

本文报道了水解法制备的选择性透过氧化锡涂层的特性(太阳透过率τ=0.69—0.71,红外发射率ε=0.24—0.31),研究了涂层厚度和导电性对涂层光学性能的影响。有涂层与无涂层单层玻璃盖板平板集热器相比,效率无明显提高。第二层内表面有涂层的双层玻璃盖板集热器与普通双层玻璃盖板集热器相比,效率有一定的提高,并且集热温度较高。     

空心镍球在太阳能吸热涂层上的研究应用

将超细空心镍粉与丙烯酸树脂混合制成涂料,采用浸沾法制备太阳能选择性吸收涂层并测试涂层的光学性能.测试结果表明,涂层有很高的吸收率(0.98),可能由于丙烯酸树脂或者涂层过厚的原因,涂层有比较高的发射率.涂层的吸收率会随着镍粉粒径的增大而减小,发射率则随着涂层的厚度增大而增大,与镍粉粒径无关.     

阳极氧化电解着色铝选择性吸收涂层的光学性能研究

本文报道了阳极氧化电解着色铝选择性吸收涂层的光学性能,其太阳吸收率α_s和热发射率ε_n分别为0.94(AM2)和0.10。给出了Ni粒子在多孔性Al_2O_2膜中浓度成梯度变化的结构模型。应用Bruggeman有效介质理论和多层膜系矩阵方法对涂层的光谱反射率进行了计算,讨论了表面形貌对涂层光学性能的影响。     

氧化钴高温光谱选择性吸收涂层

本文讨论了氧化钴高温光谱选择性吸收涂层的制备方法、性能及组成。其太阳光谱吸收率为0.89-0.92,红外发射率为0.15-0.20。涂层与底板结合牢固,耐温在600℃以上。     

AlCrON太阳能选择性吸收涂层的制备及性能研究

采用直流反应磁控溅射及空气中300℃热处理法在Cu基底上制备Al Cr ON太阳能选择性吸收涂层。对所制备涂层的光谱选择性吸收性能和热稳定性能进行表征,涂层的吸收比和发射比分别为0.921和0.075。结果表明涂层具有较高的光学性能。另外,空气中300℃、100 h热处理后涂层的光学性能几乎不变,表明该涂层适用于平板太阳集热器。     

Al-AlN选择性吸收涂层性能分析及光学模拟

研究了双层Al-AlN吸收层加减反射层结构膜系,并对这种结构膜系涂层性能进行分析和模拟,在模拟得到单层Al-AlN层的膜厚和填充因子基础上,工艺优化制备得到的Al-AlN选择性吸收涂层吸收率达到0.942,100℃发射率为0.044,聚光比为1条件下,光热转换效率为0.89。     

远红外技术在中温电阻炉上的应用

本文介绍一种高温高发射率远红外涂料SG—799,用于中温(950℃)电加热设备上,同时采用陶瓷纤维作耐热保温材料,经过一年多生产使用。该电炉性能稳定,远红外涂层牢固,被处理工件质量良好,节电效率显著,综合节电在45％以上。     

Al-AlN选择性吸收涂层性能分析及光学模拟

研究了双层Al-AlN吸收层加减反射层结构膜系,并对这种结构膜系涂层性能进行分析和模拟,在模拟得到单层Al-AlN层的膜厚和填充因子基础上,工艺优化制备得到的Al-AlN选择性吸收涂层吸收率达到0.942,100℃发射率为0.044,聚光比为1条件下,光热转换效率为0.89.     

SiCrOxNy选择性吸收涂层制备及性能研究

采用直流及中频反应溅射在铜基底上沉积SiCrO_xN_y光谱选择性吸收涂层。对该涂层的光学性能进行表征,其吸收比为0.938,80℃发射比为0.07。经300℃,200 h热处理后,吸收比无明显变化,发射比小幅升高;俄歇电子能谱(AES)分析显示,界面处元素扩散和Cu基底氧化是涂层光学性能下降的主要原因。在35℃下进行5%盐雾腐蚀试验,腐蚀初期涂层发射比迅速升高,腐蚀36 h后吸收比衰减加速,涂层表面开始出现剥落现象;致密的SiO2减反射层对增强涂层耐盐雾腐蚀性能有明显效果。     

墨绿色太阳能选择性吸收涂层

报道了一种墨绿色太阳能选择性吸收涂层，其太阳吸收率α＝０．９４－０．９６，红外发射率ε＝０．３７￣０．３９。研究了吸光剂酞菁绿与Ｆｅ３ＣｕＯ５的光性互补效应及其配比对涂层光学性能和色相的影响。     

高温高发射率釉料的研制

本文所述的高温高发射率釉料是一种耐高温、抗渗碳、耐腐蚀的新型红外辐射材料。本文阐述了它的制备工艺,试验了各种因素对其性能的影响。试验表明:高温高发射率釉层抗渗碳、耐腐蚀、抗热震等性能优于一般红外辐射涂层;实际使用表明这类高温高发射率釉料的节能效果显著。     

微计算机运控的非稳态法半球向全发射率测定装置

本文报道了计算机运控的非稳态法半球向全发射率测定装置。其测温范围0-300℃,特别适用于测定金属、太阳能选择性吸收涂层和其他低发射率涂层。文中还比较了用液氮和酒精两种致冷介质的实验结果,以及半球向全发射率与法向发射率的测试数据。     

太阳光谱选择性吸收涂层制备工艺探讨

探讨粘结层、吸收层、减反射层的制备工艺及基底粗糙度状态对太阳选择性吸收涂层性能的影响。采用磁控溅射法,以SS/AlN涂层为例,制备太阳光谱选择性吸收涂层,并测试性能。结果表明：合适的制备工艺可以提高膜层的结合力和涂层的整体性能,胶带粘贴无脱落,吸收比96%,500℃发射比10.5%,并证实基底的粗糙度对涂层的发射率基本无影响。     

高热阻充氪超级窗

当很多公司将要推出双层、带低发射率涂层、充氩、热阻为4的窗的时候,劳伦斯·伯克利实验室正在研制一种玻璃中心热阻为8—10的超级窗。这样高的热阻可以和很多美国住宅的墙壁相比拟。它是由两层低发射率涂层、内充氪气以及一个非结构性的中心层组成的。     

基底及HMVF层厚度变化对NbSiN/NbSiNO/Si3N4 涂层光学性能的影响

采用多靶磁控溅射镀膜机,以在Si靶上加Nb片的方法分别在Cu和单面抛光不锈钢(SS)基底上制备NbSiN/NbSiNO/Si3N4和Mo/NbSiN/NbSiNO/Si3N4多层膜。用α-step台阶仪(DEKTAK IIA)测量膜层厚度,UVPC3100分光光度计和傅里叶红外光谱仪(EXCALIBUR FTS 3000)对样品的光学性质进行表征。实验表明:在Cu基底上制备的涂层吸收率α=0.90,发射率ε=0.12;以SS为基底,红外反射层Mo的厚度约为230nm时,在λ2.5μm范围内反射率最高,达到90%以上。高金属体积分数吸收层(HMVF)厚度约为80nm时吸收率α=0.95,发射率ε=0.33;真空下500℃和600℃各20h退火后吸收率、发射率变化不大。     

涂层半球发射率影响因素的研究

为研究涂层半球发射率在厚度、表面形貌、温度三方面影响下的变化规律,利用自主研发的稳态量热计法半球发射率测试仪,结合表面轮廓仪、热重和傅里叶变换红外光谱表征手段对涂层的表面形貌、热稳定性和结构成分进行分析.结果表明,涂层厚度在0.100毫米(mm)左右时,表面形貌均匀平整,半球发射率值测试结果优于其它厚度.涂层越厚,表面易形成凹坑、凸起等缺陷,影响半球发射率测量的平行性.在测试温度范围内,涂层的热稳定性和结构成分无变化,半球发射率值呈下降趋势.     

SnO_2/CrON/Cu太阳能选择性吸收涂层循环热冲击性能研究

采用DC磁控溅射法制备SnO_2/CrON/Cu太阳能光谱选择性吸收涂层并进行中低温循环热冲击试验。对所制备涂层循环热冲击试验前后的光学性能和热稳定性进行表征。该涂层沉积态的吸收比为0.927,100℃发射比为0.048,在25℃/300℃的中低温下经264.25 h的循环热冲后涂层表面粗糙度几乎不变,未出现明显的元素扩散。吸收比仅衰减为0.912,发射比仅增加为0.076。表明该涂层适用于中低温光热利用领域。