铈对化学沉积Co-Ni-B合金镀层结构的影响

研究了稀土Ce对化学镀Co-Ni-B合金层组织结构的影响。采用X-射线衍射仪、电感耦合等离子发射光谱仪、透射电镜和原子力显微镜考察了合金镀层的成分、结构和表面形貌。结果表明:随着镀液里Ce添加量的增加,合金镀层中的Co、Ni、Ce含量升高,B含量降低。化学镀Co-Ni-B合金层的结构由非晶态转变为微晶态。化学镀Co-Ni-B合金镀层表面由圆锥峰构成,较为平整;添加稀土Ce后,镀层变得凹凸不平。     

电沉积非晶态合金镀层磁性的控制

磁性元件薄膜化促进了磁性镀层的开发与应用。综述了镀液及镀层成分、电沉积工艺、镀层厚度及热处理对电沉积非晶态镀层性能的影响，以便在实际应用中控制非晶态合金镀层的磁性。     

稀土La对Ni-Fe合金镀层性能的影响

研究了La(NO_3)_3对Ni-Fe-La合金镀层的耐蚀性、高温抗氧化性、硬度、微观形貌和成分的影响。结果表明:随着La(NO_3)_3的质量浓度的增加,Ni-Fe-La合金镀层的耐蚀性、高温抗氧化性、硬度均得到明显提升,并且在La(NO_3)_3的质量浓度为0.4g/L时达到最优;Ni-Fe-La合金镀层结晶细致、结构紧密,其中含稀土La。     

稀土La对电沉积Ni-P合金镀层工艺的影响

研究了添加稀土La电沉积电磁屏蔽N i-P合金镀层的工艺。在正交试验的基础上分析了镀液组成及电流密度对沉积速率的影响,综合考察了镀层表面质量及镀层与基体的结合力。结果表明:在镀液中加入微量稀土La,金属离子的沉积速率,镀层与基体的结合力,镀液的分散能力,镀层的表面质量都有不同程度的提高,并由此得出工艺的最佳镀液组成和操作条件。     

糖精钠对脉冲电沉积Ni-Sn-Mn合金镀层性能的影响

采用脉冲电沉积法在Q235钢表面制备了Ni-Sn-Mn合金镀层,并研究了糖精钠的质量浓度对镀层的成分、沉积速率、表面形貌及耐蚀性的影响。结果表明:随着糖精钠的质量浓度的增加,阴极极化曲线负移,阴极极化作用增强;镀层中Ni和Sn的质量分数降低,而Mn的质量分数升高;沉积速率和阴极电流效率均减小;镀层的耐蚀性先增强后减弱。当糖精钠的质量浓度为3g/L时,制备的Ni-Sn-Mn合金镀层均匀致密,在3.5%的NaCl溶液中具有最正的自腐蚀电位、最低的自腐蚀电流密度和最大的电荷转移电阻,耐蚀性最好。     

脉冲电沉积工艺参数对Ni-W-P合金镀层性能的影响

针对传统镀硬铬沉积速率低、污染环境等问题,采用脉冲电沉积方法在碳钢表面制备Ni-W-P代铬镀层。采用显微硬度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和电化学工作站研究了脉冲频率、平均电流密度和占空比对镀层性能的影响。结果表明:随着脉冲频率、平均电流密度和占空比的增加,镀层的硬度和耐蚀性均呈现出先增大后减小的变化规律;当脉冲频率为250Hz,平均电流密度为4.0A/dm2,占空比为30%时,镀层为非晶态结构,表面光滑、平整,结构致密,硬度可达5 140MPa,耐蚀性较好。     

LaCl_3对化学沉积Ni-Cu-P合金镀层性能的影响

为提高钢材耐蚀性,采用中温酸性化学沉积的方法,在镀液中添加LaCl_3制备Ni-Cu-P合金镀层,并利用维氏硬度计、扫描电子显微镜、能谱及微取向系统、X-射线衍射仪及Autolab电化学工作站分别对镀层的硬度、微观形貌、成分、结构及耐蚀性检测。结果表明:1)镀层硬度随LaCl_3质量浓度增加先增加后减小;2)随镀液中LaCl_3含量的增加,Ni-Cu-P合金镀层结构由非晶态转变为晶态,在LaCl_3质量浓度为0.10 g/L时,所得镀层的晶胞尺寸较小;3)镀液中LaCl_3质量浓度为0.05~0.15 g/L范围内增加时,测得镀层的腐蚀电流密度有先降低后升高的趋势。     

铝硅合金上化学沉积Ni-Cu-P合金镀层的工艺及性能研究

研究了铝-硅合金表面化学沉积Ni-Cu-P的工艺条件,探讨了镀液组成对镀速的影响,确定了最佳工艺条件为：p(硫酸镍)为30～40g／L,p(硫酸铜)为0.6～0．8g／L,p(次磷酸钠)为25～30g/L,p(柠檬酸钠)为40～50g／L,p(醋酸铵)为30～35g/L,温度为80℃,pH值为6．0。通过扫描电镜、X-射线衍射法探讨了合金镀层的形貌与结构。测定了镀层硬度和阳极极化曲线,结果表明：以该配方所得的镀层表面平整、光亮;未经热处理的镀层呈非晶态结构,随着热处理温度的升高,镀层的显微硬度先增后降,当温度达到400℃时,镀层结构晶体化,其显微硬度达到最大,为1050HV;镀层在3种介质中的耐蚀性顺序为：硫酸(体积分数为10％)＞氯化钠(质量分数为10％)＞氢氧化钠(质量分数为10％)。     

电沉积Ni—19P／Ni合金镀层性能的研究

本文对电沉积Ni-19P/Ni合金镀层的结构、硬度、结合力、孔隙度和电化学性能进行了初步的研究。结果表明,Ni-19P/Ni合金镀层具有高耐蚀、高活性及耐磨的特点,是一种有实用价值的新型非晶材料。     

稀土镧对化学镀Co-Ni-B合金沉积速度的影响

向Co-Ni-B合金镀液中加入了稀土La。以沉积速度为评价标准,通过正交试验得到其适宜的镀液基础配方为:10~13g/L CoCl2·6H2O,2.3~4.9g/L NiCl2·6H2O,0.6~1.2g/LNaBH4,55~65g/L Na2C4H4O6·2H2O,12~16g/L NH4Cl,1~2g/L稳定剂,0.8~1.2g/L La,θ50~80℃,pH14,负载因子0.4~0.8dm2/L。在此基础上,研究了La对沉积速度的影响,结果表明,La能提高Co-Ni-B镀液稳定性、沉积速度,改善镀层表面质量。在一定范围内,La的加入量越多,效果越明显;La的适宜加入量为0.8g/L。同时探讨了主盐浓度、还原剂浓度、络合剂浓度、缓冲剂浓度对沉积速度的影响。     

金属盐比值对Fe-Ni-P-B合金化学镀层的影响

在铜基上化学镀Fe-Ni-P-B四元合金，研究了FeSO4/(FeSO4十NiSO4)金属盐比值对沉积速率、镀层结构的影响，测试了镀层在不同介质中的电化学稳定性。结果表明，镀层沉积速率随FeSO4／(NiS04)金属盐比值的增加先增后减，金属盐比值为0．5时，沉积速率达到极大值。镀层沉积速率影响镀层的结构，沉积速率增大，镀层出现非晶结构。镀层在不同介质溶液中的稳定性不同，在酸性介质中，由于镀层的溶解，电权电位向正方向移动；而在中性和碱性介质中，由于氧的扩散缓慢，体系的电权电位会随时间负移。     

Co-B纳米合金功能膜化学沉积和电沉积的比较

以硫酸钴、硼氢化钠为主要原料,对电沉积和化学沉积Co-B纳米合金功能膜进行比较,发现尽管电沉积较化学沉积的速度快,但各影响因素和变化规律是一致的。pH值增大和温度的升高会加快沉积速率,络合剂浓度增大则会降低沉积速率,增加硫酸钴、硼氢化钠的浓度都会加快沉积速率,但用化学法沉积时,当硫酸钴、硼氢化钠的浓度超过最大值时,沉积速率反而下降。XRD结果表明,两种方法制备的Co-B纳米合金在镀态下都是非晶态,其结构并不受沉积方法的影响,SEM、STM和AFM观察发现,非晶膜镀层是由纳米相微粒构成微米级的二次颗粒,二次颗粒堆砌形成薄膜。化学沉积得到的颗粒相对电沉积得到的要小一些,两种方法得到的最大颗粒都不超过3 μm。     

稀土元素对钴-镍-硼合金化学沉积的影响

研究了稀土元素铈、镧、钇对化学镀钴-镍-硼合金沉积速度的影响。稀土元素的加入增大了合金层的沉积速度，其中，钇的作用最为明显，对其作用机理的研究表明，稀土元素的加入能促进反应离子在金属基体表面的吸附，改变金属溶液界面的双电层结构，降低钴-镍-硼合金沉积的阴极极化，从而加快了合金的沉积速度。     

化学镀Ni-P合金工艺的研究

本文研究了以硫酸镍作为主盐、次磷酸钠为还原剂的酸性化学镀镍磷合金工艺，并通过实验详细分析了主盐和还原剂、络合剂、催化剂、温度、pH值、前处理、亚磷酸钠等因素对化学镀镍磷合金工艺的影响，找出了最适合的镀浴配比和组成以及最佳的操作务件。     

TL全光亮化学镀镍磷合金工艺研究

开发了全光亮化学镀镍磷合金工艺及TL-013、TL-014两种浓缩液配方。研究了光亮剂的选择，被镀件表面状态对镀层光亮度的影响，合理的施镀条件。同时，试验研究了装载量、pH值及施镀温度对镀液的沉积速度、稳定性及镀层光亮度的影响。结果表明：该工艺可获得孔隙率低、耐蚀性能好的全光亮镀层。     

化学镀Co-P非晶态合金的研究现状及发展趋势

本文介绍了化学镀Co-P非晶态合金的现状，并对发展趋势进行了预测。     

化学镀镍磷合金镀速的研究

研究了化学镀镍磷合金中镀液成分及操作条件对金镀层沉积速度的影响。     

化学镀可焊性锡基合金的研究进展

本文综述了近 1 0年来化学镀可焊性锡基合金的研究现状及动态。列举了 4种不同镀液体系的典型配方及工艺 ,并对化学镀锡合金的未来发展提出了建议     

全光亮化学镀镍磷合金新工艺

研制开发了一种新型的全光亮化学镀镍磷合金工艺,光亮剂对磷的沉积起到积极的促进作用,能够提高镀层中的磷含量。光亮剂的添加使镀液出光速度快、镀层光亮均匀,可以获得全光亮的镍磷合金镀层。扫描电镜和X 射线衍射分析结果表明,高磷合金镀层为非晶态结构。测试表明,镍-磷合金镀层的硬度介于290～490HV之间,且随光亮剂加入量的增加而降低。镀层磨损率在0 00396～0 00498mg/(cm2·h)之间。镀液中光亮剂含量为2mL/L时,所得镀层在10%的HCl介质中腐蚀率最低为0 0002mg/cm2·h。