DM-450A真空镀膜机

北京仪器厂生产的DM-450A型真空镀膜机,在1994年,被机械部评为优等品。该产品是在真空中蒸发金属或其它物质,使零件表面获得所需要的膜层的设备。该设备主要用来蒸镀光学镜片的反射膜、透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻     

技术转让信息

DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料     

技术转让信息

DLD系列多弧离子镀膜设备 该镀膜机包括DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料(包括高速钢、工具钢及硬质合金等)的刀具。刀具经镀膜后,使     

35mm座机冷反光镜的镀膜

用电子枪蒸镀TiO_2～SiO_2,用补偿挡板修正膜层厚度分布,在真空室直径为450mm的镀膜机中镀制了口径为300mm和350mm深椭球面型的35mm电影放映座机用的反光镜上的冷反光膜。膜层牢固、防潮、耐高温、化学性能稳定、光、色、温效果良好。     

膜厚均匀性函数的分析

为了解决膜层层数在一百多层以上的膜系在镀制过程中所必然存在的膜厚均匀性问题,定义了一个与镀膜机的结构参数、工艺参数以及基片几何参数均有关系的均匀性函数。以APS1104镀膜机为实验对象,针对多腔窄带滤光片膜系,根据此函数分析了镀膜机镀制较多层数薄膜时,其膜层厚度沿基片径向的变化规律,确定了影响膜厚均匀性的多种因素,解释了镀制多腔窄带滤光片薄膜成品率低的原因。实验结果证实了分析的正确性。     

真空溅射镀膜机中工作气体对镀件色差的影响

真空溅射镀膜机镀件的色差是衡量一件镀件质量好坏的重要的指标,也是评估一台设备质量的重要技术指标.影响镀件色差有多种因素,工作气体是其中一个重要因素.从真空溅射机的工作原理、工作气体对膜层的影响及试验研究入手,从气体压力和气体分布均匀性两个方面探讨了真空溅射机镀膜过程中工作气体对镀件色差的影响.为镀件色差分析、真空溅射镀膜机工作气体进气管的设计和镀件质量的提高提供了新的思路和参考.     

数字电影系统高性能冷反光镜

为了实现数字影视系统中反光镜较高的光谱要求和良好的膜层特性,深入分析了深椭球反光镜的膜层厚度分布关系,讨论并实践了膜系设计及镀制工艺。使用自行研发设计的高性能冷反光镜专用镀膜机,镀制了光谱特性趋于一致的数字电影反光镜产品,并成功应用于数字电影放映系统。     

ZZI-800型真空晶体镀膜机

北京仪器厂开发的 ZZI- 80 0型真空晶体镀膜机不久前成功面市。该设备用于在真空条件下 ,采用电阻式蒸发源的形式 ,对石英晶片蒸镀一层导电膜 ,通常为铬和银 ,使其形成电极 ,以便被作成各种频率的石英晶体振荡器 ,可适用于表晶晶振器和高频振器的厂家。其特点为 :(1 )整个镀膜过程是在真空、恒温、自动控制中进行的 ,保证了膜层的均匀性、一致性及膜层的牢固度。 (2 )在连续高温烘烤的环境中 ,1 8个工位的夹具连续 60°～ 1 2 0°翻转 ,夹具定位准确 ,无噪音、无卡滞现象 ,确保一次蒸镀的 60 4 8个晶片上每个被镀表面蒸镀上均匀、牢固的膜…     

光通信用光学薄膜与镀膜设备

阐述了镀制如 1 0 0 GHz、5 0 GHz DWDM滤光片及 GFF滤光片等滤光片的镀膜机必须具备的条件。介绍了本公司研制生产的 NBPF- 2型离子辅助蒸镀镀膜机。     

空心圆柱面镀膜用旋转支架

在平面型光学元件的表面真空蒸镀光学薄膜时,一般地是将待镀元件置于高真空室的载物盘上进行的。如果有特殊要求时(如蒸镀楔形膜),则将待镀元件倾斜地夹持在真空室内进行蒸镀。而对圆柱形光学零件或其他圆柱形物体表面蒸镀光学薄膜时,用上述方法就难以实现了。例如,欲在一个圆柱形物体外圆柱面蒸镀薄膜时,若采取使之与镀膜机工作台台面平行放置的方式,要进行三次蒸镀,尚不能保证膜层的均匀性,因为只有每次使它沿轴线翻转120°位置才能使整个外圆柱面都能蒸镀上光学薄膜。假如倾斜地将它夹持在真空室内时,则至少应蒸镀六次才能使膜层较均匀,因为要消除高、低差造成的不均匀结果,必须将圆柱体二端交换位置蒸镀。这样显然是复杂的,而且不     

氮化钛镀膜刀具

沈阳真空技术研究所技协积极发挥工程技术人员的专长,研制出了DKYLZ-100型离子镀膜机,用这台设备镀出氮化钛膜层的刀具如插齿刀、滚齿刀、拉刀、钻头、丝锥等比不经镀层的刀具,提高刀具寿命3～18.9倍。经测定未镀膜高速钢刀具其显微硬度为HV800,镀氮化钛后的显微硬度达HV1800。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜、研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜,研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

望远镜反红膜

<正>把长波截止波光膜的设计波长控制在希望值.便可镀制小入射角时对全色光反射鲜艳的宝石红色及透射柔和的淡绿色,这就是红色装饰膜.近年来,这种红色装饰膜已被一些单位引入民用望远镜,但由于反红膜的制造工艺及对设备的要求苛刻,“引入”水平不高,目前大约只有40%左右.1994年我公司上马望远镜.由于带红膜的望远镜有很高的经济效益,1994年底从成都南光食品厂购进一台ZZS700—I/G型多层膜镀膜机,专用于镀制红膜.1 膜堆设计     

自聚焦透镜分光膜的研制

为了不断改善和开发自聚焦透镜的性能,实现光学仪器中自聚焦透镜分光的要求,以Ta2O5和SiO2为介质材料,运用TFCalc膜系设计软件,采用解析法设计了一个初始膜系,再结合变尺度优化法对初始膜系进行优化设计,设计出具有较好光谱性能的1 470～1 610nm波段95∶5自聚焦透镜分光膜。分析了设计膜系在自聚焦透镜端面沿径向折射率呈梯度减少时的拟合反射率曲线。通过大量实验选择合适的镀制工艺,并采用德国莱宝APS1104型镀膜机对所设计的膜系进行实际镀制,获得了性能优良的自聚焦透镜分光膜。     

金属膜吸附力的测量

根据实验得知室温下真空镀制金属膜(Ag、Cu、Al)的吸附力均有(2～3)×10~7牛顿/平方米。对于 Ag 膜,吸附力与膜厚及基片温度无关;对于 Al 膜,吸附力与膜厚无关,但与基片温度有关,吸附力有随温度上升而增加的倾向,在200℃的吸附力达到6.8×10~7牛顿/平方米;Cu 膜大致为 Ag 和Al 膜的中间值。下面介绍在蒸镀前用气体放电对基片进行离子轰击时,对 Ag 膜的吸附力所产生的离子效应,吸附力与离子轰击时间的关系以及时效变化。一、试片的制作及测量方法在镀膜机的真空室里装上放电电极,其     

氮化钛硬质薄膜的制备和性能分析

研究热阴极离子镀设备制备TiN薄膜膜层的主要性能。采用自主研发的XH-830型热阴极离子镀膜机,在硬质合金ZK1基体上制备TiN薄膜;利用X射线衍射仪,自动划痕仪,显微硬度计和扫描电镜对薄膜进行了结构分析和性能检测。采用XH-830镀膜机能制备单一的TiN薄膜,膜层晶体为细小的柱状晶,膜-基结合力能达到81N,TiN硬度达到2240HV以上,经切削试验证明,能提高被镀刀片寿命30％。     

LHD—800型多弧离子镀膜机复合热处理

LHD——800型多弧离子镀膜机是在真空环境中,采用蒸发源新技术,使钛等金属材料蒸发并电离,同时通入氮气,使它在等离子体环境中游离为正离子,然后靠电场力将这些离子加速并沉积在工件表面,化合为氧化钛硬质薄瑛。也可在较大型刀具,工模具表面离子氮化,离子茂膜(TIN)和离子渗镀—渗氮后再涂复一层氮化钛,对耐磨、耐腐蚀起到超硬膜的作用,以改善刀、模具性能,提高使用寿命。一、试验用设备试验用设备LHD—800型多弧离子镀膜机,性能如下。     

溅射法制备多层膜沉积速率的标定

为消除溅射沉积多层膜过程中产生的膜厚随机误差,实现多层膜膜厚的精确控制,提出了一种精确标定薄膜沉积速率的方法。该方法通过对多次实验结果进行最小二乘拟合得到薄膜沉积速率。对随机误差基本特性的分析表明,随着实验次数的增加,沉积速率将逐渐逼近真值。基于这一原理,可以对薄膜的沉积速率进行精确标定,同时提取出膜厚随机误差,进而确定镀膜机的膜厚控制精度,获得精确控制多层膜膜厚所需要的完整信息。选用两种精度不同的沉积设备,采用提出的方法对所制备的多层膜进行了测试。结果表明,多层膜的膜厚控制精度随沉积设备而异:其中低成本的普通镀膜机只能实现0.1 nm的膜厚控制精度;而另一台性能较高的镀膜机的膜厚控制精度优于0.01 nm。     

基于CAN总线的卷绕式镀膜机蒸镀控制系统

介绍了基于CAN总线的卷绕式镀膜机蒸镀系统的设计方法,阐述了系统设计的硬件及其芯片选用并介绍了软件设计方法。