Co／Ti非晶多层膜晶化过程中结构及磁性的变化

利用双对向靶溅射方法在室温下制备Ｃｏ／Ｔｉ非晶多层膜，并采用原位退火透射电镜和原位热重法，观测了Ｃｏ／Ｔｉ多层膜结构与磁性随温度的变化，结果表明：退火温度ｔａ为４００℃时，薄膜开始晶化，Ｃｏ，Ｔｉ颗粒析出并粗化；ｔａ＞６００℃时，具有铁磁性的Ｃｏ单质完全消失，全部转化为Ｃｏ２Ｔｉ相．热磁测量在３９０及５２０℃附近出现了两个明显的磁性转变峰，与薄膜结构变化对应．适当温度（４００—５２０℃）的退火可获得高饱和磁化强度的Ｃｏ－Ｔｉ颗粒膜．     

Co/Pt多层膜的结构和饱和磁化强度

采用离子束溅射技术制备Ｃｏ／Ｐｔ多层膜,用ＲＢＳ、小角ＸＲＤ和断面ＴＥＭ研究了多层膜的周期性调制结构,用ＶＳＭ研究了磁性层Ｃｏ和顺磁性层Ｐｔ的厚度变化对饱和磁化强度的影响。结果表明,多层膜具有良好的周期性层状结构,和设计值一致。样品的饱和磁化强度（Ｍｓ）随Ｃｏ层厚度增加而增大,随Ｐｔ层的厚度增大而减小。当Ｃｏ层和Ｐｔ层的厚度比一定时,样品的饱和磁化强度不受周期数的影响,符合Ｍｓ＝ＭｃｏｔＣｏ／Ｄ模     

离子束溅射制备Co／Pt多层膜的结构

采用高角Ｘ射线衍射（ＨＸＲＤ）和ＴＥＭ研究用离子束溅射（ＩＢＳＤ）技术制备的Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的晶体结构和显微组织形貌，结果表明：Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的晶体结构与Ｃｏ、Ｐｔ层厚度ｔＣｏ、ｔＰｔ密切相关。当ｔＣｏ＜ｔＰｔ＜２１０时，Ｃｏ、Ｐｔ层为共格ｆｃｃ结构，随ｔＣｏ、ｔＰｔ增加，逐渐向非共格关系转变，同时，Ｐｔ、Ｃｏ层晶格发生了严重畸变。ＴＥＭ发现Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的组织形貌明显受基底影响，与沉积在Ｓｉ基底表面上的Ｃｏ／Ｐｔ多层膜相比，沉积在ＮａＣｌ上的Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的晶粒出现择优取向且呈条纹状分布，晶粒明显粗化     

Co/Pt多层膜的调制结构对磁光性能的影响

研究了Ｃｏ／Ｐｔ多层膜中,Ｃｏ层厚度,Ｃｏ、Ｐｔ含量比,溅射温度对多层膜磁光性能的影响。研究发现Ｃｏ层厚度及Ｃｏ、Ｐｔ含量比对Ｃｏ／ｐｔ多层膜的磁光性能起决定性影响。当ｔＣｏ〈０．４ｎｍ,ｔＣｏ／ｔＰｔ＝１／２时。可获得较好的综合磁光性能;适当提高溅射时基体的温度,可改善多层膜的结晶性并获得较好的调制周期结构,最终改善其磁光性能。     

离子束溅射制备Co／Pt多层膜的磁性研究

室温下采用ＶＳＭ测定了离子束溅射（ＩＢＳＤ）技术制备的Ｃｏ／Ｐｔ多层膜垂直方向的Ｍ－Ｈ回线。研究结果表明：Ｃｏ／Ｐｔ多层膜中单位体积Ｃｏ的饱和磁化强度ＭｓＣｏ小于块状Ｃｏ的饱和磁化强度;Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的饱和磁化强度（Ｍｓ）与厚度有关：随Ｃｏ层厚度ｔＰｔ和多层膜总厚度ｔｆ的增加而增大,随Ｐｔ层厚度ｔｐｔ的增加而减小;外推结果表明当ｔＣｏ小于一个原子层厚（≈０２５ｎｍ）时,室温下Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的饱和磁化强度为零,呈顺磁性     

Co／Pt多层膜D射线小角衍射分析

对Ｃｏ／Ｐｔ多层膜进行Ｘ射线小角衍射分析，测量出多层膜的周期厚度和解释多层膜小角衍射主峰之间出现次峰的现象，并确立次峰个数与膜周期数之间的关系。     

Co/Cu/Co纳米多层膜的铁磁耦合效应

采用洛仑兹电子显微镜研究了磁控溅射沉积制备的Cu(20 nm)/Co/Cu/Co纳米多层膜磁畴结构随铁磁层间耦合效应的变化. Cu中间层厚度较薄时, 由于铁磁层之间的耦合作用, 纳米多层膜为垂直易磁化, 磁畴为磁泡结构, 磁泡的平均直径随Cu中间层厚度的增加而减小, 多层膜矫顽力呈减小趋势. 当Cu中间层厚度大于3 nm时, 铁磁层之间的耦合作用减弱, 纳米多层膜为面内易磁化, 磁泡结构的磁畴消失, 全部为具有波纹状的接近180°畴壁的磁畴结构.     

Pt／Co／Pt／Ni多层膜的结构与磁性

为了改变Pt/Co多层膜的磁光特性与磁性,插入与第三元素层是有效途径之一。我们研究表明,插入Ni可导致居里温度Tc的下降。所插的层最佳厚度为0．3－1．0nm,X射线衍射实验表明,插入Ni层后的样品具有良好的成层结构。Pt（111）峰与Co(111）峰的位置分别比纯Pt/Co相应的峰略向左移和向右移,这证明面间距分别是增大和缩小。磁性测定,由于Ni层的插入磁光克尔角θk略有增高,剩磁比与矫顽力的性能更好。     

[Co／Ti],[Co／Cu（Ni）]多层膜的结构与磁性

用双对向靶溅射方法制备了具有非晶磁性的「Ｃｏ／Ｔｉ」３０，「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）３０」两组多层膜，分别用Ｘ射线衍射，透射电镜和振动样品磁强计做了结构和磁性测量，在以非晶Ｃｏ和Ｃｉｕ－Ｎｉ合金构成的「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）」多层膜中，发现饱和磁化强度Ｍｓ随非磁性层厚度ｄｓ的增国发生振荡变化；在以非晶Ｃｏ和Ｔｉ构成的「Ｃｏ／Ｔｉ」多层膜中，ＭＳ和则随ｄｓ的增加而减小。     

Co/Pt多层膜X射线小角衍射分析

对Ｃｏ／Ｐｔ多层膜进行Ｘ射线小角衍射分析,测量出多层膜的周期厚度,解释多层膜小角衍射主峰之间出现次峰的现象,并确立了次峰个数与膜周期数之间的关系。     

FERROMAGNETIC RESONANCE STUDIES OF Co/CoFe_2O_4 MULTILAYERS

1.IntroductionMultilayershaveattractedconsiderableattentionfromfundamentalandtechnologicalinterests.Manynewphenomenainmetal-metalmultilayers,suchasthereductionorenhancementofmagnetizationatinterfaces[1],themagneticanisotropyl'1,theoscillatoryinterlay...     

退火[Co＼Cu]多层膜的固相反应与磁性

用双对向靶溅射方法制备了两种成分的「Ｃｏ（１．２ｎｍ）／Ｃｕ（ｔＣｕ）」（ｔＣｕ＝１．０ｎｍ，３．４ｎｍ）纳米多层膜。分别用ＴＥＭ和ＴＧ方法研究了「Ｃｏ／Ｃｕ」多层膜结构和磁怀随温度的变化。结果表明：ｔＣｕ＝１．０ｎｍ的多层样品出现了两个磁性转变点，这是因为样品中存在的两种磁性物质。ＴＥＭ分析结果证明这两种铁磁相为ｈｃｐＣｏ－Ｃｕ固溶体。     

C/C复合材料表面CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层的组织

在H2+Ar等离子刻蚀后的C/C复合材料表面进行等离子渗Co和CoNiCrAlTaHfY共渗复合处理,形成CoNiCrAlTaHfY/Co多元复合涂层,通过与刻蚀前后制备的CoNiCrAlTaHfY涂层对比分析,研究了刻蚀与Co过渡层对CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层组织、成分及结合强度的影响。结果表明,刻蚀前、后形成的CoNiCrAlTaHfY涂层厚度分别为10μm和14μm。刻蚀处理后,原棒状炭纤维与紧密包裹其的碳基体分别被刻蚀成针状和薄壁管,在炭纤维与基体碳之间形成孔隙,比表面积也相应增大,促进元素形核和扩散,使涂层与基体结合强度增加。在刻蚀表面与CoNiCrAlTaHfY多元涂层间增加Co过渡层,形成的CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层厚约30μm,复合涂层成分连续,组织均匀致密,由CrCoTa,Al2Ta,Cr2Ta,Alx Cry,Al Co2Ta,Co,AlxNiy组成,Co过渡层与CoCrAlTaHfYNi表层分别以三维岛状和柱状生长。CoNiCrAlTaHfY表层/Co过渡层/基体间的互扩散导致涂层与基体间的结合力明显提高。     

Au/NiCr/Ta多层金属膜的表面粗糙度和纳米压入硬度的研究

采用磁控溅射方法在Si-(111)基片上沉积Au/NiCr/Ta多层金属膜。利用XRD分析晶体取向。SEM观察表面和断面形貌。AFM研究表面粗糙度。纳米压入研究薄膜硬度。结果表明薄膜表面粗糙度依赖于基体沉积温度。并且影响薄膜电阻和纳米硬度。     

Tb／Co成分调制膜的磁,磁光性能和热稳定性

用直流磁控溅射制备了Ｔｂ／Ｃｏ成分调制膜，膜调制结构的形成与靶的溅射速率和衬底转速密切有关。对不同周期的Ｔｂ／Ｃｏ膜的极向Ｋｅｒｒ膜滞间回线进行了测量，结果表明：当Ｔｂ／Ｃｏ膜的周期较小时，薄膜具有垂直方向的磁各向异性，较大的矫顽力和较大的磁光效应；当Ｔｂ／Ｃｏ膜的周期较大时，上述性能变差。     

电子束加热时Fe－Dy多层膜的稳定性

用真空双源蒸镀法在ＮａＣ１单晶衬底上制备了金属Ｆｅ－Ｄｙ（镝）多层膜，用透射电镜（ＴＥＭ）分析结构。结果表明，当Ｆｅ单层厚度≥２．４ｎｍ时，Ｆｅ为ｂｃｃ结构，无明显择尤取向特征；Ｄｙ单层厚度＜２．４ｎｍ时，Ｄｙ为非晶态。在透射电镜样品台上经１００ｋｖ加速的高强度电子束流加热多层膜，非晶Ｄｙ首先晶化变为ｈｃｐ结构，随加热时间的延长，晶粒长大。１５０ｓ时Ｆｅ晶粒尺寸约３００ｎｒｎ，此时出现了铁镝氧化物。     

WC-Ni/Co、WC-Fe/Ni/Co新型凿岩合金的工业考核

提供了N309、T410、SG85、DG75筹Ni－Fe－Co合金粘结相新型凿岩硬质合金在坚硬花岗岩中的凿岩实验数据，可供凿岩硬质合金科研、生产、使用以及采掘工业部门参考．