共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
本文介绍了一种耐压为500伏,具有8路高压输出的MOS高压集成电路HVICSEU,具体介绍了高压NMOSFET的设计和工艺实施,它特别适用于高压等离子显示的驱动,并且可以多位并联使用。 相似文献
3.
4.
引言 如图1所示,将功率MOSFET或者IGBT用于全增强型的高压侧开关,其栅的驱动要求,即各端子的最低电压可归纳如下: 1、栅压应比漏电压高出10~15V。高压侧开关管的栅电位通常比系统中的最高电位──固定电平要高。 2、栅电位一般是对地而言的,必须逻辑可控。因此,控制信号应抬高到高压侧功率器件的源电位,在大多数应用中,此源电位在两固定电平间摆动。 3、栅驱动电路所消耗的功率对整体效率不能有明显的影响。 由于以上的限制,目前已采用好几种工艺可用来完成功能,原理见表Ⅰ,每一种基本电路均可用多种结构来实现。 国际整流器公司的IR2110栅驱动器集成了驱动高压侧与低压侧功率MOSFET或IGBT所需的大部分功能,兼有小体积与高性能的封装。附加少许元件。IR2110便能提供很高的开关速度(见表Ⅱ)以及低耗 相似文献
5.
一、MOS集成电路的发展过程及其特点 半导体场效应器件的发展历史远比双极晶体管为早(双极晶体管于四十年代末出现),大约在二十年代后期,人们就发现了“场效应”,并在三十年代初期出现了应用场效应原理工作的原始的场效应器件。 相似文献
6.
7.
8.
本文阐述了MOS高压和功率集成电路的现状。在前言部分叙述了这些集成结构的发展,回顾了与分立器件相比的一些主要优点,提出了一些关于集成方法的问题。对于用MOS技术制作并用作集成电路功率开关的各种器件结构进行了评述。考虑了最近开发的两大电路系列:(1)智能功率技术,它包括与控制电路和保护电路集成在一起的单个或多个纵向(共漏)功率开关;(2)高压集成电路,其功率器件是横向的,电流能力较低,其控制电路(CMOS或双极)具有较高的集成密度。提出了设计智能功率开关的一些主要功能问题。对于主要的晶体管单元结构,特别是限热电路和稳偏网络,作了详细介绍。可以看出,在电气波动和与工艺有关的参数变化方面及非稳定因素方面,所涉及的模拟电路都可做到非常稳定。 相似文献
9.
10.
《电子科技文摘》2000,(12)
Y2000-62169-4 0020099采用 CMP 技术的先进的低成本加工制造方式=Ad-vanced low cost manufacluring from CMP service[会,英]/Torki,K.& Courtois,B.//Proceedings of the1999 International Conference on Microelectronic Sys-tems Education(MSE’99).-4~5(YP)Y2000-62169-47 0020100一种基于 PC 机的 CMOS 集成电路设计教学工具:APC-based educalional tool for CMOS integrated ciruit de- 相似文献
11.
12.
13.
《电子科技文摘》2000,(6)
Y2000-62089-1-105 0009307CMOS/BiCMOS 逻辑系列的联机 I_(DDQ)故障测试=On-line I_(DDQ) fault testing CMOS/BiCMOS logic families[会,英]/Raahemifar,K.& Ahmadi,M.//1999 IEEE In-temational Symposium on Circuits and Systems,Vol.1 of6.—1-105~1-109(PC)介绍了以模拟为基础的 CMOS/Bi CMOS 逻辑系列的故障特征化研究结果。证明了当开式缺陷引起延 相似文献
14.
《电子科技文摘》2001,(3)
Y2000-62422-86 0103719全耗尽绝缘体上硅技术比例生成0.13μm 1.2~1VCMOS 电路=Scability of fully-depleted SOI technologyinto 0.13μm 1.2V~1V CMOS generation[会,英]/Raynaud,C.& Faynot,O.//1999 IEEE InternationalSOI Conference Proceedings.—86~87(EC)Y2000-62422-88 0103720用于超薄(35nm)绝缘体上硅0.18μm CMOS 电路的硅化物=Advanced silicide for sub-0.18μm CMOS on Ul-tra-thin(35nm)SOI[会,英]/Ren,L.P.& Cheng,Bth.//1999 IEEE International SOI Conference Proceed-ings.—88~89(EC) 相似文献
15.
16.
《电子科技文摘》2001,(2)
0102051片上系统集成(SoC)时代的到来[刊]/张宝元//微电子技术.—2000.28(5).—13~17(E)本文从信息市场需求和技术发展的角度分析了片上系统集成(SOC)是集成电路发展的必然趋势,它是设计技术的一场革命.将成为信息领域 IC 的主流。本文还简要地叙述了 SOC 所涉及到的如 IP、设计方法学、软、硬件协调设计、验证等主要技术。参2Y2000-62185-147 01020520.8μm CMOS 工艺的器件设计,制造及特性=Devicedesign.fabrication and characterization of 0.8gm CMOStechnology[会,英]//1998 IEEE International Confer-ence on Semiconductor Electronics.—147~151(E)Y2000-62185-162 0102053用于 CMOS 集成电路逻辑和 IDDQ 测试集成化的电流传感器及测试处理器设计=Current sensor and testprocessor design for integration of logic and IDDQ testingof CMOS ICs[会,英]/Ahaf-U1-Amin.M.& Darus,Z.M.//1998 IEEE International Conference on Semicon- 相似文献
17.
18.
19.
《电子科技文摘》2000,(2)
Y99-61803-37 2002019达到最小功耗的非完全特定图形时序的分配与重排=Assignment and reordering of incompletely specified pat-tern seqoenees targetting minimum power dissipation[会,英]/Flores,P.& Costa,J.//Proceedings of the 12thImernational Conference of VLSI Design.—37~41(EZ)在大量的安全临界应用电子系统中,电路测试是周期性进行的。机内自测产生的功率损耗占整个功率损耗的相当大百分比。减少功耗的一种方法是测试图形时序的重排。本文介绍了一种最优化模型和图形时序重排的有效算法。实验充分表明此方法在节省能量上是有效的。参14200202035V 高压 CMOS 集成电路的设计[刊]/王勇//微电子 相似文献
20.
《电子科技文摘》1999,(10)
Y98-61460-146 9915116多层敷铜同高性能0.25μm 以下 CMOS 技术的综合=Integration of multi—level copper metallization into a highperformance sub-0.25μm CMOS technoloay[会,英]/Venkatesan,S.& Venkatraman,R.//1998 IEEE 2ndInternational Caracas Gonferenee on Devices,Circuits andSystems.—146~152(YG)9915117CMOS 数字摄象 IC 及其在视频图象采集中的应用 相似文献