共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
荧光粉的技术进步在TFEL器件的发展中起着举足轻重的作用。本文分门别类地对各种TFEL用荧光粉作了介绍,并从它们的工艺、性能及结构等方面论述了TFEL用荧光粉的技术发展动态。 相似文献
2.
3.
有机薄膜电致发光的回顾和展望 总被引:4,自引:0,他引:4
综述了有机薄膜电致发光(OTFEL)的发展过程,总结了OTFEL的四种器件结构和工作原理,介绍了器件的制备并了选择有机发光材料的基本原则,文末展望了OTFEL的应用前景。 相似文献
4.
5.
高压RESURF LDMOSFET的实现 总被引:6,自引:0,他引:6
利用RESURF技术,使用常规低压集成电路工艺,实现了适用于HVIC、耐压达1000V的LDMOSFET。本文介绍了该高压LEMOSFET的设计方法、器件结构、制造工艺测试结果,此外,本文还从实验和分析的角度探讨了覆盖在漂移区上面的金属栅-金属栅场板长度LF对RESURF器件耐压的影响。 相似文献
6.
在建立的理论模型基础之上,定量地分析了EL2能级对GaAs MESFET夹断电压的影响,指出位于本征费米能级以下的EL2能级是影响GaAs MESFET夹断电压大小的主要因素,EL2能级对GaAs MESFET夹断电压的影响程度与EL2能给的缺陷密度呈线性关系。 相似文献
7.
NEAX61-E的集中交换功能天津日电电子通信技术有限公司李素鹏NEAX61-E←ICTOGT→MDF普通用户CENTREX用户LC用户环路,用户线和电话机都一一对应。在用户侧不需用户交换机等其它设备。↑←↑MDF:主配线架OGT:出中继LC:用户线... 相似文献
8.
9.
10.
11.
对溶亚微米器件,由于工作电压下降,要求重新确定LDD和常规MOSFET在VLSI中的作用。本文从基本器件数理方程发出,对深亚微米常规及LDD MOSFET的器件特性、热载流子效应及短沟道效应进行了二维稳态数值模拟,指出了常规和LDD MOSFET各自的局限性,明确了在深亚微米VLSI中,LDD仍然起主要作用。 相似文献
12.
EEPROM单元结构的变革及发展方向 总被引:3,自引:2,他引:3
扼要阐述了电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)发展史上的各种结构如FAMOS、MNOS、SIMOS、DIFMOS、FETMOS(FLOTOX)等,比较了它们的优缺点,着重论述了EEPROM结构今后的变革方向。 相似文献
13.
张广山 《信息技术与信息化》2000,(1)
本文简要说明什么是TFT- LCD, TFT- LCD产品的技术特点及其在工业、国防、教育、医疗、交通运输、家电、视像和信息产业中的广泛应用,指出了TFT-LCD技术发展的美好前景。 相似文献
14.
TFT—LCD:国际上新的经济增长点 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了国际上TFT-LCD产业的最新发展,TFT-LCD技术的进步,长期困扰液晶的三大难题:视角,色饱和度和亮度,已经获得解决。液晶产业进入了全面高速发展时期,文章并分析了国际上TFT-LCD市场的发展趋势。 相似文献
15.
本文对如何提高国产1.55μmInGraAspDFB-LD组件直接高速调制速率以及国产PIN-FET组件的频响带宽进行了理论与实验研究。在实验测量的基础上建立了国产LD组件小信号等效电路模型,对其调制响应速率的主要限制因素进行了分析,研制了高速DFB-LD组件,将其调制速率提高到3.2GHz。同时,在对谐振式PIN-FET光接收机进行噪声分析的基础上,采用微波混合集成工艺研制了一个串联谐振式PIN-FET光接收组件,有效地提高了PIN-FET的频响带宽。 相似文献
16.
《液晶与显示》2002,(3)
韩国便携式终端显示器由单色STN LCD显示器向反射式彩色STN LCD ,TFT LCD ,OLED等方向发展。从今年开始韩国便携式终端显示器中已不再配备单色STN LCD显示器 ,而配备反射式彩色STN LCD ,TFT LCD ,OLED等显示器。韩国 2 0 0 0年生产的移动电话中 0 .4 %用TFT LCD显示器 ,PDA中 1 5%用TFT LCD ;2 0 0 1年移动电话中 7%用TFT LCD ,PDA中 3 5%用TFT LCD。可见便携式终端显示器产品的更新换代是非常快的。在今后的便携式终端显示器市场中 ,反射式彩色STN -LCD … 相似文献
17.
18.
已经证明,用过渡族金属激活的氧化物荧光体作为场致发光器件的发光层以获得三角色,是有前途的。例如,发红光用Cr,发绿光用Mn与发蓝光用Ti。也已证明了ZnAl2O4:Mn或Zn2SiO4:Mn TFEL器件发出的绿光,Zn-Ca2O4:CrTFEL器件发出的红光与Zn2SiO4:Ti发出的蓝光均具有高亮度,适于用作全彩色TFEL显示器的三基色。 相似文献
19.
在SOI/CMOS电路制作中引入了自对准钴硅化物(SALICIDE)技术,研究了SALICIDE工艺对SOI/MOSFET单管特性和SOI/CMOS电路速度性能的影响。实验表明,SALICIDE技术能有效地减小MOSFET栅、源、漏电极的寄生接触电阻和薄层电阻,改善单管的输出特性,降低SOI/CMOS环振电路门延迟时间,提高SOI/CMOS电路的速度特性。 相似文献
20.
近年来,为了提高低压变换器的效率,通常采用同步整流技术。为此,需要两种驱动信号,ML4863既可驱动单端反激式变换器初级功率开关(MOSFET),也可驱动作同步整流的MOSFET。因此大大简化了电路结构,提高了效率,本文介绍了ML4863的内部结构和实际应用电路。 相似文献